【課題】ナノインプリントに適合した特性、すなわち、熱インプリント時の高圧でのインプリント条件が緩和でき、型（モールド）へのダメージを軽減でき、更に、高温でのインプリント条件を緩和できる性能を有し、かつ、型に対する転写性が良好なナノインプリントリソグラフィ用ネガ型レジスト組成物を提供する。
【解決手段】軟化点が３０〜７０℃である多官能エポキシ樹脂（Ａ）、光カチオン重合開始剤（Ｂ）及び溶剤（Ｃ）を含有することを特徴とするナノインプリントリソグラフィ用ネガ型レジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】モールドへの付着性が良好な組成物を提供する。
【解決手段】
（ａ）Ｑ−ｅスキームにおける極性因子（ｅ値）が正である重合性化合物を１０質量％以上および前記ｅ値が負である重合性化合物を１０質量％以上含む重合性化合物を合計８８〜９９質量％と、
（ｂ）光重合開始剤０．１〜１０質量％と、
（ｃ）界面活性剤の少なくとも１種０．０００５〜５．０質量％と、
を含む光ナノインプリントリソグラフィ用光硬化性組成物。 （もっと読む）

【課題】不可逆的な接着や欠陥が発生することなく、基板から容易かつ反復的に離型され得る有機モールドの製造に使用できる、サブミクロンのパターンを形成するのに十分高いモジュラス、および優れた化学安定性および寸法安定性を有する新規なモールド材料、および該材料を用いた有機モールドの製作方法、並びにそれによって製作されたモールドを提供する。
【解決手段】微細パターンの形成に用いられるモールド用樹脂組成物は、（Ａ）反応性基を有する活性エネルギー硬化型ウレタン系オリゴマー４０〜９０重量部、（Ｂ）前記ウレタン系オリゴマーと反応性を有する単量体１０〜６０重量部、（Ｃ）前記成分（Ａ）と（Ｂ）の合計１００部に対してシリコーンまたはフッ素含有化合物０．０１〜２００重量部、および（Ｄ）前記成分（Ａ）、（Ｂ）および（Ｃ）の合計１００部に対して光開始剤０．１〜１０重量部を含む。
（もっと読む）

固相有機合成（ＳＰＯＳ）用インプリントポリマー支持体を開示する。ポリマー支持体は、基板及びモールドを用意する工程を有する方法から得ることができ、モールドは、画成された表面パターンを有する。モールドの画成された表面パターンと基板との間に組成物が配置される。組成物は、少なくとも１つの機能性モノマーを有する重合性媒体及び遊離基開始剤を含む。組成物を重合して、基板に固着されたポリマーインプリントの配列を形成する。 （もっと読む）

本発明は、電磁放射線によりポリマーレリーフ構造体を作製する方法に関する。本方法では、被覆基材の界面張力を低下させる化合物が使用される。その結果、アスペクト比さらには表面の曲率が向上するので、光学素子および複製目的に有益である。 （もっと読む）