【課題】本発明の目的は、プラスチックモールドおよび可視光硬化性樹脂組成物を用いる、パターン形成方法およびパターン形成装置を提供することにある。
【解決手段】所定パターンを有するプラスチックモールドを、可視光硬化性樹脂組成物に押し付けて該所定パターンを成形し、光を照射して該樹脂組成物を硬化させることを特徴とするパターン形成方法等を提供する。 （もっと読む）

【課題】アルゴンガスと酸素ガスでのドライエッチング速度の選択性が高く、高いスループットで微細パターンを形成することができるナノインプリント法に好適な転写材料用硬化性組成物を提供する。
【解決手段】分子内に芳香環を有するイソシアネート化合物と、分子内に水酸基および（メタ）アクリロイル基を有する化合物とを反応させて得られるウレタンアクリレート化合物を含有することを特徴とする転写材料用硬化性組成物である。 （もっと読む）

【課題】パターン精度および基板密着性に優れ、かつ、耐熱性に優れたナノインプリント用組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）重合性単量体および（Ｂ）光重合開始剤を含む硬化性組成物であって、該硬化性組成物を平均厚さが０．５μｍ以上３０μｍ未満の範囲のいずれかとなる硬化膜としたとき、波長３６５ｎｍの光線の透過率が８０％以下となる、光ナノインプリント用硬化性組成物を提供する。 （もっと読む）

【課題】モールドの凹凸追随性が良好で熱処理時の膜厚減少が小さい、良好な形状のレジストパターンが得られる感光性組成物を提供する。
【解決手段】少なくとも、１分子中に、以下の重合性モノマー（Ａ）を０．０１〜９９．９９質量％、１官能以上の重合性モノマー（Ｂ）（重合性モノマー（Ａ）に相当するものを除く）を０〜９８質量％、光重合開始剤を０．１〜１５質量％含有する感光性組成物であって、
前記重合性モノマー（Ａ）は、１分子中に、１種類以上のエチレン性不飽和二重結合を有する官能基Ｘと、１種類以上の官能基Ｙを有し、下記露光条件で露光した時の反応率が、官能基Ｘは５０％以上、官能基Ｙは５０％未満であり、かつ下記露光条件で露光した後、さらに、２００℃で３０分間熱処理した後の官能基Ｘおよび官能基Ｙの反応率が共に８０％以上である、感光性組成物。
露光条件：重合性官能基として、１種類の官能基のみを有する重合性モノマー１００質量部に対して、光重合開始剤として２、２−ジメトキシ−１、２ジフェニルエタン−１−オンを５質量部添加した組成物を基板上に乾燥膜厚が６μｍになるように塗布した塗膜を高圧水銀灯で１００ｍＪ／ｃｍ^２の条件で露光する。 （もっと読む）

【課題】微小凹凸部分と絵柄層との見当を合わせることが容易で、かつ表面樹脂層の離型性の問題が生じず、また、ナノインプリント工程のスループットを向上できる加飾成形シートの製造方法を提供する。
【解決手段】表面樹脂層２が形成された加飾成形シート１１０を作製した後、表面樹脂層２にナノインプリント金型２０を押圧して微小凹凸を形成し、ナノインプリント金型１１０を前記表面樹脂層２から引き離した後、前記微小凹凸が形成された表面樹脂層２に電離放射線２５を照射する。 （もっと読む）

【課題】微小凹凸部分と絵柄層との見当を合わせることが容易で、かつ表面樹脂層の離型性の問題が生じず、また、ナノインプリント工程のスループットを向上できる加飾成形品の製造方法を提供する。
【解決手段】表面樹脂層２が形成された加飾成形品１１０を作製した後、表面樹脂層２にナノインプリント金型２０を押圧して微小凹凸を形成し、ナノインプリント金型２０を前記表面樹脂層２から引き離した後、前記微小凹凸が形成された表面樹脂層２に電離放射線２５を照射する。 （もっと読む）

【課題】良好なインプリント性と光硬化性を有し、機械的特性や各種耐久性、中でも光硬化性、耐熱性および弾性回復率に優れたインプリント用硬化性組成物、これを用いた硬化物およびその製造方法、並びに、液晶表示装置用部材を提供する。
【解決手段】光重合性単量体と、光重合開始剤と、酸化防止剤と、含有する光インプリント用組成物であって前記光重合性単量体の含有量が８０〜９９質量％であり、前記酸化防止剤の含有量が０．３〜７．質量％であり、前記酸化防止剤が、ヒンダードフェノール系酸化防止剤のみ、セミヒンダードフェノール系酸化防止剤のみ、ヒンダードフェノール系酸化防止剤とセミヒンダードフェノール系酸化防止剤の混合物、またはヒンダードアミン系酸化防止剤のみ、のいずれかであることを特徴とするインプリント用硬化性組成物。 （もっと読む）

【課題】ドライエッチング速度の選択性が高く、かつレジスト等に用いる微細パターンを熱またはＵＶナノインプリント法によって形成することのできる転写材料用硬化性組成物およびその形成方法を提供する。
【解決手段】アクリロイル基を有するポリシロキサンからなり、分子の末端が−Ｏ−Ｓｉ（ＯＲ）_３（ここでＲは炭素数１〜４のアルキル基である）または−Ｏ−Ｓｉ（ＯＸ）_３（ここでＸはアクリロイル基を含有する基である）であって、すべてのＲに対するＸの存在割合が０．１以上である硬化性ケイ素化合物を含有する、微細パターンを形成するための転写材料用硬化性組成物およびこれを用いた微細パターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】電鋳可能な樹脂版を得る第一のパターン形成材料と第二のパターン形成材料を提供し、前記パターン形成材料を用いパターン形成体を提供する。
【解決手段】第一の金属原版の凹状パターン又は凸状パターンを転写するパターン形成材料から成るパターン形成体又はパターン形成体から第二の金属原版を形成する複製方法において、パターン形成体は、第一層と第二層の二層から成り、第一層は、エポキシ化合物と光カチオン重合開始剤から成る組成物の第一のパターン形成材料から成り、第二層は、エポキシ樹脂とエポキシ樹脂硬化剤から成る組成物の第二のパターン形成材料から成ることを特徴とするパターン形成体に関するものである。 （もっと読む）

【課題】親モールドの破損が抑えられ、微細パターンの転写精度が高く、転写の際の圧力を低くでき、かつ硬化性樹脂の使用量が抑えられる、微細パターンを有する物品の製造装置および製造方法を提供する。
【解決手段】親モールド１００の表面に形成された微細パターンを一旦、転写基材１０４に転写して反転パターンを有するレプリカモールドを製造し、ついでレプリカモールドの表面に形成された反転パターンを物品本体１０２の表面に転写して微細パターンを有する物品を製造するに際し、親モールド１００の微細パターンが形成された表面に、第１の供給手段１７から第１の硬化性樹脂を供給し、該第１の硬化性樹脂を、親モールド１００の微細パターンの転写基材１０４への転写に用いる。 （もっと読む）

【課題】パターン精度、硬さ等に優れたスペーサーおよびリブ体を同時に形成可能な画像形成方法を提供する。
【解決手段】乾燥後の実質的に溶剤を含まない状態において、（Ａ）反応性の異なる２種類以上の硬化性官能基を同一分子内に有し、かつ、該硬化性官能基の少なくとも１つがα，β−不飽和エステル基である単量体と、（Ｂ）界面活性剤とを含み、かつ、粘度が３〜５０ｍＰａ・ｓの範囲である組成物を用いることを特徴とし、さらに、下記（１）〜（６）の工程を含む画像形成方法。
（１）基板上に前記組成物からなる感光性樹脂層を設ける工程
（２）必要に応じ、感光性樹脂層に、５０〜１５０℃の熱処理を実施し溶剤を除去する工程
（３）少なくとも２種類の形状の異なる凹凸表面を有する型の凹凸表面と、前記感光性樹脂層とを接するように圧着させる工程
（４）感光性樹脂層を光照射する工程
（５）前記凹凸表面を有する型を感光性樹脂層から剥離する工程
（６）必要に応じ、凹凸表面を有する型から剥離した感光性樹脂層を、１６０〜２５０℃で熱処理する工程 （もっと読む）

【課題】光ナノインプリント法によって、微細パターン形成性および膜硬度を両立したパターンを形成することが可能なパターン形成方法を提供する。
【解決手段】光硬化性組成物を基材上に付与する付与工程と、前記基材上に付与された前記光硬化性組成物にモールドを圧着させる圧着工程と、前記光硬化性組成物を光硬化させ、前記モールドの反転パターン２を形成する光硬化工程と、を含み、前記光硬化性組成物は、溶剤を除く全成分に対する分子量１０００以上の成分の含有量が３０質量％以下であり、且つ、前記圧着工程における前記光硬化性組成物の温度（Ｘ）が３０℃以上であることを特徴とするパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】光インプリントリソグラフィにより、基板と光硬化層とからなり耐光性を有し着色が少ない複合体を少ない工程で製造する方法を提供する。
【解決手段】凹凸のパターンが形成されたモールド及び可視光に対して実質的に透明で３７０ｎｍ未満の波長領域の全領域における各波長の光の透過率が１０％以下である基板を用いて光インプリントリソグラフィにより基板と光硬化層とからなる複合体を製造する方法であって、前記基板又は前記モールド上に、少なくとも１つの光重合性基を有する化合物と、３７０ｎｍ以上の波長領域の光に感光して前記光重合性基を有する化合物の重合開始剤として作用すると共に構造が変化して可視光領域にある吸収強度が減少する特性を有する光重合開始剤とを含有する液状の光硬化性組成物からなる光硬化性組成物層を形成する工程と、前記基板及びモールドで前記光硬化性組成物層を挟み込む工程と、前記基板及び前記モールドで挟み込まれた状態のままの前記光硬化性組成物層を前記基板側から３７０ｎｍ以上の波長領域を含む光で露光して光硬化層とする工程と、この光硬化層から前記モールドを離型する工程とを有する。 （もっと読む）

【課題】パターン転写精度、硬化膜の強度、および、モールドとの剥離性に優れたナノインプリント用硬化性組成物、これを用いた硬化物およびその製造方法、並びに、液晶表示装置用部材を提供する。
【解決手段】下記一般式（１）で表される芳香族カルボン酸アルケニルエステルを含み、組成物の粘度が３〜１８ｍＰａ・ｓであることを特徴とするナノインプリント用硬化性組成物。


（式中、Ｒ¹は炭素数２〜６のアルケニル基を表し、Ｒ²は炭素数２〜６のアルケニル基もしくは炭素数２〜６のアルケニルオキシ基を表し、Ａｒは芳香族炭化水素を表す。ｎは１以上の整数を表し、ｍは０以上の整数を表す。ｎ＋ｍは２以上の整数である。） （もっと読む）

本発明は（Ａ）１つ以上の不飽和二重結合を有する活性エネルギー波−硬化型化合物、及び、（Ｂ）前記成分（Ａ）１００重量部を基準として光開始剤０．１〜２０重量部を含むパターン形成用モールドシート組成物、及び前記組成物が、活性エネルギー波−硬化型化合物を含み、所望のパターンの陰刻が形成されているパターン形成用モールドシートを提供する。
（もっと読む）

【課題】モールドへ流れ込み易く、ＩＺＯやＩＴＯ等の金属酸化物に対する接着性に優れた紫外線硬化型のインプリント成形用組成物を提供する。
【解決手段】ウレタン(メタ)アクリレートオリゴマー及びエポキシ(メタ)アクリレートオリゴマーからなる群から選択される少なくとも一種の(メタ)アクリレートオリゴマー（Ａ）と、ヒドロキシル基含有(メタ)アクリレートモノマー及びカルボキシル基含有(メタ)アクリレートモノマーからなる群から選択される少なくとも一種の(メタ)アクリレートモノマー（Ｂ）と、光重合開始剤（Ｃ）とを含んでなり、粘度が1000 mPa・s以下であることを特徴とするインプリント成形用組成物である。 （もっと読む）

【課題】表面及び内部の硬化性に優れ、モールドからの剥離性に優れたレジストパターンを形成可能な光ナノインプリントリソグラフィ用光硬化性組成物を提供する。
【解決手段】（ａ）重合性化合物と、（ｂ）光重合開始剤と、（ｃ）界面活性光重合開始剤と、を含み、２５℃における粘度が３ｍＰａ・ｓ以上３０ｍＰａ・ｓ以下である光ナノインプリントリソグラフィ用光硬化性組成物。 （もっと読む）

【課題】高硬度を有するナノインプリント用モールド形成組成物と、このナノインプリント用モールド形成組成物を用いたナノインプリント用モールドとその製造方法を提供する。
【解決手段】（ａ）多官能エポキシ樹脂、（ｂ）カチオン重合開始剤、及び（ｃ）溶剤を含有することを特徴とするナノインプリント用モールド形成組成物によれば、高い硬度を有する樹脂パターンを形成することができ、基板上に樹脂パターンを形成するのみでナノインプリント用モールドとして使用できる。 （もっと読む）

本発明は、１または複数の放射線感受性成分を含むコーティング組成物で基材を被覆するステップと、周期的またはランダムな放射線強度パターンを有する電磁放射線でこの被覆基材を局所処理して潜像を形成するステップと、得られた被覆基材を重合および／または架橋するステップとを有する、ポリマーレリーフ構造体を作製する方法であって、前記コーティング組成物は１または複数のＲＡＦＴ剤を含む、方法に関する。 （もっと読む）

本発明の積層ナノモールドは、所定の形状を有する空孔を画定するペルフルオロポリエーテル層、および、ペルフルオロポリエーテル層とカップリングされる支持層を含む。また本積層体は、ペルフルオロポリエーテル層と支持層とをカップリングするつなぎ層を含んでいてもよい。またつなぎ層は、光硬化性成分、および、熱硬化性成分を含んでいてもよい。空孔は、５００ナノメートル未満の最大寸法を有するものでもよい。 （もっと読む）