【課題】良好なスループットを維持できるように十分な光透過性を有すると共に、被転写体に対する微細パターンの転写精度に優れ、しかも繰り返し転写性にも優れるナノインプリント用樹脂スタンパ及びこれを使用したナノインプリント装置を提供する。
【解決手段】複数の重合性官能基を有する主成分としてのシルセスキオキサン誘導体と、複数の重合性官能基を有し、前記シルセスキオキサン誘導体とは別の重合性樹脂成分と、光重合開始剤とを含有する樹脂組成物の重合体からなる微細構造体層を、光透過性の支持基材上に備えるナノインプリント用樹脂スタンパ３であって、前記光重合開始剤は、前記シルセスキオキサン誘導体、及び前記重合性樹脂成分の合計の質量に対して、０．３質量％以上、３質量％以下であり、前記微細構造体層は、波長３６５ｎｍの光を８０％以上透過することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】基板との密着性、インプリント性、モールドとの離型性に優れ、表面硬度が高いパターンガ提供できる光インプリント用硬化性組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）光重合性単量体と（Ｂ）光重合開始剤と（Ｃ）３級アミノ基含有化合物を含むことを特徴とする光インプリント用硬化性組成物。 （もっと読む）

【課題】モールド汚れが少なく、モールド離型性、および、露光後の基板密着性に優れた微細パターンを製造できる方法を提供する。
【解決手段】微細パターンの製造方法において、モールドに隣接する層を構成する硬化性組成物の重合開始活性を、該層よりも基板に近い側の層を構成する硬化性組成物の重合開始活性よりも高くする。 （もっと読む）

【課題】本発明の課題は、本発明の課題は、離型処理が不要で、かつ繰り返し転写におけるパターンの転写精度が劣化しない微細構造体層を有するソフトスタンパである微細パターン転写用スタンパを提供することにある。
【解決手段】本発明は、支持基材１上に微細構造体層２を有する微細パターン転写用スタンパ３において、前記微細構造体層２は、複数の重合性官能基を有するシルセスキオキサン誘導体と、複数の重合性官能基を有する一種又は複数種のモノマ成分と、を主に含む樹脂組成物の重合体であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】モールド剥離性に優れ、かつ、パターン形成精度が高く表面硬度などの永久膜特性に優れた微細パターン製造方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）基板またはモールド上に組成の異なる少なくとも２種の硬化性組成物であって、重合性単量体と重合開始剤を含む硬化性組成物を同時または逐次に適用し、硬化性組成物からなる層を形成する工程、（Ｂ）モールドまたは基板を硬化性組成物からなる層に接触させ、基板とモールドの間に硬化性組成物からなる層をサンドイッチする工程、（Ｃ）硬化性組成物からなる層を硬化する工程、（Ｄ）モールドを硬化後の膜から剥離する工程を該順に有する微細パターン製造方法であって、モールドに隣接する層を構成する硬化性組成物の硬化後の微粒子の含有量が０．１質量％以下であり、モールドに隣接する層よりも基板側に設けられる層を構成する硬化性組成物が微粒子を含有する微細パターン製造方法。 （もっと読む）

【課題】アルゴンガスと酸素ガスでのドライエッチング速度の選択性が高く、高いスループットで微細パターンを形成することができるナノインプリント法に好適な転写材料用硬化性組成物を提供する。
【解決手段】アミノ基が芳香環に直接結合された芳香族アミン化合物と分子内にエポキシ基と（メタ）アクリロイル基を有する化合物を反応させて得られる芳香族アミン型（メタ）アクリレート化合物を含有することを特徴とする転写材料用硬化性組成物である。 （もっと読む）

【課題】繰り返しパターン形成を行っても良好なパターン形成性を有し、さらに高ドライエッチング耐性を満たすインプリント用硬化性組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）重合性化合物および（Ｂ）光重合開始剤を含有し、前記（Ａ）重合性化合物として、（Ａ１）芳香族基を有する重合性単量体を含有し、かつ、（Ｂ）光重合開始剤として酢酸エチル中における３６５ｎｍのモル吸光係数が５００（Ｌ／（ｍｏｌ・ｃｍ））以上である化合物を含有することを特徴とするインプリント用硬化性組成物。 （もっと読む）

【課題】優れた形状のパターンを得ることができるパターン形成方法を提供することを目的とする。
【解決手段】（１）樹脂、重合性化合物、光重合開始剤及び溶剤を含む組成物を基板上に塗布する工程、（２）基板上に塗布した層から溶剤を除去して組成物層を形成する工程、（３）組成物層を水に浸漬しながら、組成物層にモールドのパターン面を圧着して、モールドのパターンを転写させる工程、（４）モールドのパターンが転写された組成物層を乾燥する工程、（５）得られた組成物層をモールドから離脱させる工程、及び（６）組成物層をモールドから離脱させる工程の前又は後に、得られた組成物層に露光機を用いて露光する工程を含むパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】パターンニング繰り返し耐性に優れたインプリント用硬化性組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）光ラジカル発生剤と（Ｂ）重合性単量体を含むインプリント用硬化性組成物であって、前記（Ａ）光ラジカル発生剤が、イミダゾール２量体であり、前記（Ｂ）重合性単量体の含有量が該組成物中の溶剤を除く成分の８０重量％以上である、インプリント用硬化性組成物。 （もっと読む）

【課題】テンプレートを剥離する際に破壊されにくいパターン形成方法及びこのパターン形成方法を用いた半導体装置の製造方法を提供する。
【解決手段】半導体基板１上に、第１の感光剤及び第２の感光剤を含有した未硬化のインプリント剤２を塗布し、このインプリント剤２にテンプレート３を押し付ける。そして、インプリント剤２にテンプレート３を押し付けたまま、波長が３６５ｎｍの光を照射し、第１の感光剤を反応させて、インプリント剤２を半硬化状態とする。次に、テンプレート３をインプリント剤２から剥離する。次に、波長が２４８ｎｍの光を照射し、第２の感光剤を反応させて、インプリント剤２を全硬化状態とする。 （もっと読む）

【課題】ナノインプリント用組成物の塗布性および硬化性を向上させる。
【解決手段】実施の形態に係るナノインプリント用組成物は、シロキサンポリマー（Ａ）と、アルコキシシラン化合物（Ｂ）と、重合開始剤（Ｃ）と、を含有する。シロキサンポリマー（Ａ）は、光照射により重合する重合性基を有する化合物である。重合開始剤（Ｃ）は、光照射時にシロキサンポリマー（Ａ）の重合を開始、促進させる化合物である。 （もっと読む）

【課題】 低温で軟化し、保存安定性のよいナノインプリント用樹脂組成物を提供する。
【解決手段】 結晶性を有し常温で固体のカチオン重合性の化合物と、光カチオン重合開始剤と、を含むナノインプリント用樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】 低温で軟化し、保存安定性のよいナノインプリント用樹脂組成物を提供する。
【解決手段】 結晶性を有し常温で固体のカチオン重合性の化合物と、光カチオン重合開始剤と、を含むナノインプリント用樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】パターン形成性に優れ、残膜除去後の線幅が変動しないパターンを提供する。
【解決手段】（Ａ）常圧における沸点が２５０℃以上である重合性単量体と、
（Ｂ）光重合開始剤と、
（Ｃ）常圧における沸点が２５０℃未満である低沸点成分とを
含有するインプリント用硬化性組成物を基材上に設置してパターン形成層を形成する工程と、
前記パターン形成層の表面にモールドを圧接する工程と、
前記パターン形成層に光を照射する工程と、
を含み、前記パターン形成層を形成する工程が加熱により（Ｃ）常圧における沸点が２５０℃未満である低沸点成分が除去される工程を含有し、かつ、前記加熱温度が８０℃以下であることを特徴とする、パターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】基板の上に形成した樹脂層の表面に、凹凸形状のパターンの変更、凸部の高さの変更が容易な凹凸形状を形成する凹凸形成方法の提供。
【解決手段】基材上に活性エネルギー線硬化性樹脂組成物を有する塗布液を塗布し、形成された塗膜の表面に凹凸形状を形成させる凹凸形状形成方法において、前記基材上に、重合開始剤及び前記活性エネルギー線硬化性樹脂組成物を含む凹凸形状形成用塗布液を塗布し、塗膜を形成した後、前記基材の凹凸形状を形成させる所定位置に重合開始剤を含有した液体を局所塗布し、活性エネルギー線を照射することで前記凹凸形状を形成させることを特徴とする凹凸形状形成方法。 （もっと読む）

【課題】半導体装置等の製造に用いられるインプリントリソグラフィ方法において、光硬化剤とテンプレートとの離型特性を向上することができるパターン形成方法を提供する。
【解決課題】凹部パターンが形成されたテンプレート３００と光硬化剤２１０とを接触させて前記凹部パターンに前記光硬化剤２１０を充填し、前記光硬化剤を親水化する親水化成分２１８を前記光硬化剤２１０中に形成し、充填された前記光硬化剤２１０に第一の光１１６を照射して前記光硬化剤２１０を硬化し、前記第一の光１１６を照射後、前記光硬化剤２１０に第二の光１１７を照射して、前記テンプレート３００界面の前記光硬化剤２１０を反応させ、前記テンプレート３００と前記光硬化剤２１０を離型して光硬化剤パターン２１２を形成することを特徴とする。 （もっと読む）

本発明はパターンの複製方法に関し、前記方法は（ａ）複数の窪みまたは突起領域がその中に形成されているパターン付きテンプレート表面を備えたパターン付きテンプレートを準備する工程；（ｂ）（ペル）フルオロポリオキシアルキレン鎖〔鎖（Ｒ_ｆ）：鎖Ｒ_ｆの分子量は１０００を超え、３５００未満である〕および少なくとも２個の不飽和部分を含む少なくとも１種類の官能性ペルフルオロポリエーテル化合物（化合物（Ｅ））と、少なくとも１種類の光開始剤とを含むある体積量の硬化性ペルフルオロポリエーテル組成物（組成物（Ｃ））を、前記パターン付きテンプレート表面に接触させる工程；（ｃ）前記組成物（Ｃ）を紫外線に曝してパターン付きモールド表面を備えたモールドを形成させ、前記モールドを前記パターン付きテンプレートから分離する工程；（ｄ）前記パターン付きモールド表面を（プレ）ポリマー組成物（組成物（Ｐ））と接触させる工程；および（ｅ）前記組成物（Ｐ）を加工してパターン形成された表面を有する物品を形成させ、前記物品を前記モールドから分離する工程を含む。 （もっと読む）

【課題】光硬化後に基板等から容易に除去することができ、かつ、光硬化物の強度や感度が良好な光インプリントリソグラフィによる樹脂パターン形成用光硬化性組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】光重合性基を１分子中に１個のみ有する光重合性化合物の少なくとも１種からなる光重合性化合物（Ａ）と光重合開始剤（Ｂ）とを含有し、前記光硬化性組成物中に含まれる光重合性化合物の総量に対する前記光重合性化合物（Ａ）の割合が９９質量％以上であり、かつ下記式（１）により算出したガラス転移温度Ｔｇが３１３Ｋ以上である樹脂パターン形成用光硬化性組成物とする。
【数１】


Ｔｇ_ｉ；光重合性化合物（Ａ）として用いる光重合性基を１分子中に１個のみ有する光重合性化合物ｉのホモポリマーのガラス転移温度（Ｋ）
Ｗ_ｉ；光重合性化合物ｉの光重合性化合物（Ａ）に対する質量分率（％）
ｎ；光重合性化合物（Ａ）として用いる光重合性基を１分子中に１個のみ有する光重合性化合物の種類の数であり、１以上の整数 （もっと読む）

【課題】パターン精度に優れた、新規な光硬化性に優れたインプリント用硬化性組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）光重合性単量体と、（Ｂ）光重合開始剤とを含む光インプリント用硬化性組成物であって、全成分に占める、分子量１９０以下の化合物の割合が２０質量％以下であり、組成物の粘度が２５℃で３〜５０ｍＰａ・ｓであることを特徴とする組成物。 （もっと読む）

【課題】ポリマーフィルム表面相互作用を改良する。
【解決手段】本プロセスにおいて、ポリマーキャリア目的物は、光重合性化合物、重合を開始する性能を有する光開始剤又は触媒、及び半フッ素化分子を含む化学組成物で被覆される。そのように形成されるポリマー型は半フッ素化部分を有し、これは表面上及びパターン形成された表面の近傍領域に多く存在する。このポリマー型はナノインプリントリソグラフィープロセスにおける改良された性質を有するテンプレートとして適する。 （もっと読む）