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Fターム[4F209AC05]の内容

曲げ・直線化成形、管端部の成形、表面成形 (35,147) | 材料の状態、形態 (516) | エマルジョン、溶液 (250)

Fターム[4F209AC05]に分類される特許

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【課題】インプリント装置の精度を向上させることができるインプリントシステムおよびインプリントシステムのメンテナンス方法を提供する。
【解決手段】機能性液体を吐出させるノズルが形成されたノズルプレート23Aを具備する液体吐出ヘッド24と、基板と液体吐出ヘッド24とを相対的に移動させる相対移動手段と、基板の機能性液体が着弾した面に対して、モールドの凹凸パターンを転写する転写手段と、モールドを機能性液体に接触した状態で、機能性液体を硬化させる硬化手段と、ノズルプレート23Aの温度を制御する第1の温度制御手段44、46と、液体吐出ヘッド24のノズルプレート23A以外の少なくとも一面の温度を制御する第2の温度制御手段42、48と、を備えることを特徴とするインプリントシステム、および、インプリントシステムのメンテナンス方法である。 (もっと読む)


【課題】繊細な凹凸形状を有し、高級感のある樹脂化粧板を提供すること。
【解決手段】基板の上面に、接着剤層、化粧シート層を順に積層し、該化粧シート層上に樹脂組成物を塗布し、次いで賦型シートを当接して一体的に硬化させた後に、該賦型シートを剥離して樹脂層を形成した樹脂化粧板であって、該賦型シートが基材上に少なくとも、部分的に又は全面にわたって設けられたインキ層と、該インキ層上に存在してこれと接触すると共に、全面にわたって被覆する表面賦型層を有する賦型シートであって、該表面賦型層が電離放射線硬化性樹脂組成物の架橋硬化したものである樹脂化粧板である。 (もっと読む)


【課題】インプリント技術を利用して、使用する樹脂の種類に制限を受けることなく高精度の凹凸パターンを有する局在型表面プラズモン共鳴デバイスを提供する。
【解決手段】局在型表面プラズモン共鳴センサーユニットの製造方法は、I)凹凸パターン形状を有する鋳型に、樹脂溶液を塗布し、乾燥させて前記凹凸パターン形状が転写された形状転写面を有する樹脂層を形成する工程、II)樹脂層に金属イオン含有溶液を接触させて金属イオンを樹脂層中に含浸させる工程、III)金属イオンを還元し、形状転写面を含む樹脂層の表面に金属を析出させて金属析出層を形成する工程、IV)金属析出層の上に、無電解めっきおよび/又は電気めっきを施すことにより金属めっき層を形成する工程、V)工程IVの後に、樹脂層を除去することにより、局在型表面プラズモン共鳴を生じる凹凸パターン形状を有する金属薄膜を形成する工程を備えている。 (もっと読む)


【課題】インクジェット方式を用いて高粘度の機能性液を高周波で連続吐出させる際のロバスト性が維持された好ましい液体吐出が実現される、機能性液体吐出装置及び機能性液体吐出方法並びにインプリントシステムを提供する。
【解決手段】5mPa・s以上20mPa・s以下の粘度の光硬化性樹脂液体を基板上に吐出させるノズル(23)を具備し、圧力室(32)内部の液体を加圧する圧電素子(38)が設けられたヘッド(24)と、基板を搬送させる搬送部と、を備え、圧力室を静定状態から膨張させる引き波形及び膨張させた圧力室を収縮させる押し波形を有し、光硬化性樹脂液体の粘度ηとヘッドの共振周期Tとの関係が、(2/T)≦γ≦(η/10)、γ≦γを満たす引き波形の傾きγ、押し波形の傾きγを有する駆動電圧を生成し、該駆動電圧を用いてヘッドから基板上に光硬化性樹脂液体を吐出させる。 (もっと読む)


【課題】インプリントにおけるプロセス評価を効率良く行うことができるインプリント装置を提供すること。
【解決手段】実施形態のインプリント装置は、レジスト滴下部が、基板にレジストを滴下する。また、パターニング部は、テンプレートパターンに前記基板上のレジストを充填させて前記レジストを硬化させ、その後、離型処理を行なう。前記制御部は、前記基板上に設定された複数のショットに対し、前記レジスト滴下部によるレジスト滴下処理の滴下条件をショット毎に変化させるよう制御する。前記制御部は、前記滴下条件として、前記テンプレートパターンのうち評価対象となる評価パターンが押し当てられる前記基板上の位置から、前記基板に滴下されるレジストの液滴位置までの距離を制御する。 (もっと読む)


【課題】ウェハからのはみ出しの少ないレジスト材料の塗布、およびレジスト材料の塗布領域をウェハの端部になるべく近づけることのできるインプリント装置を提供すること。
【解決手段】インプリント装置は、吐出部163と、レシピ記憶部5と、吐出指令生成部6と、判別部181と、禁止指令生成部7と、吐出制御部9と、を備える。吐出部は、被処理基板に向けて硬化性樹脂材料を吐出する。レシピ記憶部は、硬化性樹脂材料の塗布量分布を示すドロップレシピを記憶する。吐出指令生成部は、ドロップレシピに基づいて硬化性樹脂材料の吐出指令を生成する。判別部は、硬化性樹脂材料の吐出先に被処理基板が有るか否かを判別する。禁止指令生成部は、判別部によって被処理基板が無いと判別された場合に、硬化性樹脂材料の吐出禁止指令を生成する。吐出制御部は、吐出指令よりも吐出禁止指令を優先させて吐出部に硬化性樹脂材料を吐出させる。 (もっと読む)


【課題】ゾルゲル材料により、1次元格子に代表される微細構造を有する光学素子を高歩留まりで製造する。
【解決手段】チタン系のゾルゲル材料を基板1に塗布し、真空乾燥を施して乾燥ゾルゲル皮膜であるチタニアゾル層2を形成し、その上に、型3を用いた型押し成形によりラインアンドスペース構造を転写後離型して、微細構造を有するチタニアゾル層4を形成する。次いで、加熱によりゾルゲル材料の脱水縮合反応を促進して硬化させることで、ラインアンドスペース構造を有する酸化チタン構造部5を形成する。 (もっと読む)


【課題】 従来数ナノメートル線幅を有するマスクを作る金型を、電子線露光法にて製作していたが、電子ビームのゆれのため製作が困難で又その検査も難しかった。又マスク自体をレジスト膜としては使用できなかった。
【解決手段】 拡大した金型を電子線露光法で製作し、高分子化合物の溶液を塗布し凍結して拡大した金型より剥離し、凍結乾燥した後溶液を再度含ませ、溶液が凍らない温度で乾燥する方法により乾燥縮小したマスクを製作する。 (もっと読む)


【課題】インクジェット方式による基板への機能性液の打滴が最適化され、好ましい微細パターンを形成し得る液体塗布装置及び方法並びにナノインプリントシステムを提供する。
【解決手段】基板(102)上に機能性液を打滴する複数のノズル(120)、及び少なくとも一部が圧電素子(123)で構成された側壁(121)によって区画され、各ノズルのそれぞれに連通される液室を具備し、圧電素子をせん断変形させて液滴を打滴する液体吐出ヘッド(110)と、基板と液体吐出ヘッドとを相対的に移動させる搬送部(108)と、を具備し、液体吐出ヘッドに具備される複数のノズルについて、両隣のノズルが異なるグループに属するように複数のノズルを3つ以上のグループにグループ化するとともに、同一の打滴タイミングにおいて同一のグループに属するノズルのみから打滴を行い、液体を前記基板上に離散的に着弾させるように圧電素子の動作が制御される。 (もっと読む)


【課題】インクジェット法を用いてレジスト材料からなる液滴を塗布しナノインプリントを行う方法において、凹凸パターン転写されたレジスト膜の残膜の厚みムラおよび残留気体による欠陥の発生を抑制する。
【解決手段】インクジェット法を用いてレジスト材料からなる液滴Dを塗布しナノインプリントを行う方法において、ライン状凹凸パターンP1のライン方向に略平行な方向であるA方向に沿った液滴間隔Waが、A方向に略垂直な方向であるB方向に沿った液滴間隔Wbより長くなるように、液滴Dを基板3上に塗布する。 (もっと読む)


【課題】低い反射率及び優れた撥水性の少なくともいずれかを備えた微細凹凸構造体及び該微細凹凸構造体の製造方法の提供。
【解決手段】ポリマー溶液塗布膜形成工程と、水滴形成工程と、凹部形成工程と、前記複数の凹部に接着剤を介して第2の基板を貼り付け、該第2の基板を剥がして前記複数の凹部の少なくとも表面部分を厚み方向に剥離し、第2の基板上に複数の第1の突起構造体を形成する第1の突起構造体形成工程と、複数の第1の突起構造体をマスクとして前記第2の基板のエッチングを行う第2の基板エッチング工程とを含む微細凹凸構造体の製造方法である。 (もっと読む)


【課題】パターン形成において成形材と被成形材とを迅速に剥離させることが可能な、新規かつ改良されたインプリント方法を提供する。
【解決手段】所望のパターンが形成されたモールド10をレジスト30に圧着させることによりモールド10の反転パターンをレジスト30に転写する転写工程と、加熱または光の照射によりレジスト30を硬化させる硬化工程と、硬化工程によりレジスト30が硬化した後、モールド10とレジスト30とを剥離する剥離工程と、を含み、剥離工程は、モールド10をレジスト30の圧着方向と反対方向に引き離す引離し工程と、レジスト30をモールド10の圧着方向と同方向に押し付ける押付け工程と、を含むことを特徴とするインプリント方法を提供する。 (もっと読む)


【課題】基板を包囲する包囲部材を備えたインプリント装置における型の寿命の低下を抑制する。
【解決手段】インプリント装置50は、型10を支持する支持体と、基板20を支持する基板ステージ23と、樹脂を供給する樹脂供給機構30と、基板ステージの上に配置され基板を包囲する包囲部材51と、制御部70とを備える。制御部は、インプリント処理を行う型のパターン領域が基板の外周からはみ出すために、パターン領域がインプリント処理を行うべきショット領域からはみ出す場合に、インプリント処理を行うべきショット領域と、包囲部材の上の領域のうちパターン領域に対向する部分の少なくとも一部とに、樹脂が供給されるように樹脂供給機構を制御する。 (もっと読む)


【課題】テンプレートの凹部への転写材の充填時間を短縮し、生産性を向上したインプリント方法及びインプリント装置を提供する。
【解決手段】被処理基板20の主面20aの上に転写材30を滴下して、予め定められた基準体積よりも大きい体積を有する転写材の液滴30dを形成する工程と、液滴を揮発させて、液滴の体積を基準体積よりも減少させる工程と、前記基準体積よりも体積が減少させられた液滴を、転写面10aに凹部12bが設けられたテンプレート10の転写面に接触させて、凹部に転写材を充填する工程と、を備えたことを特徴とするインプリント方法が提供される。 (もっと読む)


【課題】成形型の型面に離型剤を塗布することなく、離型性を向上させ、また、感光性樹脂自体の樹脂組成を変えることなく、同じ照度・照射時間でありながら感光性樹脂の硬化性を向上させて結果として離型性を向上させ、欠陥のない光学部品を得ることができる光学部品の製造方法を提供する。
【解決手段】光透過性基板2上に供給された感光性樹脂1Aに成形型3を型押しした状態で、上記光透過性基板2を透して光照射し光学部品1を製造するに際し、上記成形型3として、型面3aでの、波長365nmの光の反射率が、46%以上に設定されているものを用いる。 (もっと読む)


【課題】SEM観察が可能であり高スループットで検査を行うことができ、かつ、高精細なパターン形成が可能な光インプリント用のモールドと、これを用いた光インプリント方法を提供する。
【解決手段】光インプリント用のモールド1を、透明基材2と、この透明基材2の一方の面2aに位置し所望の凹凸構造を有する透明導電パターン層4と、透明基材2の他方の面2bに位置する透明導電裏面層7と、透明導電パターン層と前記透明導電裏面層とを電気的に接続する表裏接続部材8と、を備えたものとする。 (もっと読む)


【課題】凹凸形状を有するフィルムを安価で製造することができると共に、フィルム表面に形成される凹凸構造の高さや周期を容易に変更することができるフィルムの製造方法等を提供する。
【解決手段】表面に凹凸構造4を有するフィルム1の製造方法であって、光重合性組成物を薄膜状に配置する工程と、薄膜状に配置された光重合性組成物に、酸素を含む雰囲気下で光照射を行い、表面に凹凸構造4を形成させながら前記光重合性組成物を重合硬化させる工程とを、備える。 (もっと読む)


【課題】半導体装置等の製造における簡易なパターン形成方法を提供する。
【解決課題】基板上に、第一のセグメントと第二のセグメントを有する高分子共重合体を塗布する工程と、前記高分子共重合体に凹部を有するテンプレートを接触させ、前記テンプレートの凹部に前記高分子共重合体を充填する工程と、充填された前記高分子共重合体を第一のセグメントを有する相と第二のセグメントを有する相に相分離させる工程と、前記テンプレートを前記高分子共重合体から離型する工程と、前記高分子共重合体の第一のセグメントを有する相又は第二のセグメントを有する相を除去する工程と、を備えたことを特徴とするパターン形成方法。 (もっと読む)


ナノ・インプリント・リソグラフィ加工中に流体をパージするためのナノ・インプリント・リソグラフィ用テンプレートが記載されている。テンプレートは、内側流路および外側流路を備えることができる。内側流路は、ナノ・インプリント・リソグラフィ加工中に、テンプレートと基板との間の領域をプロセス・ガス供給源と流体連通させるように構成されている。外側流路は、流体を排出、および/または、テンプレートのアクティブ・エリアと基板との間に流体を封じ込めるように構成されている。 (もっと読む)


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