【課題】生成されたガラス微粒子の出発ロッドやガラス微粒子堆積体への付着効率を向上させることができるガラス微粒子堆積体及びガラス母材の製造方法を提供する。
【解決手段】ガラス微粒子堆積体の製造方法は、温調ブース２４からクラッド用バーナー１８までのガス供給配管２５の少なくとも一部を該バーナー側の温度が高くなり５℃／ｍ以上の温度勾配になるように温度制御する。この温度勾配は、好ましくは１５℃／ｍ以上、更に好ましくは２５℃／ｍ以上になるように温度制御する。具体的には、温調ブース２４からクラッド用バーナー１８までのガス供給配管２５の外周に発熱体であるテープヒータ２６を巻き付けて、このテープヒータ２６を温度制御することで、所定の温度勾配に管理する。 （もっと読む）

【課題】良好なガラス特性が得られるガラス微粒子堆積体を高い再現性で製造することが可能なガラス微粒子堆積体の製造方法を提供する。
【解決手段】バーナ１５から原料ガスを含む酸水素火炎Ｆをターゲット１４に吹き付け、酸水素火炎Ｆによる加水分解反応で生成されるガラス微粒子をターゲット１４に堆積させてガラス微粒子堆積体１７を製造する製造方法であって、バーナ１５から噴出される火炎Ｆの輝度分布及びガラス微粒子の堆積箇所の温度分布を測定し、これらの測定輝度分布及び測定温度分布が、良好なガラス微粒子堆積体１７を製造したときと同じとなるように、バーナ１５へ供給する原料ガス及び酸水素ガスの少なくとも何れか一方の流量を調整する。 （もっと読む）

【課題】無欠陥かつ高い平坦性を有する低膨張のチタニアをドープ石英ガラスの製造方法を提供する。
【解決手段】ケイ素源原料ガス及びチタン源原料ガスを混合し、２００〜４００℃で加熱した後、可燃性ガス及び支燃性ガスにより酸化又は火炎加水分解させることを特徴とするチタニアドープ石英ガラスの製造方法。表面に体積３０，０００ｎｍ³以上の凹状欠陥がないＥＵＶリソグラフィ用部材、特にＥＵＶリソグラフィフォトマスク用基板として好適なチタニアドープ石英ガラスを得ることができる。 （もっと読む）

【課題】製造設備のダメージを回避しつつ安価に光ファイバ母材を製造することができる装置および方法を提供する。
【解決手段】光ファイバ母材製造装置１は、ガラスロッド２の外周面上にガラス微粒子３を溶着させ光ファイバ母材を製造する装置であって、気密容器１０，プラズマバーナ１１，ガラス微粒子導入部１２，組成修正用ガス導入部１３および排気部１４を備える。気密容器１０は、プラズマバーナ１１により加熱されるガラスロッド２の被加熱部を囲む。プラズマバーナ１１は、プラズマ火炎によりガラス微粒子３を加熱する。ガラス微粒子導入部１２は、気密容器１０内のガラスロッド２の被加熱部に向けてガラス微粒子３を導入する。組成修正用ガス導入部１３は、気密容器１０内のガラスロッド２の被加熱部に溶着されるガラス微粒子３の組成を修正するための組成修正用ガスを気密容器１０内に導入する。 （もっと読む）

【課題】原料ガス流量を制御する原料用ＭＦＣの機差の影響を減らすことができるガラス微粒子堆積体の製造方法を提供する。
【解決手段】ガラス微粒子を出発ガラスロッド１４に堆積させてガラス微粒子堆積体１７を製造する際、原料タンクＴ１〜Ｔ５の重量Ｗ１〜Ｗ５を測定し、該重量の時間変化量ΔＷ１〜ΔＷ５に応じて、原料用ＭＦＣ２１〜２５の設定流量を調整する。これにより、実際の原料重量変化により原料用ＭＦＣ２１〜２５の設定流量を補正することができ、実質的に全てのガラス微粒子生成用バーナＢ１〜Ｂ５へ供給される原料ガスＧの供給流量を均一にできる。 （もっと読む）

【課題】ナノインプリントリソグラフィ用モールド基材として使用した場合に、寸法のばらつきが±１０％以内の凹凸パターンを形成することができるＴｉＯ2含有石英ガラス基板の提供。
【解決手段】１５〜３５℃における熱膨張係数が±２００ｐｐｂ／℃以内であり、ＴｉＯ₂濃度が４〜９ｗｔ％であり、転写パターンを形成する側の基板表面から深さ５０μｍまでの表面近傍領域におけるＴｉＯ₂濃度分布が、±１ｗｔ％以内であることを特徴とするＴｉＯ₂含有石英ガラス基板。 （もっと読む）

【課題】高品質なガラス微粒子堆積体を安定して製造することが可能なガラス微粒子堆積体の製造方法を提供する。
【解決手段】少なくとも四塩化ゲルマニウムを含む液体ガラス原料が原料タンク１３に貯留されるとともに、設備停止に伴う原料非供給時には原料タンク１３の空間内に非反応ガスが充填されて外部よりも高圧とされる状態とし、設備稼働に伴う原料供給時には原料タンク１３を加熱し、加熱によって液体ガラス原料を気化させることにより原料ガスを原料タンク１３の空間内に満たし、所定の流量に制御して反応容器２１に供給し、原料ガスを反応容器２１内で反応させてガラス微粒子を生成し、反応容器２１内に設けた棒状のターゲット２３の周囲にガラス微粒子を吹き付けて堆積させることでガラス微粒子堆積体Ｇを製造する方法であって、原料ガス供給開始後、所定時間Ｔ１が経過してからターゲット２３へのガラス微粒子の堆積を行う。 （もっと読む）

【課題】原料ガスの液化を確実に防止し、設備へのダメージを抑えるとともに、高品質なガラス微粒子堆積体を製造することが可能なガラス微粒子堆積体の製造方法及び製造装置を提供する。
【解決手段】原料液を蒸発により気化させて原料ガスを生成し、原料ガスと流量の制御された酸素、水素をバーナ１５ａに供給し、火炎加水分解反応によりガラス微粒子を生成させる直送式の原料供給装置１１を用いるガラス微粒子堆積体２３の製造方法であって、バーナ１５ａの上流側で、原料ガスと、酸素、水素、またはシールガスとして使用する不活性ガスの少なくとも１種のガスを混合し、原料ガスと混合したガスとの濃度比を混合ガス濃度計３１により監視して原料ガスの濃度変化を検知し、原料ガスの供給量が一定となるように制御する。 （もっと読む）

【課題】火炎中でのガラス原料の反応を促進させ、生産性に優れたガラス母材合成用バーナ及びガラス母材の製造方法を提供する。
【解決手段】
本発明に係るガラス母材合成用バーナは、ガラス原料化合物及び可燃性ガスを供給する第１のノズルとその外周に同心円状に配置された不燃性ガスを供給する第２のノズルからなる二重管ノズルを複数本集束配置し、その外周に、これら二重管ノズルを囲んで、支燃性ガスを供給する第３のノズルを配置すると共に、前記第３のノズルの外周に管径の異なる複数のノズルを同心円状に配置してなることを特徴とする。 （もっと読む）

【解決手段】ケイ素源原料ガス及びチタン源原料ガスと可燃性ガス及び支燃性ガスをバーナ先端部から噴出させ、ケイ素源原料ガス及びチタン源原料ガスを可燃性ガス及び支燃性ガスにより酸化又は火炎加水分解させて得た合成シリカ−チタニア微粒子を回転すると共に所定速度で後退するターゲット上に堆積すると同時に溶融ガラス化してチタニアドープ石英ガラスのインゴットを製造する際、バーナの先端部と成長するインゴット先端部との距離が２５０ｍｍ以上とすることを特徴とするチタニアドープ石英ガラスの製造方法。
【効果】本発明によれば、厚さ５ｍｍあたりの見かけ透過率における吸収端波長の分布が少なく、ＥＵＶリソグラフィ用部材として好適なチタニアドープ石英ガラスを得ることができる。 （もっと読む）

【課題】生成されたガラス微粒子の出発ロッドやガラス微粒子堆積体への付着効率を向上させることができるガラス母材の製造方法を提供する。
【解決手段】ガラス母材の製造方法は、原料ガスであるＳｉＣｌ_４の温度を１００℃以上に制御して、ガラス微粒子生成用バーナの火炎内で、ガラス微粒子の平均外径を９０ｎｍ以上にしてから出発ガラスロッド１３に堆積させる。 （もっと読む）

【課題】より均一な濃度分布を有する金属ドーパントを含有する石英ガラス体を製造する方法を提供する。
【解決手段】ケイ素化合物と、ドーパントとなる金属を含む化合物と、をバーナーの火炎中で加水分解してガラス微粒子を生成し、生成したガラス微粒子を基材に堆積、成長させる工程を含むガラス体を製造する方法であって、ケイ素化合物のガス、ドーパントとなる金属を含む化合物のガス、並びに、可燃性ガス及び支燃性ガスのうちの一方を含む、原料混合ガスをバーナーの中央に位置する中央ノズル（Ａ）に供給し、可燃性ガス及び支燃性ガスのうちの他方のガスを、バーナーの中央ノズルとは異なるノズル（Ｂ）に供給し、さらにノズル（Ａ）、（Ｂ）とは異なるノズルに、任意に可燃性ガス又は支燃性ガスを供給することからなり、原料混合ガスの流速は、中央ノズル（Ａ）以外のノズルから供給される可燃性ガス又は支燃性ガスのうち、最大の流速のものの５０％以上９０％以下であることを特徴とする、ガラス体を製造する方法を開示する。 （もっと読む）

【課題】原料収率の向上を可能とするガラス微粒子堆積体製造方法およびガラス体製造方法を提供する。
【解決手段】本発明のガラス微粒子堆積体製造方法は、原料容器３１に容れられたガラス原料を加熱し気化させてガラス原料ガスとし、このガラス原料ガスを原料容器３１から配管３２によりガラス微粒子形成用バーナ２１まで導き、このガラス微粒子形成用バーナ２１からガラス原料ガスを噴出させ、このガラス原料ガスの火炎分解反応により生じたガラス微粒子を出発材に堆積させてガラス微粒子堆積体を製造する。原料容器３１からガラス微粒子形成用バーナ２１までの配管３２の少なくとも一部の温度は発熱体により１００℃以上の所定温度になるよう管理される。 （もっと読む）

【課題】光ファイバ母材の軸方向の成長速度を一定にしてΔＮ（比屈折率差）の変動を抑えることで、光ファイバの特性を安定化することができる光ファイバ母材の製造方法を提供する。
【解決手段】 光ファイバ母材の製造方法は、成長速度の変化に合わせるのではなく、ガラス微粒子堆積体の軸方向の成長速度を一定になるように、可燃性ガスであるＨ_２の供給流量を制御するとともに、Ｈ_２の供給流量に比例するように添加剤であるＧｅＣｌ_４の供給流量を制御する。 （もっと読む）

【課題】外径変動量を低減できるガラス微粒子堆積体の製造方法を提供する。
【解決手段】回転する出発ロッド１１に対向した複数本のガラス微粒子合成用バーナ１３を略均等間隔に配置し、ガラス微粒子合成用バーナ１３を出発ロッド１１と相対移動なガラス微粒子合成用バーナ１３で合成されるガラス微粒子を出発ロッド１１の周囲に順次堆積させるガラス微粒子堆積体１９の製造方法であって、出発ロッド１１とガラス微粒子合成用バーナ１３との相対トラバース速度が０となる場合を除いたときのトラバース速度に合わせてガラス微粒子合成用バーナ１３に供給する少なくとも原料ガスのガス流量を、トラバース毎のガラス微粒子堆積体１９の堆積量が長手方向で一定になるように制御する。 （もっと読む）

【課題】多孔質ガラス体へのフッ素の導入を４００℃以下の低温で実施ができ、かつ安定して、最終的に得られる合成石英ガラスのフッ素濃度を１０００質量ｐｐｍ以上とすることができる合成石英ガラスの製造方法を提供する。
【解決手段】（ａ）ガラス形成原料を火炎加水分解して得られる石英ガラス微粒子を、基材に堆積、成長させて、多孔質ガラス体を形成する工程と、（ｂ）多孔質ガラス体を、反応槽内にて、圧力Ｐ_ｂ１および温度４００℃以下のフッ素単体（Ｆ_２）含有雰囲気下に保持し、ついで、同反応槽内にて、前記圧力Ｐ_ｂ１よりも低い圧力Ｐ_ｂ２および温度４００℃以下の条件下に保持して、フッ素を含有した多孔質ガラス体を得る工程と、（ｃ）フッ素を含有した多孔質ガラス体を、ガラス化炉内にて、透明ガラス化温度まで加熱して、フッ素を含有した透明ガラス体を得る工程とを有する合成石英ガラスの製造方法。 （もっと読む）

シリカ系ガラスの製造方法に関し、シリカ前躯体材料はエマルションの形態で合成火炎に供給される。その方法は、非水性液体シリカ前躯体材料中の水性相のエマルションを形成すること；そのエマルションを小滴スプレーとして、合成火炎中に供給し、それにより前躯体材料は火炎中でシリカ含有スートに転換されること；ならびにつづいてガラスに焼固するための多孔質スート体として、または直接に実質的に細孔のないガラスとして、基板上にスートを捕集すること、の段階を含む。
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発明の一例にしたがえば、光ファイバは、(ｉ)Ａｌドープシリカを含むが、ＥｒまたはＹｂは実質的に含まない、第１の屈折率ｎ_１を有するコア、(ii)コアを囲む、ｎ_１＞ｎ_２であるような、第２の屈折率ｎ_２を有する、少なくとも１つのＦドープシリカ系クラッド層であって、実質的にＳｉＯ_２及び０.２５〜５重量％のＦを含むクラッド層、(iii)クラッド層を囲む気密炭素系コーティングであって、厚さが２００〜１０００Åである気密コーティング、及び(iv)気密コーティングを囲む第２のコーティングであって、厚さが５μｍから８０μｍである第２のコーティング、を有する。
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【課題】ＥＵＶＬ実施時において、光学部材全体の線熱膨張係数がほぼゼロとなるＥＵＶＬ光学部材用基材の提供。
【解決手段】ＴｉＯ₂を含有するシリカガラスからなり、対向する２つの面における、線熱膨張係数（ＣＴＥ）が０ｐｐｂ／℃となる温度（クロスオーバー温度：Ｃｒｏｓｓ−ｏｖｅｒ Ｔｅｍｐｅｒａｔｕｒｅ；ＣＯＴ）の差が５℃以上である、ＥＵＶリソグラフィ光学部材用基材。 （もっと読む）

【課題】９００℃，１００時間の熱処理によるＯＨ基濃度の減少量が１００ｐｐｍ以下であることを特徴とするチタニアドープ石英ガラス、及びその製造方法を提供する。
【解決手段】火炎加水分解により合成微粒子を回転するターゲット上に堆積すると同時に溶融ガラス化してチタニアドープ石英ガラスを製造する方法において、バーナーの中心管に供給される酸素ガスがケイ素源原料ガス及びチタン源原料ガスの和のモル比で５以上であること、水素ガスがバーナーの一又は複数の水素ガス供給管から噴射されるに際しての線速がそれぞれ１００ｍ／ｓｅｃ以下であること、各ガスの供給流量の変動を±１％以内に制御すると共に、炉内に吸入する空気、炉からの排気及び炉周囲の外気の各々の温度の変動を±２．５℃以内に制御して、上記ターゲットを５ｒｐｍ以上の回転数で回転させ、上記微粒子をターゲット上に付着させるようにした製造条件による。 （もっと読む）