Fターム[4G030AA59]の内容
酸化物セラミックスの組成 (35,018) | 成分 (15,407) | フッ化物 (54) | フッ化マグネシウム (10)
Fターム[4G030AA59]に分類される特許
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フッ化マグネシウム焼結体、その製法及び半導体製造装置用部材
【課題】高強度かつ高耐食性であり、アルカリ金属含有量が500ppm以下のフッ化マグネシウム焼結体を提供する。
【解決手段】本発明のフッ化マグネシウム焼結体は、フッ化マグネシウムを主相とする焼結体であって、平均線熱膨張係数がフッ化マグネシウムよりも低い少なくとも1種の分散粒子を含み、焼結体中の分散粒子の平均粒径とフッ化マグネシウム粒子の平均粒径が5μm以下でかつ開気孔率が1%以下であり、アルカリ金属元素含有量が500ppm以下のものである。
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CaF2−MgF2二元系焼結体、及び耐プラズマ性フッ化物焼結体の製造方法
【課題】シリコン半導体および化合物半導体などを製造する装置内で高い耐プラズマ性、高い機械的強度や耐衝撃性を要求される部品に好適なCaF2−MgF2二元系焼結体の提供。
【解決手段】MgF2を1.5〜10wt.%含有するCaF2−MgF2焼結体からなり、該焼結体の嵩密度が3.00g/cm3以上の緻密な構造を有する。
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フッ素含有酸化マグネシウム発光体及びその製造方法
【課題】フッ素含量が100ppmより少ないにも関わらず、フッ素を100ppmより多く含む酸化マグネシウムと同程度以上の紫外光発光強度を持つフッ素含有酸化マグネシウム発光体を提供すること。
【解決手段】電子線又は紫外線による励起に基づいて紫外線領域200〜300nmに発光ピークを有する酸化マグネシウム発光体であって、マグネシウムに対するフッ素含量が100ppm未満で、かつ、励起光ランプの反射ピーク(波長980nm近傍)に対する、前記発光ピークの強度比が、20以上である。当該発光体は、酸化マグネシウム前駆体に、マグネシウムに対しフッ素が0.06〜1.25mol%となる量でフッ素化合物を添加して焼成し、一旦冷却した後、再度焼成することにより得ることができる。
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アルミナ焼結体、その製法及び半導体製造装置部材
【課題】一般的なアルミナ粉末で作製された成形体を低温で焼結する。
【解決手段】本発明のアルミナ焼結体の製法は、(a)少なくともAl2O3とMgF2との混合粉末又はAl2O3とMgF2とMgOとの混合粉末を所定形状の成形体に成形する工程と、(b)該成形体を真空雰囲気下又は非酸化性雰囲気下でホットプレス焼成してアルミナ焼結体とする工程であって、Al2O3100重量部に対するMgF2の使用量をX(重量部)、ホットプレス焼成温度をY(℃)としたときに下記式(1)〜(4)を満たすようにホットプレス焼成温度を設定する工程と、を含む。
1120≦Y≦1300 …(1),0.15≦X≦1.89 …(2)
Y≦−78.7X+1349 …(3),Y≧−200X+1212 …(4)
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CaF2−MgF2二元系焼結体、及び耐プラズマ性フッ化物焼結体の製造方法
【課題】シリコン半導体および化合物半導体などを製造する装置内で高い耐プラズマ性を要求される部品に好適なフッ化物焼結体を提供する。
【解決手段】MgF2を1〜5wt.%含有するCaF2−MgF2焼結体からなり、該焼結体の嵩密度が3.00g/cm3以上の緻密な構造を有している。
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耐プラズマ性フッ化物焼結体の製造方法
【課題】シリコン半導体および化合物半導体などを製造する装置内で高い耐プラズマ性を要求される部品に好適なフッ化物焼結体の製造方法を提供する。
【解決手段】高純度CaF2粉末に高純度MgF2粉末を1〜5wt.%混合し、さらに焼結助剤を0.1〜1wt.%添加して混合する工程、金型及びプレス成形機を用いてプレス圧0.2MPa/cm2以上で成形する工程、その成形品を大気雰囲気中で600〜700℃に加熱して仮焼結を行う工程、大気雰囲気中で1250〜1370℃の温度範囲で6〜12時間加熱して緻密な構造のCaF2−MgF2二元系焼結体を形成する工程、を含むフッ化物焼結体の製造方法とする。
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感光性ペースト組成物、これを利用して製造されたプラズマディスプレイパネルの隔壁及びこれを含むプラズマディスプレイパネル
【課題】感光性ペースト組成物、これを利用して製造されたプラズマディスプレイパネルの隔壁及びこれを含むプラズマディスプレイパネルを提供する。
【解決手段】フッ化物ゾル及び無機物を含む感光性ペースト組成物において、フッ化物ゾルの平均屈折率N1及び無機物の平均屈折率N2が下記数式1を満たすことを特徴とする感光性ペースト組成物、これを利用して製造されたプラズマディスプレイパネルの隔壁及びこれを含むプラズマディスプレイパネルである:
−0.2≦N1−N2≦0.2 ・・・(式1)。これにより、1回の露光だけで高解像度及び高精密のプラズマディスプレイパネル用隔壁パターンを製造できるだけではなく、既存の隔壁に比べて高い反射率を有する隔壁を提供できるために、高い輝度を有するプラズマディスプレイパネルを製造できる。
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酸化マグネシウム焼成物粉末
【課題】Xeガスのガス放電により生成した紫外光により励起されると、高い効率で波長250nm付近の紫外光を放出する酸化マグネシウム粉末を提供する。
【解決手段】酸化マグネシウム源粉末と、アルカリ金属、マグネシウム以外のアルカリ土類金属、希土類金属、アルミニウム、亜鉛及びスズからなる群より選ばれる少なくとも一種の補助金属のフッ化物の粉末とからなり、フッ化物を酸化マグネシウム源粉末中のマグネシウム100モルに対して0.05〜30モルの量にて含む粉末混合物を焼成して得られた酸化マグネシウム焼成物粉末。
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低融点金属鋳造装置用耐熱材料
【課題】低融点金属鋳造装置用耐熱材料において、けい酸カルシウム質が持つ優れた断熱性や比強度、加工性を維持しつつ、マグネシウムやマグネシウムを含む合金のように浸食性の強い溶湯に対する耐久性を改善する。
【解決手段】けい酸カルシウムと、フッ化物とを含有することを特徴とする低融点金属鋳造装置用耐熱材料。
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イオン伝導性を示す雲母結晶焼成体、雲母結晶化ガラスおよびフッ素含有ケイ酸塩ガラス並びにそれらの製造方法
【課題】リチウム、ナトリウムあるいはカルシウムが層間イオンである雲母結晶が主結晶相であり、イオン伝導性を示し、しかも空気中や水中でも崩壊しない焼成体および結晶化ガラス、および室温で高いイオン伝導を示す透明なケイ酸塩系のガラスを製造する。さらに、イオン伝導性および空気中や水中でも崩壊しない耐水性のみならず、快削性および透明性を有する結晶化ガラスを製造する。
【解決手段】リチウム、ナトリウムあるいはカルシウムが層間イオンである雲母結晶を主結晶相とした焼成体および結晶化ガラスを製造するにあたり、それらが得られる化学組成の範囲を選定し、熱処理条件を制御する。また、それら焼成体や結晶化ガラスと同組成のフッ素含有ケイ酸塩ガラスを製造する。
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