【課題】ガラス基板を用いた透明導電性基板等のように、透明基板の破損が容易に生じないように、透明基板の破壊強度を向上させる透明基板の成膜方法を提供する。
【解決手段】透明基板に成膜を行う際、少なくとも対向する２辺のエッジ部分が面取りされている透明基板に対して、５００℃以上の温度条件下、形成される膜が他方の面と接続されるエッジ部分の面取り領域の接続部分まで延在するようにＣＶＤ処理を行う。 （もっと読む）

【課題】窓用ガラス板と、この窓用ガラス板とは別部材との当接部に設けられた機能膜としての導電膜を有する機能膜付窓用ガラス板であって、導電膜に耐摩耗性及び耐候性を付与した寿命の長い機能膜付窓用ガラス板を提供する。
【解決手段】ガラス板１と、その表面に形成された導電膜２とを有し、ガラス板１の面方向に沿って収容体に出入自在に取り付けられた機能膜付窓用ガラス板において、収容体はパネル４ａ、４ｂからなり、ガラス板１と摺接するようにガラス板の出入口に取り付けられたリップ部５ａ、５ｂを有し、導電膜２は、窓が閉じられた状態でリップ部５ａ、５ｂに当接するガラス板１の主表面の弾性部材当接部または／および弾性部材当接部近傍に形成され、かつ黒色セラミックスからなる保護被膜３で被覆されている。 （もっと読む）

【課題】 低コストかつ簡便なインク塗布法によって、優れた透明性と高い導電性を兼ね備え、かつ導電性の経時安定性に優れた透明導電膜を形成できる透明導電膜形成用塗布液を提供する。
【解決手段】 本発明に係る透明導電膜形成用塗布液は、少なくとも有機インジウム化合物、ドーパント用有機金属化合物として有機チタン化合物、有機ゲルマニウム化合物、有機亜鉛化合物、有機タングステン化合物、有機ジルコニウム化合物、有機タンタル化合物、有機ニオブ化合物、有機ハフニウム化合物、有機バナジウム化合物のいずれか一種以上、及び溶剤を含有する透明導電膜形成用塗布液であって、該有機インジウム化合物とドーパント用有機金属化合物との合計含有量が１〜３０重量％であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 ＶＯ_２が毒性の強いＶ_２Ｏ₅に酸化されることが防止されたサーモクロミックガラスを提供する。
【解決手段】 二酸化バナジウム膜の表面の保護層として犠牲金属／酸化物の積層体を設け、前記犠牲金属層の最低厚みが前記酸化物層を形成した後でも犠牲金属として存在する厚み、つまり犠牲金属が全部酸化されずに金属のまま残る厚みとした。前記犠牲金属層の厚みとしては、例えば１．０〜１５．０ｎｍが好ましい。 （もっと読む）

【課題】物体表面の氷結防止及び除去を容易に、且つ効率的に行うことができる氷結防止除去装置を得る。
【解決手段】絶縁体６をなすガラス層の表面に同心円状の表面側電極４を形成し、ガラスの裏面における導電性の反射層を裏面側電極７として、両電極間にパルス電流供給源１１からパルス電流を供給すると、表面側電極４から表面プラズマ１７が発生する。この表面プラズマ及びそれにより誘起される誘導気流によりガラス６の表面に生じる氷結を防止し、既に氷結が発生しているときにはこれを除去することができる。このような表面プラズマを利用した氷結防止除去装置は、車等のフロントガラス、飛行機や風力発電機の翼等、広範囲の分野に用いることができる。 （もっと読む）

【課題】各電子部品の消費電力量のばらつきを抑制することができる光透過性基板、合わせガラス、及び光透過性フィルムを提供する。
【解決手段】ガラス板１１ｂのＳｎＯ_２膜１２上には３６個の発光素子１３が６行×６列のマトリックス状に配置されるとともに、ＳｎＯ_２膜１２の隅部に隅部電極１８，１９が形成され、隅部電極１８から第１列の発光素子群における第ｍ行（ｍは１〜６の自然数）の発光素子１３までの導電路において、第ｍ行の発光素子１３に対応する列方向導電路２４ｍの幅をＷとし且つ長さをＬ_ｍ１とし、且つ第ｍ行の発光素子１３に対応する行方向導電路２５ｍの長さをＬとし且つ幅をＷ_ｍ１とすると、Ｌ_１１／Ｗ＋Ｌ／Ｗ_１１＝…＝Ｌ_ｍ１／Ｗ＋Ｌ／Ｗ_ｍ１＝…＝Ｌ_６１／Ｗ＋Ｌ／Ｗ_６１が成立するようにＷ_ｍ１が設定されている。 （もっと読む）

本発明によると、透過光において可能な限り円弧状の回折パターンを生成し、かつ、このパターンが高レベルの光学的影響を生じないように、ノードとメッシュを有する極細導電線の格子状ネットワークを備えるリジッド支持基板またはフレキシブル支持基板上に電極が形成される。格子状ネットワークは、さらに、各ノードにおいて接続する多数の３本の導電線、および／またはノード間で円弧状または波状に延びる導電セクションによって、優先方向なしで実現され得る。
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【課題】 スパッタリング法で形成されたＩＴＯ膜の比抵抗を低減し、さらにＩＴＯ膜の耐熱性や耐酸性を向上しうる製造方法を提供する。
【解決手段】 透明基板上に、Ｓｎ含有酸化インジウム膜をスパッタリング法により形成する工程と、チャンバー中の酸素ガスのガス圧を３００Ｐａ以上とし、酸素ガスより生成したプラズマ中に、前記Ｓｎ含有酸化インジウム膜付き基板を曝露する工程とを、含むことを特徴とする透明導電膜付き基板の製造方法である。前記ガス圧が４００Ｐａ〜１７００Ｐａであることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】シート抵抗値が２００〜１０００Ω／□であって、かつ、均一性に優れたＩＴＯ膜を成膜する方法を提供すること。
【解決手段】スパッター法又はパイロゾル法により膜中のスズ含有量がインジウムに対して１０〜４０重量％、かつ膜厚が１５０Å以上となるように成膜して、膜のシート抵抗が２００〜１０００Ω／□、シート抵抗の均一性が６．１％以内かつ比抵抗が５×１０^−４以上となるようにすることを特徴とするスズドープ酸化インジウム膜の成膜方法。成膜後、酸素を含む雰囲気中で２００℃以上の温度で加熱処理することにより、より高抵抗の膜を得ることができる。 （もっと読む）

【課題】高透過であって低コストで量産できる導電膜付きガラス板を提供する。
【解決手段】シリカを主成分とし、着色成分として、重量％で表示して、０．０２〜０．０６％（０．０６％を含まず）のＦｅ₂Ｏ₃に換算した全酸化鉄（Ｔ−Ｆｅ₂Ｏ₃）、０．０２４％より少ないＦｅＯ、および０〜０．５％のＣｅＯを含有し、０．０２〜０．２％（０．２％を含まず）のＴｉＯ₂を含有し、且つＦｅ₂Ｏ₃に換算したＦｅＯのＴ−Ｆｅ₂Ｏ₃に対する割合が４０％未満である組成からなり、３．２ｍｍの厚みにおいて、日射透過率が８７．５％以上、Ｃ光源を用いて測定した可視光透過率が９０％以上であるガラス板が、互いに平行な一対の主表面を有し、主表面の一方に３層構造の透明導電膜が形成され、主表面の他方に反射抑制膜が形成されており、反射抑制膜が急冷工程を含む方法により形成され、ガラス板が前記急冷工程により強化されている導電膜付きガラス板とする。 （もっと読む）

【課題】太陽電池の構成要素としての使用に適した被覆された物品を提供する。
【解決手段】特に太陽電池の構成要素としての使用に適した、多層積層膜が、透明な絶縁性基板上に積層される。前記多層積層薄膜は、前記絶縁性基板上に積層された２．０未満の屈折率を有する透明な導電性金属酸化物層と、前記導電性金属酸化物層上に積層された２．３〜３．５の屈折率を有する光線透過率最適化中間層と、前記光線透過率最適化中間層上に積層された少なくとも４．５の屈折率を有するシリコン層とを含む。前記積層膜は、任意の適切な方法によって積層させることができるが、各層を大気圧化学気相積層によって積層させることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】 導電膜内の抵抗分布幅の小さい導電膜付き車載用ガラスを安価で提供することができる色素増感太陽電池用導電膜付き車載用ガラスの曲げ成形方法を提供する。
【解決手段】 曲げ成形方法において、曲げ加工する前に、ガラス板１１１に一定の膜厚で導電膜１１２を形成して導電膜付ガラス板１１０を用意し、一対の導電膜付ガラス板１１０を導電膜１１２が互いに対向して直接接触するように重ね合わせ、これを曲げ型に載置して加熱して所望の形状に曲げ加工する。 （もっと読む）

【課題】 簡易な構成で、異常放電などを引き起こすことなく、１枚のガラス基板から複数枚のパネルを安定に調製することを可能にする、基板へのスパッタ薄膜の形成方法および当該方法を実施するための搬送キャリアを提供すること。
【解決手段】 搬送キャリアを、四角形状の枠体と、枠体の対向する枠辺と枠辺の間に、枠体との間で絶縁した状態で、その両端を枠体の各枠辺と弾性部材を介して連結することでテンションを付加して架設した薄体状部材とから構成し、複数本の薄体状部材に、基板が搬送キャリアに載置されている状態を形成するための保持部材としての機能、および／または、基板における２つ以上のスパッタ薄膜形成領域を画定するためのマスク部材としての機能を担わせる。 （もっと読む）

【課題】 ガラス組成物が本来有する高い透過率を実現できるとともに、アルカリ溶出を効果的に抑制できる光電変換装置用ガラス基板を得ることのできる製造方法を提供する。
【解決手段】 熔融金属スズ浴を用いたフロート法によるガラス素板のボトム面の最表面に存在するスズの陽イオンを含有する層の一部を、その厚み方向に除去する工程によって、ボトム面とトップ面との可視光反射率の差の絶対値を、０．１０〜０．２５％の範囲にするガラス基板の製造方法である。 （もっと読む）

【課題】ＬＣＯＳチップの対向基板として適当な電気抵抗値と可視光透過率を有するＩＴＯ付きガラス基板を得ること。
【解決手段】ガラス基板１の裏面に反射防止膜７を成膜した後、ガラス基板１の表面に厚さ８０〜２００オングストロームの酸化チタン膜２、厚さ１５０〜３００オングストロームの二酸化珪素膜３、厚さ１０００〜１２００オングストロームの酸化チタン膜４および厚さ２００〜４００オングストロームの二酸化珪素膜５を順に成膜する。そして、チャンバー内真空度および温度をそれぞれ１０^-6Ｔｏｒｒオーダーおよび１２５〜２３０℃に保持し、チャンバー内に酸素およびアルゴンをそれぞれ１．５〜３．５ｓｃｃｍおよび１５０〜４５０ｓｃｃｍの流量で流入させ、スパッタリングを行って、最上層の酸化膜５の表面に１００〜３５０オングストロームの厚さのＩＴＯ膜６を成膜する。 （もっと読む）

【課題】 ガラス基板との密着性に優れ、任意の導電性を有する導電膜を形成してなる導電性ガラス基板、その形成方法、及び、該導電性ガラス基板を用いて、或いは、導電性ガラス基板と同様の方法にて形成された高い導電性と任意のパターン形成を必要とする材料の作製に好適な導電性パターン形成方法を提供する。
【解決手段】 光開裂によりラジカル重合を開始しうる重合開始部位と基材結合部位とを有する化合物を表面に結合させてなるガラス基板上に、ラジカル重合可能な不飽和化合物を接触させてエネルギーを付与し、該ガラス基板上にグラフトポリマーを生成した後、該グラフトポリマー生成領域に導電性材料を付与してなる導電性ガラス基板である。 （もっと読む）

【課題】 基材の表面の温度分布を均一に維持しつつ、この表面に短時間で成膜することが可能な噴霧熱分解法による成膜装置を提供する。
【解決手段】 本発明の噴霧熱分解法による成膜装置は、チャンバー１上部に、ガラス基板３上に膜の原料となる溶液を噴霧する噴霧ノズル４を設け、この噴霧ノズル４の両側にガラス基板３を赤外線により加熱する赤外線ランプ５、５を設け、赤外線ランプ５、５の下方に噴霧ノズル４から噴霧される液滴の付着を防止する石英ガラス板６、６を設けたことを特徴とする。 （もっと読む）

本発明は、積層が、連続的に、１．８〜２．３の間の範囲にある屈折率ｎ₁および５〜５０ｎｍの間の範囲にある幾何学的厚さｅ₁を有する第１層（１）、１．３５〜１．６５の間の範囲にある屈折率ｎ₂および５〜５０ｎｍの間の範囲にある幾何学的厚さｅ₂を有する第２層（２）、１．８〜２．３の間の範囲にある屈折率ｎ₃および４０〜１５０ｎｍの間の範囲にある幾何学的厚さｅ₃を有する第３層（３）、１．３５〜１．６５の間の範囲にある屈折率ｎ₄および４０〜１５０ｎｍの間の範囲にある幾何学的厚さｅ₄を有する第４層（４）を含むことを特徴とする、薄層の積層（Ａ）からなる、特に垂直入射で少なくともその表面の少なくとも一つの上に反射防止膜を含む透明基板（６）に関する。
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