【課題】強度のばらつきを抑制できる携帯機器用カバーガラスの製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明にかかる携帯機器用カバーガラスの製造方法は、板状ガラス１１０から、携帯機器用カバーガラス形状のガラス基板１００をエッチングにより抜き出すエッチング工程を含み、エッチング工程でガラス基板を抜き出すための、耐エッチング性を有するレジスト材を用いたレジストパターン１２０を板状ガラスの主表面に形成するパターン形成工程を含み、パターン形成工程では、抜出されるガラス基板の主表面が、板状ガラスの縁部１２６を含まないようレジストパターンを形成することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】板厚が薄い状態で高い強度を示し、機器に装着した際に機器の薄型化を図ることが可能である携帯端末用カバーガラスを提供すること。
【解決手段】本発明の携帯端末用カバーガラス１は、板状のガラス基板の主表面にレジストパターンを形成した後、前記レジストパターンをマスクとして、エッチャントで前記ガラス基板をエッチングすることにより所望の形状に切り抜かれてなる、携帯端末の表示画面を保護するカバーガラス１であって、前記カバーガラス１の端面は、溶解ガラス面で構成されてなり、且つ、前記端面の表面粗さは、算術平均粗さＲａが１０ｎｍ以下であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】薄くても非常に高い強度を持つガラス基材の製造方法を提供すること。
【解決手段】本発明にかかるガラス基材の製造方法は、加熱した化学強化用のカリウムイオンを含む熔融塩にガラス基板を浸漬することにより、前記ガラス基板のイオンを前記熔融塩のカリウムイオンでイオン交換して前記ガラス基板を化学強化する工程と、前記化学強化により前記ガラス基板の主表面に形成されたカリウムイオン濃度が５０００ｐｐｍを超えるイオン交換層を除去する工程と、を具備する。 （もっと読む）

強度の高い光源により光学部品に生じる損傷を防止する１つの方法は、光学部品を所定の時間アニーリングすることを含む。他の方法は、フッ化物イオン及び二フッ化水素イオンを含むエッチング液中で光学部品をエッチングすることを含む。該方法はまた、プロセスの間にエッチング溶液を超音波で攪拌すること、次いで光学部品をすすぎ浴ですすぐことを含む。 （もっと読む）

【課題】表面が耐久性に優れ且つアナターゼ型、ルチル型及びブルッカイト型からなる群の１種以上の酸化チタン又は無機チタンリン酸化合物の結晶相を有しているガラスセラミックス、その製造方法、及び前記ガラスセラミックスを含む光触媒機能性部材及び親水性部材を提供する。
【解決手段】ガラスセラミックスは、結晶相としてＲｎＴｉ_２（ＰＯ_４）_３、ＲＴｉ_４（ＰＯ_４）_６、及びこれらの固溶体のうちいずれか、並びにＴｉＯ_２、好ましくはアナターゼ型、ルチル型及びブルッカイト型からなる群の１種以上のＴｉＯ_２結晶を含有し、これらの結晶によって光触媒特性を有するものである。本ガラスセラミックスは、原料を混合・溶融してガラス融液またはガラスを得る工程と、前記融液又はガラスを結晶核が生成し成長する温度に保持する結晶化工程と、を有する製法によって作られる。 （もっと読む）

【課題】薄くても非常に高い強度を持つガラス基材及びその製造方法を提供すること。
【解決手段】本発明のガラス基材は、加熱した化学強化用の熔融塩にガラス基板を浸漬す
ることにより、前記ガラス基板のイオンを前記熔融塩のイオンでイオン交換して前記ガラ
ス基板を化学強化し、前記化学強化により前記ガラス基板の主表面に形成されたイオン交
換層を除去することにより製造される。 （もっと読む）

透明ガラス基材（１）は、その主平面（π）に対して浮彫りの複数の幾何学的パターン（５）によって形成される模様を備えた少なくとも一方の面（３）を有する。この模様により、基材を通る放射線の透過が、模様なしの同一の基材を通る放射線の透過よりも大きくなる。基材の面（３）はまた、空気の屈折率とガラスの屈折率の間の屈折率を有する反射防止層（７）を備えている。反射防止層（７）は面（３）側のガラス基材（１）のくり抜いた表面部分であり、この部分はシリカに基づく構造体と０．５〜５０ｎｍの特性寸法を有する空洞とを含む。
（もっと読む）

【課題】 金属とシリコンと窒素とを含む薄膜を剥離液で剥離する場合において、ガラス基板の荒れを抑制しながら確実に薄膜を剥離し、良好にマスクブランクス用ガラス基板を再生する。
【解決手段】 ガラス基板上に主として金属とシリコンと窒素とを含む薄膜が形成されたマスクブランクス用ガラス基板の上記薄膜の剥離を、弗化水素酸、珪弗化水素酸、弗化水素アンモニウムから選ばれる少なくとも一つの弗素化合物と、過酸化水素、硝酸、硫酸から選ばれる少なくとも一つの酸化剤とを含み、前記弗素化合物を０．１〜０．８ｗｔ％含む水溶液に接触させて行って再生する。 （もっと読む）

【課題】端面において極端に突出する部分がなく、しかも機械的強度が高いガラス基材及びその製造方法を提供すること。
【解決手段】本発明のガラス基材１は、板状のガラス基板の主表面に形成したレジストパターンをマスクとして、前記ガラス基板のエッチングが可能なエッチャントで前記ガラス基板をエッチングすることにより所望の形状に切り抜いてガラス基材１を得て、このガラス基材１の端面１３に対して、該ガラス基材表面が軟化し得る熱エネルギーを局所的に加えることにより得られることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】端面において極端に突出する部分がなく、しかも機械的強度が高いガラス基材及びその製造方法を提供すること。
【解決手段】本発明のガラス基材は、板状のガラス基板をエッチングすることにより所望の形状に切り抜かれてなり、一対の主表面及び端面を持つガラス基材であって、断面視において、それぞれの主表面と前記端面とで構成される２つのエッジ部を結ぶ第１仮想線に対する、前記端面において最も突出する頂部からの最短距離Ｌと、前記ガラス基材の厚さＤとの関係がＬ≦Ｄ／２を満足することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】主表面と、端面とで構成されるエッジ部が鋭利な形状とならず、しかも機械的強度が高いガラス基材及びその製造方法を提供すること。
【解決手段】本発明のガラス基材は、板状のガラス基板の主表面に、前記主表面側が最も重合度が小さくなるように厚さ方向に重合度勾配を持つレジストパターンを形成し、前記レジストパターンをマスクとして、前記ガラス基板のエッチングが可能なエッチャントで前記ガラス基板をエッチングすることにより所望の形状に切り抜くと共に、前記主表面と端面とで構成されるエッジ部を、ＵＬ−１４３９に準拠するシャープエッジテストで全層が切断されないエッジにすることにより得られる。 （もっと読む）

【課題】基板表面に微小な凸状の表面欠陥のないマスクブランクス用ガラス基板及びその製造方法、並びに該基板を用いたマスクブランクス、及びその製造方法、並びに、転写マスク及びその製造方法、及び半導体装置の製造方法を得ること可能にする。
【解決手段】ガラス基板に必要な加工処理を施し、表面を粗研磨した後に仕上研磨を行う方法において、その仕上研磨工程の中に、有機ケイ素化合物を加水分解することで生成したコロイダルシリカ砥粒を含む研磨液（スラリー）を用いて研磨する超精密研磨工程を設ける。 （もっと読む）

【課題】磁気ディスク用ガラス基板のエッチング処理された内周端面上に形成される被膜の厚みを大きくする。
【解決手段】中央に円孔を有する円板状ガラス板の内周端面をエッチング処理し、その内周端面に有機ポリシラザン化合物を含有する液を塗布し、焼成する工程を有し、その化合物が構造単位−Ｓi（Ｒ^１）（Ｒ^２）−（ＮＨ）−および構造単位−Ｓi（Ｒ^３）（Ｒ^４）−Ｏ−を有し、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４はいずれも、アルキル基、アルケニル基、シクロアルキル基、アリール基、アラルキル基、アルキルアミノ基、アルキルシリル基およびアルコキシ基からなる群から選ばれる基または水素であり、Ｒ^１およびＲ^２のいずれか１以上とＲ^３およびＲ^４のいずれか１以上とは前記群から選ばれる基である磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。 （もっと読む）

【課題】多数のドーナツ状ガラス基板の内周端面を一度にエッチング処理できる方法を提供する。
【解決手段】中央に円孔を有する複数枚のドーナツ状ガラス基板１を、前記円孔で円筒孔が形成されるように揃えて積層し、この積層された複数枚のドーナツ状ガラス基板の内周端面を該エッチング液またはエッチングガスにより同時にエッチング処理する方法であって、前記複数枚のドーナツ状ガラス基板が積層された積層体の両端のドーナツ状ガラス基板の露出した主表面に触れさせることなくエッチング液またはエッチングガスを前記円筒孔の一端から供給しその内部を流動させて円筒孔の他端から排出させるドーナツ状ガラス基板のエッチング方法。 （もっと読む）

ガラス転移温度（Ｔｇ）が６００℃以上であり、かつ温度４５℃に保持された濃度１．７２重量％のケイフッ酸水溶液に対するエッチング速度が０．１μｍ／分以下のガラスからなる高耐熱性、高耐酸性を備えた、情報記録媒体用基板、および該情報記録媒体用基板上に、情報記録層を有する情報記録媒体である。 （もっと読む）