【課題】本発明は、化学強化工程後の冷却工程においてガラス基板に発生する微小うねりを抑制して極めて平滑な主表面を有する磁気ディスク用ガラス基板、およびヘッドクラッシュやサーマルアスペリティ障害などを防止し、かつ磁気ヘッドの低浮上量化を図り高密度記録可能な磁気ディスクを提供することを目的としている。
【解決手段】化学強化塩を加熱溶解させた化学強化塩溶解液に加熱してガラス基板を浸漬し、ガラス基板中の金属イオンと化学強化塩の金属イオンとをイオン交換する化学強化工程を含む磁気ディスク用ガラス基板の製造方法において、ガラス基板の硬度が、該ガラス基板上に付着した化学強化塩が固化する際に該ガラス基板に与える力によって、該ガラス基板の表面形状が変形しない硬度となる温度に低下するまで、溶解した化学強化塩が固化しない化学強化塩溶解液を用いて、化学強化工程を行う。 （もっと読む）

【課題】ガラス基材の任意の位置に、任意の形状やパターンを、高い精度で設けることができる、ガラス基材の表面改質方法および位置選択的に異なる屈折率を発現することができる、表面改質ガラス基材を提供すること。
【解決手段】ガラス基材と電極との間に、単結合強度が１２６ｋＪ／ｍｏｌ以下の酸化物を形成するカチオンを酸化物に換算し１重量％以上含有するカチオン供与体を介在させ、前記ガラス基材に熱ポーリング処理を施すことにより、ガラス基材の表面を改質する。 （もっと読む）

【課題】ガラス基板表面に銀電極を形成した場合に生じる黄変が抑制されたフラットパネルディスプレイ用ガラス基板の提供。
【解決手段】ガラス基板表面に銀電極が形成された後のフラットパネルディスプレイ用ガラス基板であって、前記銀電極が形成された側の前記ガラス基板表面から深さ１０μｍまでの表層における平均Ｋ含有量（Ｋ₂Ｏ換算での質量百分率表示）が、前記ガラス基板表面から深さ１００μｍ〜１１０μｍまでの内部層における平均Ｋ含有量（Ｋ₂Ｏ換算での質量百分率表示）よりも高いことを特徴とするフラットパネルディスプレイ用ガラス基板。 （もっと読む）

【課題】化学強化剤の飛散を防止するとともに、２種類以上の化学強化剤を秤量することなく所定配合比で所定量処理槽に投入可能とする。
【解決手段】２種類以上の化学強化剤を溶融して化学強化液とし、この化学強化液にガラス基板を接触させてガラス基板を化学強化するガラス基板の化学強化処理方法において、前記２種類以上の化学強化剤を所定比率で混合し所定重量で所定形状に成形加工しておく。作業性および自動化の観点から、１つ当たりの化学強化剤の重量は５０〜２００ｇの範囲の所定重量とするのが好ましい。また化学強化剤の飛散を一層防止する観点からは、化学強化剤の形状は、シート状、直方体状、ペレット状、リング状のいずれかであるのが好ましい。 （もっと読む）

【課題】化学強化工程を有する磁気ディスク用ガラス基板の製造方法において、化学強化工程後のガラス基板の冷却時に発生する微小うねりを抑制し、ヘッドクラッシュ及びサーマル・アスペリティといった障害を防止しつつ磁気ヘッドの低フライングハイト化を図り高密度情報記録が可能であって、特に、携帯情報機器用の小型の磁気ディスクに適用して好適な磁気ディスク用ガラス基板を提供する。
【解決手段】化学強化工程後の冷却工程において、化学強化塩よりも固化温度の低い物質が融解された処理液にガラス基板を接触させる冷却処理を行う。処理液の温度は、化学強化工程における化学強化塩融解液の温度よりも低く調整しておく。 （もっと読む）

【課題】破壊強度を高めつつ、基板表面上に形成される金属層との密着強度を高めることが可能な磁気記録媒体用ガラス基板を提供する。
【解決手段】円盤状の磁気記録媒体用ガラス基板１は、内部に非化学強化層（引張り応力層）２が形成され、内周端面１ｃに化学強化層３ｃ（圧縮応力層）が形成され、外周端面１ｄに化学強化層３ｄが形成されている。主表面（上面１ａ及び下面１ｂ）には化学強化層は形成されていない。このように基板の端面に化学強化層が形成されていることで、基板内部における引張り応力と圧縮応力とのバランスがとれるため、ガラス基板の破壊強度を高めることができる。また、上面１ａ及び下面１ｂには化学強化層が形成されていないため、上面１ａ又は下面１ｂの上に形成されるニッケル合金層とガラス基板との密着強度を高めることが可能となる。 （もっと読む）

【課題】破壊強度を高めることが可能な磁気記録媒体用ガラス基板及びその製造方法を提供する。
【解決手段】図１（ａ）に示すガラス基板１を用意する。ガラス基板１に対して化学強化処理を施すことにより、図１（ｃ）に示すように、表面に化学強化層４が形成されたガラス基板２を作製する。内部には非化学強化層３が存在する。次に、ガラス基板２の主表面を研磨して主表面の化学強化層を薄くする。これにより、ガラス基板内部の圧縮応力と引張り応力とのバランスがとれて、破壊強度が高くなる。 （もっと読む）

【課題】本発明は、酸性溶液での洗浄処理やテクスチャ処理の後に行なわれる洗浄処理において、ガラス基板に付着した塵埃を確実に除去しながらも、その洗浄時間の短縮により生産性の向上を図ることができる技術を提供することを目的としている。
【解決手段】本発明に係る磁気ディスク用ガラス基板の洗浄方法の代表的な構成は、ガラス基板３を、酸性溶液を用いて洗浄した後に、さらに炭酸ガス溶液２で洗浄することを特徴とする。これにより、洗浄時間を短縮しながらもガラス基板に付着した塵埃を確実に除去することができる。 （もっと読む）

【課題】充分な機械的強度があり、かつガラス基板上の金属磁性膜の腐食を改善する磁気ディスク基板用ガラスを提供する。
【解決手段】組成が質量％表示で実質的に、ＳｉＯ_２ ５０〜６５、Ａｌ_２Ｏ_３ ５〜１５、Ｎａ_２Ｏ ２〜７、Ｋ_２Ｏ ４〜９、Ｎａ_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏ ７〜１４、ＭｇＯ ０．５〜５、ＣａＯ ２〜８、ＭｇＯ＋ＣａＯ ２．５〜１０、ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ １２〜２５、ＺｒＯ_２ １〜６、からなる磁気ディスク基板用ガラス。 （もっと読む）

【課題】 薄膜であっても材料の撓みが少なくて下部液晶画面への接触を確実に防止することができる、携帯電話の表示部や各種機器のデジタル表示部等を保護するためのカバーシート用ガラスを提供すること。
【解決手段】 主成分としてSiO₂：６０〜７５WT%、Al₂O₃：２〜８WT%、Na₂O：１０〜１８WT%、K₂O：１〜５WT%、CaO：４〜１０WT%、B₂O₃：1〜５WT%、MgO：１〜５WT%からなるガラスを化学強化処理したカバーシート用ガラス。また、ガラス中に成形性向上成分として、フッ素、砒素、アンチモンの１種または２種以上を添加することもできる。得られたガラスは、表面に10μm以上の化学強化層が形成されて、10kg/mm²以上の表面圧縮応力値を有しており撓みにくく、かつ傷も付きにくいものである。 （もっと読む）

【課題】 端面部分の形状、両主表面の平行度及び板厚の均一性が良好な磁気ディスク用ガラス基板を低廉なコストにより提供し、廉価な磁気ディスク用ガラス基板及び磁気ディスクを大量に提供する。
【解決手段】 円柱状ガラス母材３をその中心軸に対して垂直に切断処理してガラスディスクを作製する工程を含む磁気ディスク用ガラス基板の製造方法であって、円柱状ガラス母材３の側面部は、前記工程時に、砂目または梨地面となっている。 （もっと読む）

【課題】反り及びチッピングが発生するのを抑制することができるとともに平坦度を向上させることができ、さらに洗浄回数を低減することができる情報記録媒体用ガラス基板の製造方法及び情報記録媒体用ガラス基板を提供する。
【解決手段】情報記録媒体用ガラス基板は、ガラス素板１１が形状加工１２により円盤状に形成された後、化学強化処理２２により化学強化される。次に洗浄処理１６により洗浄された後、ラップ研磨加工１５等が施される。ラップ研磨加工１５等では、ガラス素板１１の表側の主表面と、裏側の主表面とで同じ研磨量となるように一対の定盤を用いてガラス素板１１の表面を研磨する。 （もっと読む）

【課題】 化学強化工程を有する磁気ディスク用ガラス基板の製造方法において、ガラス基板の表層部における圧縮応力の分布が一様となるようにして、ヘッドクラッシュ及びサーマル・アスペリティといった障害を防止しつつ磁気ヘッドの低フライングハイト化を図り高密度情報記録が可能であって、特に、携帯情報機器用の小型の磁気ディスクに適用して好適な磁気ディスク用ガラス基板を提供する。
【解決手段】 化学強化工程において、ガラス基板中のイオンよりもイオン半径の大きい第１のイオンを含有する第１の処理液（化学強化処理液）にガラス基板を接触させる第１工程と、ガラス基板中のイオンとのイオン交換の速度が第１のイオンよりも速い第２以降のイオンを含有する第２以降の化学強化処理液にガラス基板を接触させてイオン交換を減速させる第２以降の工程とを有する。 （もっと読む）

【課題】 化学強化工程を有する磁気ディスク用ガラス基板の製造方法において、ガラス基板の表層部における圧縮応力の分布が一様となるようにして、ヘッドクラッシュ及びサーマル・アスペリティといった障害を防止しつつ磁気ヘッドの低フライングハイト化を図り高密度情報記録が可能であって、特に、携帯情報機器用の小型の磁気ディスクに適用して好適な磁気ディスク用ガラス基板を提供する。
【解決手段】 化学強化工程において、板状ガラス中のアルカリ金属イオンよりもイオン半径の大きい第１のイオンを含有する化学強化処理液にガラス基板を接触させる第１工程と、２価イオンである第２以降のイオンを含有する処理液に板状ガラスを接触させる第２以降の工程とを有する。 （もっと読む）

【課題】 磁気ディスク用ガラス基板の端面部分の良好な研磨を低廉なコストにより実現し、耐衝撃牲に優れ、例えば、外径が３０ｍｍ以下のような小型化が可能であり、また、「ＬＵＬ方式」のハードディスクドライブに搭載され得る磁気ディスク用ガラス基板及び磁気ディスクを廉価に大量に提供する。
【解決手段】 円柱状のガラス母材３をこのガラス母材３の中心軸に対して垂直に切断処理してガラスディスクを作製する工程を含む磁気ディスク用ガラス基板の製造方法において、ガラス母材３の側面の研磨、または、鏡面加工を行い、ガラス母材３の側面の化学強化処理を行ってから、切断処理を行う。 （もっと読む）

【課題】 ガラス基板を機械的に研磨し、弗酸と蓚酸とを含む混合液で研磨後のガラス基板をエッチングした後のガラス基板表面に残存する付着物を除去することを目的とする。
【解決手段】 ガラス基板の表面を機械的に研磨し、更に、弗酸の濃度が０．０１重量％〜０．５重量％で蓚酸の濃度が１重量％〜５重量％の弗酸と蓚酸とを含む混合液で、研磨後のガラス基板をエッチングする。これにより、微小うねりの高さＷａが３Å以下で、表面平均粗さＲａが６〜１０Åのガラス基板が作製され、ガラス基板表面１ａにテクスチャー５が良好に形成される。そしてエッチング後のガラス基板を、濃度が０．０５重量％〜３重量％の水酸化ナトリウム水溶液、又は、濃度が０．０５重量％〜３重量％の水酸化カリウム水溶液に浸漬する。これにより、エッチング後のガラス基板表面１ａに残存する付着物を除去することができる。 （もっと読む）

【課題】磁気ディスク用ガラス基板において、基板表面を腐食することなく、基板表面に付着した酸化鉄系の異物等の基板表面に強固に付着した金属酸化物系の異物自体を速やかに溶解除去し、あるいは異物の付着力を弱め除去し易くして、基板表面を高度に清浄化する基板表面の洗浄液及び洗浄方法を提供する。
【解決手段】ガラス基板の洗浄処理を含む磁気ディスク用ガラス基板の製造方法であって、
前記洗浄処理は、チオグリコール酸又はチオグリコール酸誘導体などの官能基にチオール基を含む化合物を含有する洗浄液とガラス基板とを接触させる処理を含むことを特徴とする、磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。 （もっと読む）

【課題】 酸処理により容易に高清浄度、高平滑性が得られる情報記録媒体用ガラス基板を提供する
【解決手段】 酸処理後のアルカリ洗浄において基板の平滑性（表面平均粗さ）をＲa＜０．３ｎｍに保つためには、耐酸性の指標として、基板用ガラスの温度50℃における0.1重量％フッ酸水溶液によるエッチングレートが45nm／min以下であることが必要である。 （もっと読む）

【課題】
抗折強度が高く、経時破損も起こすことのない、ＨＤＤなどの磁気ディスク装置に搭載される磁気ディスク等に好適なガラス基板を製造するための、磁気ディスク用ガラス基板の処理方法、および当該ガラス基板を用いた磁気ディスクを提供する。
【解決手段】
リチウムイオンを含有するアモルファスなアルミノシリケートガラスからなるガラス基板を鏡面研磨した後、１度目の処理として、３８０℃の硝酸ナトリウム溶融塩の処理剤へ当該ガラス基板を２時間浸漬し、２度目の処理として、３８０℃の硝酸カリウム溶融塩の処理剤へ当該ガラス基板を２時間浸漬した後、洗浄して磁気ディスク用ガラス基板を得た。この磁気ディスク用ガラス基板上へ適宜な方法により、磁性層等を形成し、抗折強度が高く、ＬＵＬ耐久性にも優れた磁気ディスクを得た。 （もっと読む）

【課題】 ソーダライム系ガラスを使用して優れた熱加工性を保ちながら、ナトリウムと蛍光体の反応、水銀アマルガムの形成を防止し、長寿命な蛍光灯を提供する。
【解決手段】 水銀または水銀の合金の蒸気を含有する気体を封入するためのソーダライムシリカガラスで構成される蛍光灯用ガラス容器において、容器を所定の形状に成形したのち、カリウムを含む溶融塩に接触させることにより、容器内表面の少なくとも一部においてガラス表面近傍のナトリウムをカリウムに置換する。 （もっと読む）