【課題】 化学強化後に研磨を行う場合であっても、化学強化液の経時変化によらず、寸法精度を維持可能なガラス基板の製造方法を提供する。
【解決手段】本発明のガラス基板１の製造方法においては、ガラス基材１ａをイオンを含む溶液である化学強化液５９に浸漬して、ガラス基材１ａの表面のイオンを化学強化液５９のイオンと置換することにより化学強化を行い、その後に、化学強化を行ったガラス基材１ａの主表面７ａ、７ｂを研磨する。
ここで、上記研磨工程では、化学強化液５９の組成の変化に応じて、研磨量を変化させて研磨を行う。 （もっと読む）

【課題】 化学強化後に研磨を行う場合であっても、化学強化液の経時変化によらず、寸法精度を維持可能なガラス基板の製造方法を提供する。
【解決手段】本発明のガラス基板１の製造方法においては、ガラス基材１ａをイオンを含む溶液である化学強化液５９に浸漬して、ガラス基材１ａの表面のイオンを化学強化液５９のイオンと置換することにより化学強化を行い、その後に、化学強化を行ったガラス基材１ａの主表面７ａ、７ｂを研磨する。
ここで、化学強化工程においては、化学強化液５９の組成の変化に応じて、化学強化の条件を変化させて化学強化を行う。 （もっと読む）

【課題】薄型化、軽量化が可能で、機械的強度や透明性が高く、しかも短時間で製造可能な携帯型液晶ディスプレイ用ガラス基板及びその製造方法並びにこれを用いたディスプレイを提供する。
【解決手段】ＳｉＯ₂を４０〜７０重量％、Ａｌ₂Ｏ₃を０．１〜２０重量％、Ｎａ₂Ｏを３〜２０重量％含有し、Ｌｉ₂Ｏを含有しないガラス材料で形成されたガラス基板の表面に化学強化処理により深さ５０μｍ以上の圧縮応力層を形成する。 （もっと読む）

【課題】垂直磁気記録方式等、次世代の情報記録媒体基板用途としての物性を備え、とりわけ、動的な環境下での使用を前提とした次世代の情報記録媒体用基板として適用しうるガラス基板を提供すること。特に本発明の目的は基板表面の硬度が十分に高く、比重と機械的強度のバランスを備え、高速回転化や落下衝撃に耐え得る高強度を有し、砒素成分やアンチモン成分を実質的に使用せずともガラス素地の泡やプレス時のリボイルの発生がなく、ダイレクトプレス法に適した生産性の高い情報記録媒体用ガラス基板を提供すること。
【解決手段】 酸化物基準の質量％で、ＳｉＯ_２：５２〜６７％、およびＡｌ_２Ｏ_３：３〜１５％、およびＰ_２Ｏ_５：０．２〜８％、の各成分を含有し、ヤング率が８５ＧＰａ以上であり、比重が、２．６０以下であり、ヤング率の比重に対する比（ヤング率／比重）が３３．０以上であることを特徴とする情報記録媒体用ガラス基板。 （もっと読む）

【課題】複合型光学素子において基材や樹脂の種類および組み合わせ、さらには形状等に制約を生じることなく、温度や湿度等の環境変化における基材ワレやクラックを防止する。
【解決手段】ガラス基材１１の光学機能面１１ａに成形樹脂層１３を被着した構成の複合型光学素子１０において、成形樹脂層１３が被着される光学機能面１１ａの表面に所定の厚さの圧縮応力層、または所定の深さに異質相を形成してマイクロクラックの生成や成長を抑制することで、ガラス基材１１や成形樹脂層１３の形状や素材の組合せに制約を受けることなく、ガラス基材１１の温度や湿度等の環境変化における基材ワレやクラックを防止する。 （もっと読む）

【課題】薄くても非常に高い強度を持つガラス基材及びその製造方法を提供すること。
【解決手段】本発明のガラス基材は、加熱した化学強化用の熔融塩にガラス基板を浸漬す
ることにより、前記ガラス基板のイオンを前記熔融塩のイオンでイオン交換して前記ガラ
ス基板を化学強化し、前記化学強化により前記ガラス基板の主表面に形成されたイオン交
換層を除去することにより製造される。 （もっと読む）

本発明は、第１の自由表面と第２の自由表面とを含む平板無機ガラスであって、第１及び第２の自由表面の間の平板ガラス本体内に形成した、第１の自由表面からの深さが１〜１０００μｍの、高屈折率（ｎ₂）を有する領域の群と低屈折率（ｎ₁）を有する領域の群とを含んでいる平板無機ガラスに関する。前記高屈折率の領域と低屈折率の領域とは、第１及び第２の自由表面の間でガラス本体を横切る方向に交互に位置しており、高屈折率の領域は第１の自由表面から第２の自由表面に向かって広がっており、そしてそれらの面が第１の自由表面に対して少なくとも６５°の角度（θ）を成す高屈折率領域を包囲している。
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【課題】ガラス基板の端面のクラックを十分に低減することができる磁気ディスク用ガラス基板の製造方法を提供することを課題とする。
【解決手段】ガラス基板の端面を機械研磨した後に、キャリアで保持した状態でガラス基板の主表面を研磨し、その後に、ガラス基板の端面をエッチングし、その後に、キャリアを用いない枚葉研磨により再度主表面の研磨をすることとした。この方法により、ガラス基板のエッチングにより、端面の機械研磨によるガラス基板端面のクラックとキャリアとの接触によるガラス基板端面のクラックを除去し、枚葉研磨により、エッチングによるガラス基板の主表面の荒れを除去することができる。 （もっと読む）

【課題】必要な強度を備え、遊離砥粒を用いた加工を経ることなく、固定砥粒による加工を可能とする磁気ディスク用ガラス基板製造用ガラス素材を提供する。
【解決手段】板状のガラス素材の表層に脆性処理層が形成されている磁気ディスク用ガラス基板製造用ガラス素材である。上記脆性処理層は引張り応力層である。このような磁気ディスク用ガラス基板製造用ガラス素材は、板状のガラス素材の表層にイオン交換法によって引張り応力層を形成することにより得られる。 （もっと読む）

【課題】ガラス表面を改良し、タッチパネルの操作性を向上させ、更にはガラスの機械的強度を高めること。
【解決手段】本発明のタッチパネル用ガラスの製造方法は、ガラス表面の全部または一部の表面粗さＲａを３〜５００００Åにする粗面化工程を含むことを特徴とする。 （もっと読む）

それを超えるとガラスが脆弱性を示す限界値より低い中央張力を有する強化ガラス物品。中央張力は、ガラスの厚さと共に非直線的に変化する。ガラスは、携帯電話等のような携帯用または手持ち式装置のためのカバープレートまたはウィンドウとして使用してもよい。
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ガラスを化学強化する方法である。この方法は、第１の浴中におけるイオン交換に続き第２の浴中に浸すことを含む。上記第１の浴は流出イオンで希釈される。上記第２の浴は上記第１の浴よりも低い流出イオン濃度を有する。この方法は、高信頼性を目指して十分に深い圧縮応力の層の深さを有しながら、ガラスの表面における力の接触によって傷が誘発されるのを阻止するのに十分な圧縮応力を上記表面に提供する。
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【課題】製造工程が簡単であり、寸法精度や機械的強度に優れたガラス基材を得ることができるガラス基材の製造方法を提供すること。
【解決手段】本発明のガラス基材の製造方法は、板状のガラス基板の主表面上に、印刷法により、前記ガラス基板のエッチャントに対してエッチング耐性を有する樹脂パターンを形成する工程と、前記樹脂パターンをマスクとして、前記ガラス基板のエッチングが可能なエッチャントで前記ガラス基板をエッチングにより所望の形状に切り抜く工程と、前記ガラス基板上に形成された前記樹脂パターンを除去する工程と、を有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】人体及び環境に対して悪影響をおよぼす砒素成分やアンチモン成分を実質的に使用せずとも、垂直磁気記録方式等に代表される次世代の情報記録媒体基板用途としての物性を備えた結晶化ガラスを提供すること。とりわけ、高速回転化や落下衝撃に耐え得る高強度を有し、各ドライブ部材に合致する熱膨張特性や化学的耐久性をも兼ね備えた、溶融温度が低く、プレス成形等に適した生産性の高い情報記録媒体用ディスク基板用等の結晶化ガラスを提供すること。
【解決手段】酸化物基準において、ＳｉＯ_２成分、Ｌｉ_２Ｏ成分、Ａｌ_２Ｏ_３成分を含有し、結晶相として二ケイ酸リチウムを含有し、Ｓｎ、Ｃｅ、Ｍｎ、Ｗ、Ｔａ、Ｂｉ、Ｎｂ、Ｓ、Ｃｌ、およびＦから選ばれる１種以上の元素を含有することを特徴とする結晶化ガラス。 （もっと読む）

【課題】反り及びチッピングが発生するのを抑制することができるとともに平坦度を向上させることができ、さらに洗浄回数を低減することができる情報記録媒体用ガラス基板の製造方法を提供する。
【解決手段】情報記録媒体用ガラス基板は、ガラス素板１１が形状加工１２により円盤状に形成された後、化学強化処理２２により化学強化される。次に洗浄処理１６により洗浄された後、ラップ研磨加工１５、第１研磨加工２０、第２研磨加工２１が施される。ラップ研磨加工１５等では、ガラス素板１１の主表面に形成された強化層２５の厚みの半分以上を除去すべく一対の定盤を用いてガラス素板１１の主表面を研磨する。 （もっと読む）

【課題】端面において極端に突出する部分がなく、しかも機械的強度が高いガラス基材及びその製造方法を提供すること。
【解決手段】本発明のガラス基材１は、板状のガラス基板の主表面に形成したレジストパターンをマスクとして、前記ガラス基板のエッチングが可能なエッチャントで前記ガラス基板をエッチングすることにより所望の形状に切り抜いてガラス基材１を得て、このガラス基材１の端面１３に対して、該ガラス基材表面が軟化し得る熱エネルギーを局所的に加えることにより得られることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】端面において極端に突出する部分がなく、しかも機械的強度が高いガラス基材及びその製造方法を提供すること。
【解決手段】本発明のガラス基材は、板状のガラス基板をエッチングすることにより所望の形状に切り抜かれてなり、一対の主表面及び端面を持つガラス基材であって、断面視において、それぞれの主表面と前記端面とで構成される２つのエッジ部を結ぶ第１仮想線に対する、前記端面において最も突出する頂部からの最短距離Ｌと、前記ガラス基材の厚さＤとの関係がＬ≦Ｄ／２を満足することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】面内磁気記録方式および垂直磁気記録方式の何れにおいても、高密度記録のためのランプロード方式にも十分対応し得る良好な表面特性を兼ね備え、高速回転化、衝撃に耐え得る高強度を有し、各ドライブ部材に合致する熱膨張特性や耐熱性をも兼ね備えた、溶融温度が低く生産性に優れ、かつ、素材からのアルカリ溶出量の低減、すなわち化学的耐久性に優れた情報記録媒体用ディスク基板用等の結晶化ガラスを提供する。
【解決手段】酸化物基準において、ＳｉＯ_２成分、Ｌｉ_２Ｏ成分を含有し、質量％で、ＳｒＯ成分およびＢａＯ成分から選ばれるいずれか１種以上の合計量が３．５％を超え１５％以下であり、結晶相として二ケイ酸リチウム、モノケイ酸リチウム、α−石英、α−石英固溶体、β−石英固溶体の中から選ばれる少なくとも１種以上を含有することを特徴とする結晶化ガラス。 （もっと読む）

【課題】化学強化処理による圧縮応力層を十分に残しながら、基板端部の形状を十分にコントロールし得る磁気ディスク用ガラス基板の製造方法及び磁気ディスクの製造方法を提供すること。
【解決手段】磁気ディスク用ガラス基板１の化学強化処理を行う化学強化工程の後に磁気ディスク用ガラス基板１の端部形状が変化する化学強化後研磨工程を実行する磁気ディスク用ガラス基板１の製造方法及び磁気ディスクの製造方法において、化学強化工程は、化学強化後研磨工程後における端部形状と該端部形状の目標形状との差分が化学強化後研磨工程によって取り除かれる形状を残す制御を行うこととした。 （もっと読む）

【課題】 磁気ヘッドと磁気ディスクとのトラックずれを防止することにより、少なくとも面記録密度が１００ギガビット／平方インチを達成し得る磁気ディスク、あるいはハードディスクドライブに確実に固定できるモバイル用途のハードディスクに特に好適な磁気ディスクを与えることのできる磁気ディスク用ガラス基板の製造方法、および磁気ディスクを提供する。
【解決手段】 中心部に円孔が形成されたディスク状ガラス基板を化学強化処理液に浸漬し、前記ガラス基板表面に含まれる相対的に小さなイオンを、化学強化処理液に含まれる相対的に大きなイオンとイオン交換することにより、当該ガラス基板表面に圧縮応力層を創生する化学強化処理工程を含む磁気ディスク用ガラス基板の製造方法であって、当該ディスク状ガラス基板中心部に形成された前記円孔の変形量が、円孔直径の０．０５％以内になり、かつ当該ディスク状ガラス基板の抗折強度が９８Ｎ以上になるように化学強化処理する磁気ディスク用ガラス基板の製造方法およびこの方法で得られた磁気ディスク用ガラス基板の表面に、磁気記録層を有する磁気ディスクである。 （もっと読む）