【課題】面粗さの小さい基板として適当なＴｉＯ_２−ＳｉＯ_２ガラスの提供。
【解決手段】ＴｉＯ_２濃度が１〜１２質量％のシリカガラスであり、かつ、ＴｉＯ_２濃度の最大値と最小値との差が、少なくとも一つの面内における３０ｍｍ×３０ｍｍの範囲で０．０６質量％以下であることを特徴とするＴｉＯ_２を含有するシリカガラス。 （もっと読む）

【課題】無欠陥かつ高い平坦性を有する低膨張のチタニアをドープ石英ガラスの製造方法を提供する。
【解決手段】ケイ素源原料ガス及びチタン源原料ガスを混合し、２００〜４００℃で加熱した後、可燃性ガス及び支燃性ガスにより酸化又は火炎加水分解させることを特徴とするチタニアドープ石英ガラスの製造方法。表面に体積３０，０００ｎｍ³以上の凹状欠陥がないＥＵＶリソグラフィ用部材、特にＥＵＶリソグラフィフォトマスク用基板として好適なチタニアドープ石英ガラスを得ることができる。 （もっと読む）

【課題】コアとクラッド内のアルカリ金属酸化物ドーパントの濃度を適切に選択することによって、低損失光ファイバおよびその製造方法と装置を提供する。
【解決手段】光ファイバを製造する方法であって、Ｋ2Ｏからなるアルカリ金属酸化物を２０から１０００ｐｐｍのピーク濃度で有してなる第１のガラスロッドを形成し、前記第１のガラスロッドを、光ファイバ・プリフォームの中心孔中に挿入して、複合プリフォームを形成することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】紫外線を照射することにより遅延蛍光を発生するシリカガラス及び遅延蛍光を利用したシリカガラス製紫外線センサーを提供する。
【解決手段】合成シリカガラスにおいて、ＯＨ基含有量が１ｐｐｍ以下であり、塩素の含有量が３０ｐｐｍ以下で、厚さ２ｍｍの波長１９０ｎｍでの透過率が５０％以下であり、１２８０℃での粘度（Ｌｏｇη）が１２．０poise以上であり、低圧水銀ランプの２５４ｎｍの紫外線を照射した場合に４００ｎｍ〜６５０ｎｍの可視光領域に０．０１秒以上の遅延蛍光を発生するようにした。 （もっと読む）

【課題】ナノインプリントリソグラフィ用モールド基材として使用した場合に、寸法のばらつきが±１０％以内の凹凸パターンを形成することができるＴｉＯ2含有石英ガラス基板の提供。
【解決手段】１５〜３５℃における熱膨張係数が±２００ｐｐｂ／℃以内であり、ＴｉＯ₂濃度が４〜９ｗｔ％であり、転写パターンを形成する側の基板表面から深さ５０μｍまでの表面近傍領域におけるＴｉＯ₂濃度分布が、±１ｗｔ％以内であることを特徴とするＴｉＯ₂含有石英ガラス基板。 （もっと読む）

【課題】光学クラッド部に含まれる塩素濃度を多くして光ファイバの伝送損失を低く抑えることができる光ファイバ及び光ファイバ用ガラス母材の製造方法を提供する。
【解決手段】光ファイバ１はコア２とクラッド５を含み、コア２はゲルマニウムを含まない石英ガラスからなり、クラッド５は、コア２の外周に位置する光学クラッド部３と、光学クラッド部３の外周に位置するジャケット部４を有し、光学クラッド部３は、フッ素を０．４５質量％以上１．５０質量％以下含有するとともに、塩素を平均濃度２７０ｐｐｍ以上２０００ｐｐｍ以下含有する。 （もっと読む）

【課題】より均一な濃度分布を有する金属ドーパントを含有する石英ガラス体を製造する方法を提供する。
【解決手段】ケイ素化合物と、ドーパントとなる金属を含む化合物と、をバーナーの火炎中で加水分解してガラス微粒子を生成し、生成したガラス微粒子を基材に堆積、成長させる工程を含むガラス体を製造する方法であって、ケイ素化合物のガス、ドーパントとなる金属を含む化合物のガス、並びに、可燃性ガス及び支燃性ガスのうちの一方を含む、原料混合ガスをバーナーの中央に位置する中央ノズル（Ａ）に供給し、可燃性ガス及び支燃性ガスのうちの他方のガスを、バーナーの中央ノズルとは異なるノズル（Ｂ）に供給し、さらにノズル（Ａ）、（Ｂ）とは異なるノズルに、任意に可燃性ガス又は支燃性ガスを供給することからなり、原料混合ガスの流速は、中央ノズル（Ａ）以外のノズルから供給される可燃性ガス又は支燃性ガスのうち、最大の流速のものの５０％以上９０％以下であることを特徴とする、ガラス体を製造する方法を開示する。 （もっと読む）

【課題】多孔質ガラス体へのフッ素の導入を４００℃以下の低温で実施ができ、かつ安定して、最終的に得られる合成石英ガラスのフッ素濃度を１０００質量ｐｐｍ以上とすることができる合成石英ガラスの製造方法を提供する。
【解決手段】（ａ）ガラス形成原料を火炎加水分解して得られる石英ガラス微粒子を、基材に堆積、成長させて、多孔質ガラス体を形成する工程と、（ｂ）多孔質ガラス体を、反応槽内にて、圧力Ｐ_ｂ１および温度４００℃以下のフッ素単体（Ｆ_２）含有雰囲気下に保持し、ついで、同反応槽内にて、前記圧力Ｐ_ｂ１よりも低い圧力Ｐ_ｂ２および温度４００℃以下の条件下に保持して、フッ素を含有した多孔質ガラス体を得る工程と、（ｃ）フッ素を含有した多孔質ガラス体を、ガラス化炉内にて、透明ガラス化温度まで加熱して、フッ素を含有した透明ガラス体を得る工程とを有する合成石英ガラスの製造方法。 （もっと読む）

【課題】ＥＵＶＬ用露光装置の光学系部材として使用した場合に、室温における熱膨張係数がほぼゼロとなり、ガラスから水素を放出させることで多層膜の物性を長時間維持させることが可能なＴｉＯ₂−ＳｉＯ₂ガラスの提供。
【解決手段】仮想温度が１１００℃以下であり、水素分子濃度が５×１０^１７分子／ｃｍ^３以上であり、線熱膨張係数が０ｐｐｂ／℃となる温度が１２〜４０℃の範囲にあることを特徴とするＴｉＯ₂を含有するシリカガラス。 （もっと読む）

発明の一例にしたがえば、光ファイバは、(ｉ)Ａｌドープシリカを含むが、ＥｒまたはＹｂは実質的に含まない、第１の屈折率ｎ_１を有するコア、(ii)コアを囲む、ｎ_１＞ｎ_２であるような、第２の屈折率ｎ_２を有する、少なくとも１つのＦドープシリカ系クラッド層であって、実質的にＳｉＯ_２及び０.２５〜５重量％のＦを含むクラッド層、(iii)クラッド層を囲む気密炭素系コーティングであって、厚さが２００〜１０００Åである気密コーティング、及び(iv)気密コーティングを囲む第２のコーティングであって、厚さが５μｍから８０μｍである第２のコーティング、を有する。
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【課題】９００℃，１００時間の熱処理によるＯＨ基濃度の減少量が１００ｐｐｍ以下であることを特徴とするチタニアドープ石英ガラス、及びその製造方法を提供する。
【解決手段】火炎加水分解により合成微粒子を回転するターゲット上に堆積すると同時に溶融ガラス化してチタニアドープ石英ガラスを製造する方法において、バーナーの中心管に供給される酸素ガスがケイ素源原料ガス及びチタン源原料ガスの和のモル比で５以上であること、水素ガスがバーナーの一又は複数の水素ガス供給管から噴射されるに際しての線速がそれぞれ１００ｍ／ｓｅｃ以下であること、各ガスの供給流量の変動を±１％以内に制御すると共に、炉内に吸入する空気、炉からの排気及び炉周囲の外気の各々の温度の変動を±２．５℃以内に制御して、上記ターゲットを５ｒｐｍ以上の回転数で回転させ、上記微粒子をターゲット上に付着させるようにした製造条件による。 （もっと読む）

一定の外面形状を有し、反射コーティングが設けられるように意図され、かつミラー基板を意図されるように使用する際に高い負荷を受ける帯域として規定される、表面区域（surface region）を有する、ＥＵＶリソグラフィに使用されるミラー基板用の、高シリカ含有量を有するチタンドープガラス（ガラス）のブランクを製造する既知の方法に基づき、低コストで製造することができるにもかかわらず、均一性並びにブリスタ及び脈理がないことについて高い要件を満たすブランクを提供するために、（ａ）外面形状を包含するのに十分な大きさよりも大きい寸法を有するチタンをドープした高品質のガラスの前部体を作製する方法工程と、（ｂ）チタンドープガラスから円筒形の支持用基体（supporting body）を作製する方法工程と、（ｃ）前部体と支持用基体とを結合させる方法工程であって、複合体を形成する、前部体と支持用基体とを結合させる方法工程と、（ｄ）複合体を加工する方法工程であって、ミラー基板用ブランクを形成する、複合体を加工する方法工程とを含む手法が提案され、ここで、前部体を作製する工程は、ケイ素含有化合物の火炎加水分解によってストランドの形態で得られる出発用基体（starting body）をねじり加工して、前部体ブランクを形成することを伴う均一化プロセスを含み、支持用基体は、前部体よりも均一性の低い一体構造のガラスブロックとして形成される。 （もっと読む）

【課題】面粗さの小さい基板として適当なＴｉＯ_２−ＳｉＯ_２ガラスの提供。
【解決手段】屈折率の変動幅（Δｎ）が、少なくとも一つの面内における３０ｍｍ×３０ｍｍの範囲で２×１０^−４以下であること、または、ＴｉＯ_２濃度が１質量％以上であり、かつ脈理ピッチが１０μｍ以下であることを特徴とするＴｉＯ_２を含有するＳｉＯ_２ガラス。ＴｉＯ_２を含有するシリカガラスからなり、屈折率の変動幅（Δｎ）が、光の入射方向に垂直な面において２×１０^−４以下であること、または、ＴｉＯ_２濃度が１質量％以上であるＴｉＯ_２を含有するシリカガラスからなり、光の入射方向に垂直な面において、ＴｉＯ_２濃度の最大値と最小値との差が、０．０６質量％以下である特徴とするＥＵＶリソグラフィ用光学部材。 （もっと読む）

【課題】 ガラス管の延伸加工において、高い製造効率を維持しつつ、紫外光透過率の低下を抑制することができる新規な方法を提供する。
【解決手段】 ガラス管１，２の内側３の圧力を外側４の圧力より高く保ち、その状態でガラス管１を加熱し軟化させて延伸し、所望の外径、内径、厚さをもったガラス管２に形成する。ガラス管１，２の内側３と外側４の少なくとも一方の雰囲気を、酸素含有雰囲気とする。 （もっと読む）

【課題】ＥＵＶＬ用露光装置の光学系部材として好適な、高ＥＵＶエネルギー光の照射時の線熱膨張係数がほぼゼロとなるＴｉＯ₂−ＳｉＯ₂ガラスの提供。
【解決手段】ハロゲン含有量が１００質量ｐｐｍ以上であり、仮想温度が１１００℃以下であり、２０〜１００℃の平均線熱膨張係数が３０ｐｐｂ／℃以下であり、線熱膨張係数が０±５ｐｐｂ／℃となる温度幅ΔＴが５℃以上であり、線熱膨張係数が０ｐｐｂ／℃となる温度が３０〜１５０℃の範囲にあることを特徴とするＴｉＯ₂を含有するシリカガラス。 （もっと読む）

【課題】ＥＵＶＬ用露光装置の光学系部材として好適な熱膨張特性を有するＴｉＯ₂−ＳｉＯ₂ガラスの提供。
【解決手段】ＴｉＯ₂含有量が３〜９質量％であり、熱膨張係数が０ｐｐｂ／℃となる温度が１５〜３５℃の範囲にあり、仮想温度が８５０℃以下であり、熱膨張係数が０±５ｐｐｂ／℃となる温度幅が７．８℃以上であることを特徴とするＴｉＯ₂を含有するシリカガラス。 （もっと読む）

【課題】ＥＵＶＬ用露光装置の光学系部材として使用した場合に、高ＥＵＶエネルギー光の照射時の線熱膨張係数がほぼゼロとなり、かつ超高平滑性を有するＴｉＯ₂−ＳｉＯ₂ガラスの提供。
【解決手段】ＴｉＯ₂含有量が７．５〜１２質量％であり、線熱膨張係数が０ｐｐｂ／℃となる温度が４０〜１１０℃の範囲にあり、脈理の応力レベルの標準偏差（σ）が０．０３ＭＰａ以下であることを特徴とするＴｉＯ₂を含有するシリカガラス。 （もっと読む）

【課題】高温耐熱性、耐白色失透や耐黒色失透に優れ、作動電圧の上昇および再点弧スパイク電圧の発生が抑えられランプ使用寿命が長く保持できる上に、２３０ｎｍ以下の光線の内部透過率が３０％／ｃｍ以下の放電灯用合成シリカガラスを提供する。
【解決手段】放電灯用合成シリカガラスであって、そのＯＨ基濃度が５ｐｐｍ以下、Ｔｉ濃度が１ｐｐｍ〜５００ｐｐｍ、Ｔｉ以外の金属不純物濃度の総和が５５ｐｐｍ以下、２５０ｎｍでの酸素欠損型欠陥量が吸収係数で０．０１〜２／ｃｍ、１１００℃での粘度が１０^１４〜１０^１６ポアズで、かつ波長２３０ｎｍ以下の光線の内部透過率が３０％／ｃｍ以下であることを特徴とする放電灯用合成シリカガラス及びその製造方法。 （もっと読む）

【課題】金属不純物を含有させることなく、紫外域と赤外域の光線透過率を低下させ、且つ可視域の透過率が高い紫外線赤外線吸収合成シリカガラス及びその製造方法を提供する。
【解決手段】金属不純物濃度の総和が１ｐｐｍ以下であり、波長２５０ｎｍにおける酸素欠損型欠陥量が吸収係数で０．１〜２／ｃｍであり、波長２５０ｎｍ以下の光線の内部透過率が０％／ｃｍ以上８０％／ｃｍ以下であり、波長５００ｎｍから１１００ｎｍまでの光線の内部透過率が５０％／ｃｍ以上９２％／ｃｍ以下であり、波長１５００ｎｍ以上の光線の内部透過率が０％／ｃｍ以上８５％／ｃｍ以下であるようにした。 （もっと読む）

二重クラッド光ファイバは、シリカ系ガラスのコア、内側クラッドおよび外側クラッドを有してなる。コアは、約５μｍ未満の半径、および第１の屈折率ｎ₁を有し、活性希土類ドーパントは全く含んでいない。内側クラッドは、コアを取り囲み、少なくとも約２５μｍの半径方向厚さ、少なくとも約０．２５の開口数、およびｎ₂＜ｎ₁となるような第２の屈折率ｎ₂を有する。コアの内側クラッドに対する相対屈折率パーセント（Δ％）は、約０．１％より大きい。外側クラッドは、内側クラッドを取り囲み、約１０μｍから約５０μｍの半径方向厚さ、およびｎ₃＜ｎ₂となるような第３の屈折率ｎ₃を有する。内側クラッドの外側クラッドに対する相対屈折率パーセント（％）は、約１．５％より大きい。
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