【課題】高精細パターンを簡便に形成できる新規なパターン形成方法と、このようなパターン形成方法に好適なフォト沈降型組成物を提供する。
【解決手段】無機粉末の凝集沈降によりパターンを形成することを特徴とするパターン形成方法であって、無機粉末、分散媒、及び光酸発生剤を含むフォト沈降型組成物を基板上に塗布して塗膜を形成する工程と、得られた塗膜をパターン露光して無機粉末を凝集沈降させる工程と、現像する工程と、現像して得られたパターンを焼成する工程とを含むことを特徴とするパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】 光学設計の変更という負担を軽減しつつ、高温における揮発性を低減して生産性を向上することができるフツリン酸ガラスの製造方法を提供する。
【解決手段】 ガラス原料を調合し、前記原料を熔融してフツリン酸ガラスを作製するフツリン酸ガラスの製造方法において、第１のフツリン酸ガラスの組成を、光学特性を一定もしくは略一定に維持しつつ、Ｐ^５＋含有量に対するＯ^２−含有量のモル比Ｏ^２−／Ｐ^５＋を増加して３．５以上にした第２のフツリン酸ガラスの組成を定め、第２のフツリン酸ガラスの組成に基づきガラス原料を調合し、ガラスを生産することを特徴とするフツリン酸ガラスの製造方法である。 （もっと読む）

【課題】 フツリン酸ガラス固有の揮発性と侵蝕性を抑制するとともに、フィーダー外周へのガラス融液の濡れ上がりも抑制することにより、高品質のフツリン酸ガラスを提供する。
【解決手段】 ガラス成分として、リン、酸素およびフッ素を含むフツリン酸ガラスにおいて、塩素、臭素およびヨウ素の中から選ばれる１種以上のハロゲン元素を含み、Ｐ^５＋の含有量に対するＯ^２−の含有量のモル比Ｏ^２−／Ｐ^５＋が３．５以上であることを特徴とするフツリン酸ガラスである。 （もっと読む）

【課題】より高い屈折率を有すると共により成形性に優れた光学ガラスを提供する。
【解決手段】光学ガラスは、Ｂｉ₂Ｏ₃，Ｂ₂Ｏ₃,ＳｉＯ₂，Ａｌ₂Ｏ₃，ＺｎＯを含み、以下の条件式（１）および条件式（２）を満足する。但し、条件式（１），（２）において、Ｘは全体におけるＢｉ₂ Ｏ₃の含有率（重量％）であり、Ｙは全体におけるＢ₂ Ｏ₃の含有率（重量％）である。条件式（１）を満足することで結晶化が回避され、高い透明性が確保される。また、条件式（２）の下限を上回ることでｄ線に対する屈折率Ｎｄが１．９以上となり、条件式（２）の上限を下回ることでガラス化し易くなる。Ｘ＋Ｙ≧７５……（１）２．５＜Ｘ／Ｙ＜１３……（２） （もっと読む）

【課題】高温、例えば５００〜５５０℃で熱処理しても、高い機械的強度を維持することができ、且つ溶融性に優れた強化ガラスを得ること。
【解決手段】本発明の強化ガラスは、圧縮応力層を有する強化ガラスにおいて、ガラス組成として、モル％で、ＳｉＯ_２ ５０〜８０％、Ａｌ_２Ｏ_３ ４〜１６％、Ｂ_２Ｏ_３ ０〜５％、Ｎａ_２Ｏ ０．１〜２０％、Ｋ_２Ｏ ０〜１５％、ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ ０．５〜１３％含有し、実質的にＡｓ_２Ｏ_３、Ｓｂ_２Ｏ_３、ＰｂＯおよびＦを含有せず、且つモル比（ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ）／（Ｌｉ_２Ｏ＋Ｎａ_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏ）の値が０．０５〜２であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】高品質のフツリン酸ガラスを安定して供給するガラスの製造方法を提供する。
【解決手段】未ガラス化原料を含むガラス原料を熔融容器内に導入して、熔融するフツリン酸ガラスの製造方法において、前記未ガラス化原料が少なくともフッ素、酸素、リンを含み、未ガラス化原料中のリン原子の量Ｐに対する酸素原子の量Ｏのモル比Ｏ／Ｐを３．５以上にして熔融し、清澄、均質化することを特徴とするフツリン酸ガラスの製造方法である。 （もっと読む）

【課題】 異物混入を防止するとともに、揮発による特性変動を抑制し、一定条件の下に精密プレス成形によって光学素子を安定供給することができるプリフォームロットを提供する。
【解決手段】 ガラス成分として、リン、酸素およびフッ素を含むフツリン酸ガラスからなる複数の精密プレス成形用プリフォームによって構成されるプリフォームロットにおいて、Ｐ^５＋の含有量に対するＯ^２−の含有量のモル比Ｏ^２−／Ｐ^５＋が３．５以上であるフツリン酸ガラスからなる複数のプリフォームによって構成されるプリフォームロットである。 （もっと読む）

【課題】排気口の鉛直上方以外の位置に載置される場合であっても、良好に流動し、排気口を封止できる無鉛封止ガラスを作製し、信頼性が高い金属製真空二重容器を得る。
【解決手段】本発明の封止ガラスは、金属製真空二重容器に設けられた排気口を真空封止するための封止ガラスにおいて、真空封止工程で排気口の鉛直上方以外の位置に封止ガラスが載置される構造の金属製真空二重容器に用いられるとともに、実質的にＰｂ成分を含有せず、真空状態で３０℃から７００℃まで１５℃／分で昇温した時に発生する気体総量が９００〜７０００μＬ／ｃｍ³であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】化学的耐久性に非常に優れ、かつ４００ｎｍ付近の波長域を効率よく透過する近赤外線カットフィルタガラスを提供すること。
【解決手段】カチオン％表示で、Ｐ^５＋３５〜７５％、Ａｌ^３＋０．２〜２０％、Ｒ_１^＋０〜２０％（ただし、Ｒ_１^＋はＬｉ^＋、Ｎａ^＋及びＫ^＋の合計量）、Ｒ_２^２＋１〜３５％（ただし、Ｒ_２^２＋はＭｇ^２＋、Ｃａ^２＋、Ｓｒ^２＋及びＢａ^２＋の合計量）、Ｓｂ^３＋２〜１０％、Ｃｕ^２＋０．５〜１３％を含むとともに、アニオン成分として、アニオン％表示で、Ｆ⁻１０〜４５％及びＯ^２−５５〜９０％を含む近赤外線カットフィルタガラスである。 （もっと読む）

【課題】結晶化度が高いにもかかわらず、緻密な焼結体を得ることが可能な配線基板用ガラスセラミックス組成物及びガラスセラミックス焼結体を提供する。
【解決手段】焼成すると主結晶としてディオプサイド（ＣａＭｇＳｉＯ_６）、コージェライト（Ｍｇ_２Ａｌ_４Ｓｉ_５Ｏ_１８）、又はフォルステライト（Ｍｇ_２ＳｉＯ_４）を析出する性質を有する結晶性ガラス粉末を含む配線基板用ガラスセラミックス組成物であって、ガラス組成中にアニオン成分としてフッ素（Ｆ）を０．１〜３モル％含有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】フロートガラスの製造において、トップスペックおよびＢＯＳの数および大きさを減少させる。
【解決手段】溶融槽でガラスを溶融し、ガラス溶融物を、フロートバスハウジングにある液状のメタルバス上に注ぎ、ガラスリボンに成形し、フロートバスハウジングの自由内部空間に、水素を含有する保護ガスを導入し、フロートバスハウジングから導出する、板ガラスを製造する方法において、フロートバスハウジングのｍ^３の自由内部体積につき、少なくとも０．２Ｎｍ^３／ｍｉｎの保護ガスが導入される。ｔ_{ｍｉｔ，ｔｈｅｏ}≦１．２分の時間で、フロートバスハウジングにある保護ガス容積全体の完全な交換がなされる。 （もっと読む）

【課題】焼成時の収縮挙動を抑制しつつ、誘電特性を従来と比べて飛躍的に向上させることができ、しかも信頼性を確保できるようにした。
【解決手段】セラミック組成物は、Ｂ_２Ｏ_３−ＳｉＯ_２−Ａｌ_２Ｏ_３−ＭＯ系ガラス組成物（ただし、ＭはＣａ、Ｍｇ、Ｓｒ、及びＢａの中から選択された少なくとも１種を示し、Ｂ_２Ｏ_３：４〜１７．５重量％、ＳｉＯ_２：２８〜５０重量％、Ａｌ_２Ｏ_３：０〜２０重量％、ＭＯ：３６〜５０重量％である。）を２６〜６０重量％含有すると共に、ＳｒＴｉＯ_３及びＣａＴｉＯ_３のうちの少なくとも１種を３０〜６５重量％含有し、かつ、Ｃｕ、Ｍｎ、Ｚｎ、及びＣａの中から選択された少なくとも１種を含む金属酸化物が１０重量％以下（ただし、０重量％を含む。）に調製されている。このセラミック組成物を焼成してセラミック焼結体２を作製し、該セラミック焼結体２を有する複合ＬＣ部品２０を得る。 （もっと読む）

【課題】研磨加工によるプリフォーム材や光学素子の作製を行い易い光学ガラス及びガラス成形体の曇り低減方法を得る。
【解決手段】光学ガラスは、酸化物換算組成のガラス全物質量に対して、モル％でＳｉＯ_２成分を４４．０％以上６０．０％以下、Ｂ_２Ｏ_３成分を１４．０％以上３０．０％以下、ＢａＯ成分を１５．０％以上３５．０％以下、並びに、ＺｎＯ成分及び／又はＴｉＯ_２成分を必須成分として含有し、粉末法による化学的耐久性（耐水性）がクラス１〜３である。また、ガラス成形体の曇り低減方法は、ガラスに対して研磨を行うことで作製されるガラス成形体の曇り低減方法であって、研磨加工前のガラスにＺｎ成分及び／又はＴｉ成分を含む状態にするものである。 （もっと読む）

【課題】ヒ素やアンチモンの使用量を最少にして、無アルカリガラスの清澄を行う方法。
【解決手段】歪点が６４０℃以上でＡｓ₂Ｏ₃含有量が０．５質量％以下の無アルカリガラスを熔解時に清澄する方法であって、１．５質量％以下のＳｂ₂Ｏ₃、５．０質量％以下のＳＯ₃、２．０質量％以下のＦｅ₂Ｏ₃および５．０質量％以下のＳｎＯ₂からなる群から選ばれる１種以上の有効量と、５．０質量％以下のＣｌおよび５．０質量％以下のＦからなる群から選ばれる１種以上の有効量とを含有せしめて熔解、清澄する。 （もっと読む）

本発明は、ガラス材料を含み、電子装置ハウジング／エンクロージャまたは保護カバーとしての使用に適切なガラス物品に関する。特に、以下の特性を示すイオン交換されたガラスを含むハウジング／エンクロージャ／カバー：（１）１５ＭＨｚから３．０ＧＨｚまでの周波数範囲において０．０３未満の損失正接により定められるラジオおよびマイクロ波周波数透明性；（２）赤外線透明性；（３）０．６ＭＰａ・ｍ^１／２より大きい破壊靭性；（４）３５０ＭＰａより大きい４点曲げ強度；（５）少なくとも４５０ｋｇｆ／ｍｍ^２のビッカース硬度および少なくとも５ｋｇｆのビッカース中央／放射亀裂開始限界；（６）約５０から１００ＧＰａの間のヤング率；（７）２．０Ｗ／ｍ℃未満の熱伝導率；および（８）以下の特性の少なくとも１つ：（ｉ）２０μｍより大きい層の深さ（ＤＯＬ）および４００ＭＰａより大きい圧縮応力を有する圧縮表面層、または（ｉｉ）２０ＭＰａ以上の中央張力。 （もっと読む）

【課題】 熔融ガラスから高品質のガラスを成形するのに適した、さらには精密プレス成形に適した低分散光学ガラスを提供すること。
【解決手段】 必須のカチオン成分として、Ｐ^５＋およびＡｌ^３＋と、Ｍｇ^２＋、Ｃａ^２＋、Ｓｒ^２＋およびＢａ^２＋から選ばれる２価カチオン成分（Ｒ^２＋）を２種以上と、Ｌｉ^＋とを含み、カチオン％表示にて、
Ｐ^５＋ １０〜４５％、
Ａｌ^３＋ ５〜３０％、
Ｍｇ^２＋ ０〜２０％、
Ｃａ^２＋ ０〜２５％、
Ｓｒ^２＋ ０〜３０％、
Ｂａ^２＋ ０〜３３％、
Ｌｉ^＋ １〜３０％、
Ｎａ^＋ ０〜１０％、
Ｋ^＋ ０〜１０％、
Ｙ^３＋ ０〜５％、
Ｂ^３＋ ０〜１５％、
を含有するとともに、
Ｆ^-とＯ^２-の合計量に対するＦ-の含有量のモル比Ｆ^-／（Ｆ^-＋Ｏ^２-）が０．２５〜０．８５であるフツリン酸塩ガラスからなり、屈折率（Ｎ_ｄ）が１．４０〜１．５８、アッベ数（ν_ｄ）が６７〜９０であることを特徴とする光学ガラス。 （もっと読む）

【課題】中屈折率且つ低分散の光学定数を有し、ガラス転移温度Ｔｇが低く、クラック（き裂）が入りにくい光学ガラス、及び、かかる光学ガラスからなる光学素子を提供する。
【解決手段】Ｐ_２Ｏ_５：３５〜４５質量％（但し、４５質量％を含まない）、Ｂ_２Ｏ_３：０．５〜１０質量％（但し、１０質量％を含まない）、Ａｌ_２Ｏ_３：０〜１６質量％、ＳｉＯ_２：０〜２．５質量％、ＢａＯ：０〜２６質量％、ＳｒＯ：０〜２０質量％、ＺｎＯ：２３〜４９質量％、ＣａＯ：６〜２０質量％（但し、６質量％を含まない）、ＭｇＯ：０〜１６質量％、但し、ＢａＯ、ＳｒＯ、ＺｎＯ、ＣａＯ及びＭｇＯの合計含有量は５５質量％以下、Ｌｉ_２Ｏ：０〜１質量％（但し、１％を含まない）、Ｎａ_２Ｏ：３〜１９質量％、Ｋ_２Ｏ：０〜２０質量％、但し、Ｌｉ_２Ｏ、Ｎａ_２Ｏ及びＫ_２Ｏの合計含有量は２４質量％以下、の各ガラス成分を含有する。 （もっと読む）

【課題】特に研削研磨により表面を仕上げる場合に、良好な加工性を有する光学ガラスと、これを用いたガラス成形体及び光学素子を得る。
【解決手段】光学ガラスは、ＳｉＯ_２成分、Ｂ_２Ｏ_３成分、及びＢａＯ成分を含有し、ヌープ硬さが５５０Ｈｋ以上であるものである。ガラス成形体は、この光学ガラスからなるものである。また、光学素子は、この光学ガラスを母材とし、ガラス成形体をリヒートプレス成形することで作製されるものである。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、ナトリウム除去処理などの必要が無く、ナトリウム成分の溶出が無いガラス成形品を提供することにある。
【解決手段】本発明のガラス成形品は、Ｎａ_２Ｏ不含ガラスから構成されることを特徴とする。また、該Ｎａ_２Ｏ不含ガラスは、ＳｉＯ_２６４〜７４質量％、ＺｒＯ_２４〜１６質量％、Ｒ_２Ｏ（ただし、ＲはＬｉ、Ｋ、Ｃｓを示す）１０〜２２質量％、Ｒ’Ｏ（ただし、Ｒ’はＭｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａを示す）３〜１４質量％を主成分として含有してなり、Ｎａ_２Ｏが不添加であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】５００℃程度で仮焼成しても、ガラスに結晶が析出し難く、且つＰｂＯを含有しなくても、４５０〜５００℃で封着可能なビスマス系ガラス組成物および封着材料を創案すること。
【解決手段】本発明のビスマス系ガラス組成物は、ガラス組成として、下記酸化物換算のモル％で、Ｂｉ_２Ｏ_３ ３２〜５０％、Ｂ_２Ｏ_３ １０〜４０％、ＺｎＯ １０〜２９％、ＳｎＯ_２ ０．０５〜５％、ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ ０〜２０％含有することを特徴とする。 （もっと読む）