【課題】タブレット一体型排気管に結晶性ガラスタブレットを適用した場合において、結晶性ガラスタブレットが封着工程で軟化流動した後に、ガラスに結晶が析出するタブレット一体型排気管を得ることにより、平面表示装置等の製造効率を向上させること。
【解決手段】本発明のタブレット一体型排気管は、拡径された排気管の先端部に、結晶性ガラスタブレットが取り付けるとともに、結晶性ガラスタブレットの封着面の全部または一部を研磨面とすることに特徴付けられる。 （もっと読む）

【課題】プラズマディスプレイパネルの背面誘電体に無鉛無ビスマスガラスを用いてもレジスト剥離工程における背面誘電体焼成膜と未焼成隔壁の密着性が十分なものとなるようにする。
【解決手段】下記酸化物基準の質量百分率表示で、ＳｉＯ_２ ２０〜３０％、Ｂ_２Ｏ_３ １６〜２５％、ＺｎＯ ４０〜５０％、Ｌｉ_２Ｏ＋Ｎａ_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏ ２〜７％、Ａｌ_２Ｏ_３ ０〜５％、から本質的になるガラス粉末と、当該ガラス粉末１００質量部に対して３〜１０質量部の割合のＳｉＯ_２粉末とを含有するプラズマディスプレイパネル背面誘電体用ガラスセラミックス組成物。 （もっと読む）

【課題】真空層を有し断熱特性が優れる複層ガラスの製造方法を提供する。
【解決手段】（１）ガラス板の周辺端部に沿って低融点のガラスバルクを配置し、該ガラスバルクで囲まれた領域の内外を連通する排気用開口部を設けるとともに、ガラスバルクで囲まれた領域内にスペーサを配置する工程と、（２）ガラスバルクとスペーサが配置されたガラス板の上にガラス板を重ねて積層体を形成する工程と、（３）積層体を減圧室内で減圧するとともに加熱し、積層体内部が排気用開口部を通して排気された状態で、溶融されたガラスバルクで排気用開口部を閉塞し積層体の周辺端部を封着する工程と、を有する複層ガラスの製造方法。 （もっと読む）

【課題】プラズマディスプレイパネルに代表される電子材料基板開発で、銀反応による黄変が抑制され、かつ可視光透過率の高い無鉛低融点ガラスが望まれている。
【解決手段】透明絶縁性の無鉛低融点ガラスにおいて、重量％でＳiＯ_２を２５〜４０、Ｂ_２Ｏ_３を３５〜５５、ＺｎＯを５〜１４、ＢaＯを０．１〜３、ＺｒＯ_２を０．１〜７、ＣｕＯを０．１〜２、Ｆ_２を０〜１０、さらにＬi_２Ｏ、Ｎa_２Ｏ、Ｋ_２Ｏのうちから選択される、少なくとも１種を５〜１８含むことを特徴とする、ＳiＯ_２−Ｂ_２Ｏ_３−ＺｎＯ−Ｒ_２Ｏ−ＢａＯ−ＺｒＯ_２系無鉛低融点ガラス。３０℃〜３００℃における熱膨張係数が（５５〜８５）×10^−７／℃、軟化点が５００℃以上６３０℃以下である特徴も持つ。 （もっと読む）

【課題】プラズマディスプレイパネルに代表される電子材料基板開発で、銀反応による黄変が抑制され、かつ可視光透過率の高い無鉛低融点ガラスが望まれている。
【解決手段】透明絶縁性の無鉛低融点ガラスにおいて、重量％でＳiＯ_２を２５〜４０、Ｂ_２Ｏ_３を３５〜５５、ＺｎＯを５〜１４、ＢaＯを０．１〜３、ＺｒＯ_２を０．１〜７、ＣｏＯを０．０１〜２、ＣｅＯ２を０．０１〜２、Ｆ_２を０〜１０、さらにＬi_２Ｏ、Ｎa_２Ｏ、Ｋ_２Ｏのうちから選択される、少なくとも１種を５〜１８含むことを特徴とするＳiＯ_２−Ｂ_２Ｏ_３−ＺｎＯ−Ｒ_２Ｏ−ＢａＯ−ＺｒＯ_２系無鉛低融点ガラス。３０℃〜３００℃における熱膨張係数が（５５〜８５）×10^−７／℃、軟化点が５００℃以上６３０℃以下である特徴も有す。 （もっと読む）

【課題】厚み１ｍｍでの波長５．５μｍの光の透過率が５０％以上、波長７．０μｍの光の透過率が１０％以下である基板用ガラスの提供。
【解決手段】下記酸化物基準のモル％表示で、Ｂｉ_２Ｏ_３を１０〜５５％、ＧｅＯ_２を２０〜８５％、Ｇａ_２Ｏ_３を０〜１９％、Ａｌ_２Ｏ_３を０〜１５％含有し、Ｂｉ_２Ｏ_３＋ＧｅＯ_２が５０％以上であり、ＭｇＯを含有する場合Ｇａ_２Ｏ_３＋ＭｇＯが２０％以下である基板用ガラス。Ｂｉ_２Ｏ_３含有量が１５％以上、ＧｅＯ_２含有量が８０％以下、Ｇａ_２Ｏ_３＋Ａｌ_２Ｏ_３が２〜３０％である前記基板用ガラス。ＧｅＯ_２＋Ａｌ_２Ｏ_３が６０％以上である前記基板用ガラス。ガラス転移点が４００℃以上である前記基板用ガラス。 （もっと読む）

【課題】サーマルプリントヘッドに代表される電子材料基板開発で、絶縁保護被膜を単層で形成でき、電極反応泡が抑制され、かつ平坦性および耐磨耗性の優れた絶縁性被膜ガラス材料及び封着ガラス材料が望まれている。
【解決手段】 重量％でＳiＯ_２を０〜１０、Ｂ_２Ｏ_３を２０〜３５、ＺｎＯを２０〜５５、ＲＯ（ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ）を１５〜５０、Ａｌ_２Ｏ_３を０〜８含むことを特徴とする絶縁性被膜ガラス材料及び封着ガラス材料。０．１ｗｔ％〜４．５ｗｔ％のフィラーを含有することが可能であり、３０℃〜３００℃における熱膨張係数が（５５〜１００）×10^−７／℃、軟化点が５００℃以上６５０℃以下である特徴も有す。 （もっと読む）

【課題】高屈折率で、低アッベ数の光学特性を有すると共に、人体に有害な酸化鉛を含まず、しかもガラス転移温度やガラス屈伏点が低く、かつ精密モールドプレス成形時に白濁が生じにくい、低コストの光学ガラスを提供すること。
【解決手段】ガラス組成として、重量％で
Ｐ₂Ｏ₅：１８〜３２％、Ｂ₂Ｏ₃：０〜６％、ＧｅＯ₂：０．１〜５％、Ａｌ₂Ｏ₃：０．１〜６％、ＺｎＯ：０．１〜５％、ＴｉＯ₂：０〜１０％、Ｎｂ₂Ｏ₅：１６〜５０％、ＷＯ₃：１〜１６％、Ｂｉ₂Ｏ₃：３〜３６％、Ｌｉ₂Ｏ＋Ｎａ₂Ｏ＋Ｋ₂Ｏ：２〜１５％（但し、Ｌｉ₂Ｏ：０．１〜６％，Ｎａ₂Ｏ：０．１〜１２％，Ｋ₂Ｏ：０．１〜６％）、ＢａＯ：０．１〜８％、ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ：０．１〜８％（但し、ＭｇＯ：０〜５％，ＣａＯ：０〜５％，ＳｒＯ：０〜５％）を含んでなることを特徴とする光学ガラス。 （もっと読む）

【課題】透明性に優れるとともに、比較的長波長の励起光によっても発光強度に優れる酸化スズ含有ガラスを提供する。
【解決手段】酸化ケイ素、および所望によりホウ酸を含んでなる透明ガラス母体に、ＳｎＯが添加されてなる酸化スズ含有ガラスであって、前記ＳｎＯが、ガラス中に３〜３５ｍｏｌ％含有されている、ことを特徴とする。 （もっと読む）

装甲複合材、及び、ガラスセラミックを含む第１の層と、力散逸物質と、第１の層の少なくとも一部を第２の層に貼り付ける接着剤と、を含む装甲複合材を作製するための方法。 （もっと読む）

【課題】封着工程で良好に軟化流動した後に十分な量の結晶が析出することに加えて、結晶析出後の加熱工程、例えば真空排気工程で再流動することがなく、しかも結晶化前後の熱膨張係数の不当な上昇を抑制することができる結晶性ビスマス系ガラス組成物を得ること。
【解決手段】本発明の結晶性ビスマス系ガラス組成物は、ガラス組成として、モル％で、Ｂｉ₂Ｏ₃ ３０〜５０％、Ｂ₂Ｏ₃ ５〜２５％、ＺｎＯ＋ＣｕＯ ３１．２〜５０％、ＺｎＯ １５〜４０％、ＣｕＯ ０．１〜２５％、Ｆｅ₂Ｏ₃ ０〜５％、ＳｉＯ₂＋Ａｌ₂Ｏ₃ ０〜７％、ＢａＯ＋ＳｒＯ＋ＭｇＯ＋ＣａＯ ０〜６％、Ｓｂ₂Ｏ₃ ０〜５％、ＷＯ₃ ０〜５％、Ｉｎ₂Ｏ₃＋Ｇａ₂Ｏ₃ ０〜５％を含有し、且つ実質的にＰｂＯを含有しないことに特徴付けられる。 （もっと読む）

【課題】リチウム一次電池用途において水分透過量が少なく、リチウム金属−空気電池に使用しても安全な固体電解質を提供する。
また、リチウム二次電池用途において電極との界面において十分な接触面積を有し、広い温度範囲のもとでも安全な固体電解質を提供する。
また、上記固体電解質の製造方法、上記固体電解質を使用したリチウムイオン二次電池、およびリチウム一次電池を提供する。
【解決手段】イオン伝導性の無機固体の空孔の一部又は全部に異なる組成の材料が存在することを特徴とするリチウムイオン伝導性固体電解質。
イオン伝導性の無機固体の成形体を形成した後、その空孔に異なる組成の材料を充填することを特徴とするリチウムイオン伝導性固体電解質成形体の製造方法。 （もっと読む）

【課題】 屈折率（ｎｄ）が高く、屈伏点（Ａｔ）が低い精密プレス成形用光学ガラスを提供すること。
【解決手段】 構成成分として重量％表示で、Ｂｉ₂Ｏ₃：６４〜８３％、Ｂ₂Ｏ₃：４〜１７％、ＧｅＯ₂：０〜１２％（但し、Ｂ₂Ｏ₃ とＧｅＯ₂ の合計量が１０〜２０％）、Ｌａ₂Ｏ₃：０~７％、Ｇｄ₂Ｏ₃：０〜７％（但し、Ｌａ₂Ｏ₃ とＧｄ₂Ｏ₃ の合計量が１〜１３％）、ＺｒＯ₂：０〜４％、Ｔａ₂Ｏ₅：０〜５％、ＺｎＯ：０〜１５％、Ｓｂ₂Ｏ₃：０〜２％、Ｉｎ₂Ｏ₃：０〜１％を含み、屈折率（ｎｄ）が２．０５〜２．２５、アッベ数（νｄ）が１５〜２２の光学恒数を有し、屈伏点（Ａｔ）が５１０℃以下である精密プレス成形用光学ガラス。 （もっと読む）

【課題】本発明は、高屈折率光学ガラスであり、非常に低いガラス転移点（Ｔｇ）を有し、かつ化学的耐久性に優れ、精密プレス成形に適した光学ガラスを提供する。
【解決手段】屈折率（ｎｄ）が１．９以上およびアッベ数（νｄ）が１５以上であり、ガラス転移点（Ｔｇ）が３００℃以下であり、Ｐｂ及び／又はＡｓ化合物を含まず、ＴｅＯ_２成分を５０ｍｏｌ％以上含有することを特徴とする光学ガラス。Ｒ_２Ｏ（ＲはＬｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｃｓからなる群より選択される１種以上）成分、ＺｎＯ成分、Ｂｉ_２Ｏ_３成分を含有し、さらにＡｌ_２Ｏ_３及び／又はＧａ_２Ｏ_３成分を含有する前記光学ガラス。 （もっと読む）

【課題】 屈折率（ｎｄ）及びアッベ数（νｄ）が大であり、かつ、ガラス転移温度（Ｔｇ）及び屈伏点（Ａｔ）が低く、高屈折率低分散で、溶融性及び安定性が高くて成形性の良好な精密プレス成形用光学ガラスを提供すること
【解決手段】 ＳｉＯ₂：９．０〜２５．０モル％、Ｂ₂Ｏ₃：１５．０〜３０．０モル％未満、ＧｅＯ₂：０〜７．０モル％、Ｌａ₂Ｏ₃：１０．０〜１８．０モル％、Ｇｄ₂Ｏ₃：５．０〜１３．０モル％、Ｔａ₂Ｏ₅：０〜６．０モル％、
Ｌｉ₂Ｏ：１０．０〜２６．０モル％、ＺｎＯ：１．０〜１０．０モル％、ＺｒＯ₂：０〜６．０モル％、ＴｉＯ₂：５．０を超え１０．０モル％以下、ＷＯ₃：０〜４．０モル％、及びＮｂ₂Ｏ₅：０〜３．０モル％、を含有する組成の精密プレス成形用光学ガラス。 （もっと読む）

【課題】５００℃で一次焼成しても失透せず、しかも４５０〜５００℃の二次焼成で良好に流動するビスマス系封着材料を提供し、ＰＤＰ等の平面表示装置の製造効率向上に貢献すること。
【解決手段】本発明のビスマス系封着材料は、ビスマス系ガラス粉末４０〜９５重量％、耐火性フィラー粉末５〜６０重量％を含有し、該ビスマス系ガラス粉末が、ガラス組成として、モル％でＢｉ₂Ｏ₃ ３０〜５０％、Ｂ₂Ｏ₃ １０〜４０％、ＺｎＯ＋ＣｕＯ ３５〜５０％含有し、且つ実質的にＰｂＯを含有しないことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】
安定性がさほど高くないガラスや融液の状態で揮発性の高いガラスを用いた場合であっても、失透や脈理のない高品質なプリフォームを製造する方法を提供する。
【解決手段】
精密プレス成形に供するためのガラス製プリフォームの製造方法であって、 流出口から流出する熔融ガラスから熔融ガラス塊を分離し、プレス成形して前記プリフォームに近似する形状を有するガラス体を作製し、少なくとも研磨工程を経て前記ガラス体からプリフォームを作製することを特徴とするガラス製プリフォームの製造方法である。 （もっと読む）

【課題】比誘電率が低く、かつ、誘電損失も低く、電気回路基板材料、積層回路基板材料、低温焼成基板材料および高周波回路基板材料として使用することができる結晶化ガラスを提供すること。
【解決手段】結晶相の結晶が、Ｓｒを含有し、結晶の空間群がＰ−４２_１ｍである場合、１ＭＨｚでの比誘電率が９以下で、誘電損失が１０^−２以下である結晶化ガラスを提供できる。なお、結晶相の結晶は、オケルマナイト型であることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】 高速回転化に対応できる情報記憶媒体を得ること。
【解決手段】 ＳｉＯ_２を４５−６５モル％、Ａｌ_２Ｏ_３を０−１５モル％、Ｌｉ_２Ｏを４−２０モル％、Ｎａ_２Ｏを０−８モル％、（Ｌｉ_２Ｏ＋Ｎａ_２Ｏ）を４−２８モル％、ＣａＯを０−２１モル％、ＭｇＯを０−２２モル％、（ＣａＯ＋ＭｇＯ）を４−４０モル％、Ｙ_２Ｏ_３を０−１６モル％、及び、ＴｉＯ_２を１−１５モル％含み、かつ１００ＧＰａ以上のヤング率、１３５０℃以下の液相温度を達成するガラス成分によって形成されている情報記憶媒体用基板上に記録層を形成して情報記憶媒体を作製する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、ビスマス系ガラス粉末と耐火性フィラー粉末を含有する封着材料において、耐火性フィラー粉末の粒度および熱膨張係数等を改良し、封着材料の熱的安定性を向上させるとともに、封着材料の流動性を向上させることにより、スローリーク等が発生し難い平面表示装置を得ることを技術的課題とする。
【解決手段】本発明の封着材料は、ビスマス系ガラス粉末と耐火性フィラー粉末を含有する封着材料において、耐火性フィラー粉末の平均粒子径Ｄ₅₀が９〜２４μｍ、９０％粒子径Ｄ₉₀が３２〜９０μｍであることを特徴とする。 （もっと読む）