【課題】 揮発性および侵蝕性が低減されたフツリン酸ガラスを提供する。
【解決手段】 ガラス成分として、リン、酸素およびフッ素を含むフツリン酸ガラスにおいて、該ガラスの屈折率ｎｄの値をｎｄ^（１）、該ガラスを窒素雰囲気中において９００℃、１時間再熔融し、ガラス転移温度まで冷却し、その後、毎時３０℃の降温速度で２５℃まで冷却した後の屈折率ｎｄの値をｎｄ^（２）としたときに、ｎｄ^（１）とｎｄ^（２）との差ｎｄ^（２）−ｎｄ^（１）の絶対値が０．００３００以内であり、Ｐ^５＋の含有量に対するＯ^２−の含有量のモル比Ｏ^２−／Ｐ^５＋が３．５以上であることを特徴とするフツリン酸ガラスである。 （もっと読む）

【課題】低屈伏点、高屈折率、高透過率を有する、モールドプレス成形に適した光学ガラスの提供を課題とする。
【解決手段】リン、ビスマス、亜鉛を酸化物換算で、Ｐ_２Ｏ_５：１５〜３０ｍｏｌ％、Ｂｉ_２Ｏ_３：５〜３５ｍｏｌ％、ＺｎＯ：４０〜７５ｍｏｌ％含有し、且つフッ素を、酸素とのモル比で、Ｆ／Ｏ：０．０１〜０．４含有させてある光学ガラスである。更にアルミニウムをＡｌ_２Ｏ_３の形で１０ｍｏｌ％以下含有させ、またリチウム、ナトリウム、カリウムの中から選ばれる少なくとも１つ以上のアルカリ元素ＲをＲ_２Ｏの形で１５ｍｏｌ％以下含有させ、また希土類元素とガリウムとの中からから選ばれる少なくとも１つ以上の元素Ｍを酸化物（Ｍ_２Ｏ_３）換算で５ｍｏｌ％以下含有させることができる。これらの場合、フッ素をＺｎＦ_２、ＡｌＦ_３、ＲＦ、ＭＦ_３として添加させて所定のＦ／Ｏモル比にする。 （もっと読む）

【課題】 揮発性および侵蝕性が低減されたフツリン酸ガラスを提供する。
【解決手段】 リン成分をＰ^５＋に換算して３カチオン％超３０カチオン％以下含み、核磁気共鳴スペクトルにおける^３１Ｐの基準周波数近傍に生じる共鳴ピークの強度Ｉ^（０）に対する前記共鳴ピークの一次のサイドバンドピークの強度Ｉ^（１）の比Ｉ^（１）／Ｉ^（０）が０．０８以下であることを特徴とするフツリン酸ガラスである。 （もっと読む）

赤外線（ＩＲ）窓、導波管ファイバ、または発光ドーパント用のホストガラスとしてなどの用途を有しうる、Ｇａ−Ｐ−Ｓ型のガラス組成物について記載する。本ガラスの組成範囲は、原子百分率で、４５〜８５％の硫黄、＞０〜２５％のガリウム、＞０〜２０％のリンである。本ガラスは、セレニウム（Ｓｅ）、テルリウム（Ｔｅ）、０〜２０％のインジウム、０〜４０％のヒ素、０〜１５％のゲルマニウム、０〜１０％のアンチモン、および０〜５％のスズ、タリウム、鉛、ビスマス、またはそれらの組合せを含みうる。ＳｅおよびＴｅは、Ｓ／２以下でなければならない。 （もっと読む）

【課題】Ｂｉ_２Ｏ_３を含有する光学ガラスにおいて、極めて大きい部分分散比[θｇ，Ｆ]を維持しつつ、アッベ数[νd]が特徴的な値を有する光学ガラスを提供する。
【解決手段】ＳｉＯ_２成分及び/又はＢ_２Ｏ_３成分を含有し、酸化物基準の質量％でＢｉ_２Ｏ_３成分を４０〜９０％含有し、部分分散比［θｇ，Ｆ］が０．６３以上、アッベ数［νｄ］が２７以下であり、部分分散比［θｇ，Ｆ］＞−０．０１０８×［νｄ］＋０．８５２９を満たすことを特徴とする光学ガラス。酸化物基準の質量％でＢｉ_２Ｏ_３ 成分を６４〜９０％含有する請求項１記載の光学ガラス。 （もっと読む）

【課題】レーザー光による局所加熱に好適な有機ＥＬディスプレイ用封着材料を創案することにより、信頼性の高い有機ＥＬディスプレイを作製すること。
【解決手段】本発明の有機ＥＬディスプレイ用封着材料は、レーザー光による封着処理に供される有機ＥＬディスプレイ用封着材料であって、ガラス粉末を５０〜９９．９質量％、無機顔料を０．１〜２０質量％含有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】従来のリチウムイオン伝導性ガラスセラミックスが有する、熱的安定性が低いという問題を解決し、リチウムイオン伝導性が高く、原ガラスの熱的安定性が高く、かつ容易に成形可能なリチウムイオン伝導性ガラスセラミックスを提供すること。
【解決手段】ガラスセラミックス中（原ガラス中）の特定の成分の量を特定の範囲に限定することであり、具体的には酸化物基準の質量％で、ＺｒＯ_２成分を０．５％〜２．５％の範囲で含有させる。 （もっと読む）

【課題】低温封着性に優れるとともに、流動性に優れるバナジウム系ガラス組成物を開発し、機械的衝撃等によりリーク等の気密不良が生じ難いバナジウム系材料を得ること。
【解決手段】本発明のバナジウム系ガラス組成物は、ガラス組成として、下記酸化物基準の質量％表示で、Ｖ₂Ｏ₅ ３０〜６０％、Ｐ₂Ｏ₅ １５〜４０％、ＺｎＯ １〜２０％、ＢａＯ ５〜３５％、ＳｒＯ １〜１５％、ＣａＯ ０〜５％を含有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】低温封着性に優れるとともに、被封着物の熱膨張係数が低い場合であっても、気密性を維持することができる封着材料を得ること。
【解決手段】本発明の封着材料は、バナジウム系ガラス粉末と耐火性フィラー粉末を含有する封着材料において、体積％でバナジウム系ガラス粉末が４５〜７５％、耐火性フィラー粉末が２５〜５５％であり、且つ熱膨張係数が５５×１０^-7／℃以下であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】屈折率が１．６５〜１．９５であり、屈伏温度が５００℃以下と低く、且つ、耐失透性が良好な、モールドプレス成形に適した光学ガラスを提供する。
【解決手段】ガラス全体量を１００重量％とし、酸化物組成として、Ｂ_２Ｏ_３：６〜２５重量％、ＧｅＯ_２：３〜４８重量％及びＢｉ_２Ｏ_３：３５〜８９重量％を含有し、
屈折率が１．６５〜１．９５であり、且つ、屈伏温度が５００℃以下である、
ことを特徴とする光学ガラス。 （もっと読む）

【課題】 精密プレスなどの成形による形状加工に適しており、小型、軽量、薄型の高屈折率な光学部材用として好適に用いることができる、新規な光学ガラスを提供する。
【解決手段】 ＴｉＯ_２−Ｐ_２Ｏ_５−Ｂ_２Ｏ_３の三成分系であって、屈折率（ｎｄ）が１．８以上、ガラス転移温度（Ｔｇ）が６００℃以下である光学ガラスとした。 （もっと読む）

【課題】固体電解質層と電極層（例えば、正極層）を焼成し相互に結合させる際に、層間の強い結合を維持しつつ、境界層における高いイオン伝導性を備えることができるリチウムイオン二次電池の製造方法を提供する。
【解決手段】電解質グリーンシート及び正極グリーンシートを重ねて積層体を作製する工程と、前記積層体を焼成する工程と、を含むリチウムイオン二次電池の製造方法において、前記電解質グリーンシート及び前記正極グリーンシートの少なくとも一方は、前記焼成工程においてリチウムイオン伝導性の結晶が析出する非晶質の酸化物ガラス粉末を含む。 （もっと読む）

【課題】固体電解質層、正極層、及び負極層を焼成し相互に結合させる際に、層間の強い結合と層内の焼結による高いイオン伝導性を備えることができるリチウムイオン二次電池の製造方法を提供する。
【解決手段】電解質グリーンシートを挟んで、正極グリーンシート及び負極グリーンシートを積層して積層体を作製する工程と、前記積層体を焼成する工程と、を含むリチウムイオン二次電池の製造方法において、前記正極グリーンシート又は前記負極グリーンシートの少なくとも一方は、リチウムイオン伝導性の酸化物結晶を含む。 （もっと読む）

【課題】より出力が大きく安全性の高いリチウム固体電池を作製できる、固体電解質の製造方法及びリチウム電池の製造方法を提供する。
【解決手段】この固体電解質の製造方法は、リチウムイオン伝導性の結晶を有する固体電解質の製造方法であって、熱処理後にリチウムイオン伝導性を呈する酸化物ガラス粉末、熱処理後にリチウムイオン伝導性を有する無機粉末、又はその両方（以下、これらを「リチウムイオン伝導性粉末」という）を含む固体電解質グリーンシートを作製するグリーンシート作製工程と、前記固体電解質グリーンシートを焼成する焼成工程を有し、前記焼成工程は昇温工程を含み、前記昇温工程は０．０５℃／ｓｅｃ以上の勾配で１ｍｉｎ以上昇温する急昇温工程を有する。 （もっと読む）

【課題】屈折率（ｎ_ｄ）が１．７８以上、アッベ数（ν_ｄ）が３０以下であり、部分分散比が小さい光学ガラスを提供する。
【解決手段】部分分散比（θｇ，Ｆ）が０．６２４以下の範囲の光学定数を有し、必須成分としてＳｉＯ_２、Ｎｂ_２Ｏ_５を含有し、質量％の比率でＮｂ_２Ｏ_５が４０％より多いことを特徴とする光学ガラス。質量％の比率でＫ_２Ｏが２％未満、ＴｉＯ_２／（ＺｒＯ_２＋Ｎｂ_２Ｏ_５）が０．３２未満、かつＳｉＯ_２、Ｂ_２Ｏ_３、ＴｉＯ_２、ＺｒＯ_２、Ｎｂ_２Ｏ_５、ＷＯ_３、ＺｎＯ、ＳｒＯ、Ｌｉ_２Ｏ、Ｎａ_２Ｏの合計含有量が９０％より多いことを特徴とする前記光学ガラス。 （もっと読む）

ガラスフリット、導電性インク及び導電性インクが適用された製品が記載される。一以上の実施形態によると、ガラスフリットは意図的に添加された鉛を有さず、ＴｅＯ_２、並びにＢｉ_２Ｏ_３、ＳｉＯ_２及びそれらの組み合わせの１種以上を含む。ガラスフリットの一実施形態は、Ｂ_２Ｏ_３を含み、更にＺｎＯ、Ａｌ_２Ｏ_３及び／又はそれらの組み合わせを含む。一実施形態は、意図的に添加された鉛を有さず、ＴｅＯ_２、並びにＢｉ_２Ｏ_３、ＳｉＯ_２及びそれらの組み合わせの１種以上を含むガラスフリットを含む導電性インクを提供する。他の実施形態は、意図的に添加された鉛を有さないガラスフリットを含む導電性インクが配置された半導体又はガラスシート等の基板を有する製品を含む。 （もっと読む）

【課題】ｎｄが１．８８〜１．９２の高屈折率領域で、かつνｄが３３〜３７の光学ガラス組成物を提供すること。
【解決手段】重量％表示で、ＳｉＯ₂を１．０％以上１２．０％以下、Ｂ₂Ｏ₃を８．５％以上１８．０％以下、ＺｎＯを０％以上６．０％以下、ＺｒＯ₂を１．０％以上１０．０％以下、Ｌａ₂Ｏ₃を２５．０％以上４７．０％以下、Ｒ₂Ｏ（ただし、ＲはＬｉ、Ｎａ及びＫの少なくとも１つ）を０％以上５．０％以下、Ｎｂ₂Ｏ₅を０％以上１６．０％以下、ＴｉＯ₂を０％以上７．０％以下、Ｔａ₂Ｏ₅を０％以上１５．０％以下、Ｎｂ₂Ｏ₅＋ＴｉＯ₂＋Ｔａ₂Ｏ₅を１．０％以上、Ｇｄ₂Ｏ₃を０％以上２６．０％以下、及びＷＯ₃を０％以上１３．０％以下含み、実質的に、Ｒ’Ｏ（ただし、Ｒ’はＢａ、Ｓｒ、Ｃａ及びＭｇの少なくとも１つ）を含まず、ｎｄが１．８８〜１．９２で、νｄが３３〜３７の光学ガラス組成物、プリフォーム及び光学素子。 （もっと読む）

【課題】ｎｄが１．８３〜１．８７の高屈折率領域にあり、かつνｄが４３〜４７の範囲にある、高屈折率−低乃至中分散型の光学ガラス組成物を提供すること。
【解決手段】ｍｏｌ％表示で、ＳｉＯ₂を１３．０％以上３１．０％以下、Ｂ₂Ｏ₃を１９．０％以上４０．０％以下、Ｌｉ₂Ｏを０％以上５．０％以下、ＺｎＯを０％以上１２．０％以下、Ｌｉ₂Ｏ＋ＺｎＯを０％以上１６．０％以下、ＺｒＯ₂を０％以上１２．０％以下、Ｌａ₂Ｏ₃を１４．０％以上２６．０％以下、Ｔａ₂Ｏ₅を１．０％以上５．０％以下、及びＧｄ₂Ｏ₃を４．０％以上１６．０％以下含み、ｎｄが１．８３以上１．８７以下で、νｄが４３以上４７以下である光学ガラス組成物、プリフォーム及び光学素子。 （もっと読む）

【課題】ｎｄが１．８８〜１．９２の高屈折率領域で、かつνｄが３３〜３７の光学ガラス組成物を提供すること。
【解決手段】重量％表示で、ＳｉＯ₂を１．０％以上１２．０％以下、Ｂ₂Ｏ₃を８．０％以上１８．０％以下、ＺｎＯを０％以上６．０％以下、ＺｒＯ₂を１．０％以上１０．０％以下、Ｌａ₂Ｏ₃を２５．０％以上４７．０％以下、Ｒ₂Ｏ（ただし、ＲはＬｉ、Ｎａ及びＫの少なくとも１つ）を０％以上５．０％以下、ＢａＯを０％以上１５．０％以下、Ｎｂ₂Ｏ₅を０％以上１５．０％以下、ＴｉＯ₂を０％以上７．０％以下、Ｔａ₂Ｏ₅を０％以上１５．０％以下、Ｎｂ₂Ｏ₅＋ＴｉＯ₂＋Ｔａ₂Ｏ₅を２．０％以上、Ｇｄ₂Ｏ₃を０％以上２０．０％以下、ＷＯ₃を０．５％以上１０．０％以下、及びＮｂ₂Ｏ₅＋ＷＯ₃を１０．０％以上１６．０％以下含み、ｎｄが１．８８〜１．９２で、νｄが３３〜３７の光学ガラス組成物、プリフォーム及び光学素子。 （もっと読む）

【課題】ｎｄが１．８３〜１．８７の高屈折率領域にあり、かつνｄが４３〜４７の範囲にある、高屈折率−低乃至中分散型の光学ガラス組成物を提供すること。
【解決手段】ｍｏｌ％表示で、ＳｉＯ₂を１４．０％以上３１．０％以下、Ｂ₂Ｏ₃を１９．０％以上４０．０％以下、Ｌｉ₂Ｏを０％以上５．０％以下、ＺｎＯを０％以上８．０％以下、ＺｒＯ₂を６．０％以上１２．０％以下、Ｌａ₂Ｏ₃を１５．０％以上２６．０％以下、Ｔａ₂Ｏ₅を２．０％以上５．０％以下、Ｇｄ₂Ｏ₃を４．０％以上１６．０％以下、及びＬａ₂Ｏ₃＋Ｇｄ₂Ｏ₃を２６．０％以上３５．０％以下含み、ｎｄが１．８３以上１．８７以下で、νｄが４３以上４７以下である光学ガラス組成物、プリフォーム及び光学素子。 （もっと読む）