【課題】半導体撮像素子を搭載する小型撮像装置に好適な、レンズとしての光学的機能を有し、かつ色感度補正を可能にする近赤外光吸収性を有するレンズおよびその製造方法を提供する。
【解決手段】Ｃｕ²⁺を含むフツリン酸塩ガラスを精密プレス成形してなるレンズ。特に、中心軸部分における厚みをｔ₀［ｍｍ］、前記ガラス中のＣｕ²⁺の含有量をＭ_Cu［カチオニック％］としたときに、Ｍ_Cu×ｔ₀が０．９〜１．６カチオニック％・ｍｍの範囲にあるレンズ。Ｃｕ²⁺を含むフツリン酸塩ガラスからなるガラスプリフォームを精密プレス成形することを含む、このレンズの製造方法。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、強化によって充分な大きさの圧縮応力層を有するため破損しにくく、膜付け等の処理を行なっても強化した効果が損なわれない強化ガラス物品およびその製造方法を提供することである。
【解決手段】本発明の強化ガラス物品は、歪点が５５０℃以上であって、表面より１〜１００μｍまでの深さに１００ＭＰａ以上の圧縮応力層を有することを特徴とし、また、本発明の強化ガラス物品の製造方法は、質量％表示で、ＳｉＯ₂＋Ａｌ₂Ｏ₃＋ＺｒＯ₂ ６０〜８０％、ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ １０〜３０％、Ｌｉ₂Ｏ＋Ｎａ₂Ｏ ０．５〜１５％の組成を含有する板ガラスを、硝酸カリウムを含有する４００℃〜５５０℃の融液中に１〜４８時間浸漬することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】調理装置の調理面として用いられ、かつ、
ａ）耐薬品性であり、 ｂ）キッチンの通常照明条件下において不透明であり、 ｃ）簡易にコーティング部分を作製することができ、 ｄ）５５０℃の温度まで耐熱性であり、及び ｅ）ガラスセラミック中の欠陥が問題となる程度まで知覚されない特性をもつ下面コーティングが施されたガラスセラミック板を提供する。
【解決手段】ガラスセラミック板を、可視光及び赤外線に対して透過性のガラスセラミック材料から成り、ガラスセラミック板下面へ貴金属フィルムがコーティングされて、貴金属フィルムには、貴金属フィルムを反射特性を付与する金及び／または白金、及び／またはパラジウムから成る合金から作製し、かつ銀、銅、珪素、ビスマス及び他の非貴金属を貴金属フィルム中へその全金属含量に対して０〜５重量％含ませ、及び前記貴金属フィルムでコーティングされたガラスセラミック板とする。 （もっと読む）

【課題】各プリフォーム、成形体間の体積のバラツキが非常に制御されたガラス製プリフォームロット、成形体(母材)ロットを提供する。
【解決手段】ＳｉＯ₂の含有量を０〜２０質量％の範囲に制限されたガラスからなる球状のプリフォームまたはプリフォーム母材で構成された平均質量が２００ｍｇ以下、前記質量に対する質量公差の割合が±０．３％以内のガラス製プリフォームロットまたはプリフォーム母材ロット。所定質量のガラス滴を流出ノズルの流出口から滴下し、得られたガラス滴を精密プレス成形に供するガラス製プリフォームまたは成形体に成形する工程を繰り返して、複数のガラス製プリフォームからなるガラス製プリフォームロットまたは複数の成形体からなるガラス製成形体ロットを生産する方法。ガラス製プリフォームロットから取り出したガラス製プリフォームを加熱し、プレス成形型を使用して精密プレス成形する光学素子の製造方法。 （もっと読む）

【課題】酸化ビスマスを含有する光学ガラスにおいて、製造過程における再加熱工程において、ガラス内部が乳白・失透が生じない光学ガラス、また、化学的耐久性に優れ、ガラスが黒く着色しない光学ガラスを提供する。
【解決手段】屈折率［ｎ_ｄ］が１．７５以上、アッベ数［ν_ｄ］が１０以上の光学恒数を有する光学ガラスであって、質量％で、Ｂｉ_２Ｏ_３を１０％以上９０％未満含有し、前記光学ガラスは、下記条件による再加熱試験において、ガラス内部が実質的に乳白化及び失透しない光学ガラスである。〔再加熱試験：試験片１５ｍｍ×１５ｍｍ×３０ｍｍを再加熱し、前記光学ガラスのガラス転移温度（Ｔｇ）よりも８０℃高い温度で３０分間保温し、その後常温まで冷却し、試験片の対向する２面を厚み１０ｍｍに研磨した後に目視観察する。〕 （もっと読む）

【課題】ディスプレイパネル等に好適に採用できる酸化物ガラスを提供する。
【解決手段】酸化物ガラスは、含まれる元素のうち、酸素を除く他の元素の比率で表して、Ｂが５５原子％以上８５原子％以下、Ｓｉが０原子％以上１５原子％以下、Ｚｎが０原子％以上１５原子％以下、Ｋが０原子％以上１０原子％以下、Ｎａが０原子％以上１０原子％以下、Ｂｉが１原子％以上１０原子％以下、ＳｉおよびＺｎの合計が５原子％以上３０原子％以下、ＫおよびＮａの合計が１原子％以上１０原子％以下、Ｋ、ＮａおよびＢｉの合計が８原子％以上１５原子％以下である。 （もっと読む）

【課題】ＰｂＯを含有しないＢ_２Ｏ_３−ＳｉＯ_２−ＺｎＯ−ＢａＯ−Ｂｉ_２Ｏ_３系ガラスであって焼成ガラス層の透過率を高くできる電極被覆用ガラスの提供。
【解決手段】モル％表示で、Ｂ_２Ｏ_３ ２８〜３２％、ＳｉＯ_２ １３〜１７％、ＺｎＯ ２９〜３５％、ＢａＯ １０〜１４％、Ｂｉ_２Ｏ_３ ７〜１０％、Ａｌ_２Ｏ_３ ０〜５％、から本質的になりＰｂＯを含有しない電極被覆用ガラス。質量百分率表示で、Ｂ_２Ｏ_３ １４〜２０％、ＳｉＯ_２ ６〜９％、ＺｎＯ ２０〜２５％、ＢａＯ １０〜１９％、Ｂｉ_２Ｏ_３ ３０〜３８％、Ａｌ_２Ｏ_３ ０〜５％、から本質的になり、ＺｎＯ−（ＳｉＯ_２＋Ａｌ_２Ｏ_３）が９．５％以上であり、ＰｂＯを含有しない電極被覆用ガラス。 （もっと読む）

【課題】調理器用トッププレートの強度や耐熱性を低下させることなく、調理器用トッププレートに防眩性を付与するとともに、汚れ等の清掃性を向上させ、美観の向上を図る。
【解決手段】結晶化ガラスを基材とする調理器用トッププレートにおいて、結晶化ガラスの表面に酸化物被膜を形成し、前記酸化物被膜の表面粗さ（Ｒａ）を０．１〜２０μｍとする。 （もっと読む）

【課題】球状のプリフォームで構成された平均質量が３０ｍｇ以下、前記質量に対する質量公差の割合が±０．３％以内の、光学素子の精密プレス成形に供する複数のガラス製プリフォームからなるガラス製プリフォームロット、プリフォームの量産方法、ならびに上記プリフォームロットを用いた光学素子の製造方法を提供する。
【解決手段】ノズル２から流出する熔融ガラスをノズル下端に垂下させ、少なくともノズル下端に垂下する熔融ガラスの周囲をカバー５で覆った状態で、一定周期で垂下した熔融ガラスを落下させて熔融ガラス滴を得、熔融ガラス滴が冷却する過程でプリフォームに成形する。上記プリフォームが複数集まってプリフォームを構成する。ガラス製プリフォームロットからのプリフォームを加熱した後、精密プレス成形し、光学素子を製造する。 （もっと読む）

【課題】酸化ビスマスを含有する光学ガラスにおいて、所定の光学恒数を有し、かつ、化学的耐久性に優れた光学ガラスを提供する。
【解決手段】屈折率［ｎｄ］が１．７５以上、アッベ数［νｄ］が１０以上の光学恒数を有する光学ガラスであって、質量％で、Ｂｉ_２Ｏ_３を１０％以上９０％未満含有し、粉末法による化学的耐久性（粉末法耐久性：ＲＷ（Ｐ））がクラス１から５以下である光学ガラスである。 （もっと読む）

【課題】レンズやプリズムなどのように光の屈折により光学素子としての機能を発現する近赤外光吸収機能を有する素子を精密プレス成形で安定して、即ち、屈折率のバラツキを抑えて作製するための精密プレス成形用プリフォームを提供すること、光学的性能のバラツキの少ない近赤外光吸収機能を備えるレンズやプリズム、ならびに前記光学素子の製造方法を提供する。
【解決手段】フッ化物に換算して１〜１５質量％のＺｎＦ₂および０〜２質量％のＡｌＦ₃を含むフツリン酸塩ガラス（但し、前記ガラスに含まれるフッ化物は、７０質量％まで酸化物であることができる）に、さらにＣｕイオンを含有する近赤外光吸収ガラスからなる精密プレス成形用プリフォーム、レンズおよびプリズム。精密プレス成形用プリフォームを加熱し、精密プレス成形することを含む、光学素子の製造方法。 （もっと読む）

【課題】 優れた可視光域の高透過性、優れた近赤外域吸収特性、優れた耐候性などを有する近赤外線吸収フィルターなどの近赤外線吸収素子に好適な近赤外線吸収ガラス、および上記近赤外線吸収素子を提供する。
【解決手段】 カチオン％表示で、Ｐ⁵⁺ ２５〜４５％、Ａｌ³⁺ １〜１０％、Ｌｉ⁺ １５〜３０％、Ｍｇ²⁺ ０．１〜１０％、Ｃａ²⁺ ０．１〜２０％、Ｓｒ²⁺ ０．１〜２０％、Ｂａ²⁺ ０．１〜２０％およびＣｕ²⁺ １〜８％を含むと共に、アニオン成分としてＦ^- ２５〜５０アニオン％とＯ^2-を含む近赤外線吸収ガラス、および前記近赤外線吸収ガラスを備えてなる近赤外線吸収素子である。 （もっと読む）

【課題】 板ガラスの成形工程で用いられる供給ノズルの排出口から溶融ガラスが適正に流出するようにして、失透の発生確率を低減させ、板ガラスの大板化に的確に対処可能とする。
【解決手段】 溶融ガラスＧを排出する排出口８が下端に形成された供給ノズル５と、この供給ノズル５の直下方に配設され且つ供給ノズル５から供給された溶融ガラスＧを板状に成形する成形ローラ９とを有し、供給ノズル５の内部流通空間は、下方に移行するに連れて幅方向寸法が徐々に長くなる本体部１０を有すると共に、この本体部１０が、その幅方向両端部１０ａを除く下部に、排出口８に通じる扁平部１３を備えてなり、且つ扁平部１３の上下方法寸法が、幅方向中央側よりも両端側の方が短くなるように構成される。 （もっと読む）

【課題】模様が大きくて、多様多彩、変化が豊富で、自由である模様付き結晶化ガラス物品及びその製造方法を提供する。
【解決手段】軟化点よりも高い温度で焼成すると結晶性ガラスの表面から内部に向かって結晶を析出する結晶性ガラスを使用し、離型剤を塗った耐火物型枠１０に結晶性ガラス小体１２が集積されており、この集積面にＳ字の形状にカットされた二枚の結晶性ガラス板１４Ａ，１４Ｂがカット面をつき合せた状態で敷いて置かれており、この状態で熱処理される。結晶性ガラス板は任意の形状に切り取り、その切り取り面（ガラスの外周端面）同士を密着させる。得られる結晶化ガラス物品は、天然大理石模様、人間模様、動物模様等様々な模様を付けた模様付き結晶化ガラス物品となる。 （もっと読む）

【課題】近赤外線カット特性に優れ、耐候性が良好であり、熱膨張係数が小さく、よってブロック作製時に割れ難く、また脈理が消失しやすい近赤外線カット用フィルターガラスの提供を課題とする。
【解決手段】近赤外線カット用フィルターガラスは、酸化物換算及びフッ化物換算で、Ｐ_２Ｏ_５：４６〜６０重量％、Ａｌ_２Ｏ_３：５〜１１重量％、ＺｎＦ_２、ＭｎＦ_２、ＩｎＦ_３の少なくとも１種を合計量：１〜１０重量％、ＣａＦ_２、ＳｒＦ_２、ＢａＦ_２の少なくとも１種を合計量：１０〜４５重量％、ＬｉＦ：０．１〜１５重量％、ＮａＦ：０．１〜１５重量％、ＳｉＯ_２、ＺｒＯ_２、Ｌａ_２Ｏ_３、Ｙ_２Ｏ_３、Ｙｂ_２Ｏ_３の少なくとも１種を合計量：０．４〜３重量％、但し、Ｆ：５〜２０重量％、Ｏ：２５〜４０重量％を含有する基礎ガラス成分１００重量％に対し、ＣｕＯ：０．５〜８重量％を含有する。 （もっと読む）

【課題】発光効率および可視光透過率の高い蛍光ランプ用ガラス組成物を提供する。
【解決手段】Tb₂O₃、Ce₂O₃およびB₂O₃を含有し、当該B₂O₃を含有することにより前記Ce₂O₃に由来するCe³⁺の発光ピーク波長が390nm以下であるガラス組成物とする。 （もっと読む）

【課題】発光ダイオードとの膨張係数不整合が小さい発光ダイオード被覆用ガラスの提供。
【解決手段】波長４０５ｎｍの光に対する厚み１ｍｍでの内部透過率が８０％以上であって、下記酸化物基準のモル％表示で、ＴｅＯ_２ ４０〜５３％、ＧｅＯ_２ ０〜１０％、Ｂ_２Ｏ_３ ５〜３０％、Ｇａ_２Ｏ_３ ０〜１０％、Ｂｉ_２Ｏ_３ ０〜１０％、ＺｎＯ ３〜２０％、Ｙ_２Ｏ_３ ０〜３％、Ｌａ_２Ｏ_３ ０〜３％、Ｇｄ_２Ｏ_３ ０〜７％、Ｔａ_２Ｏ_５ ０〜５％、から本質的になり、ＴｅＯ_２＋Ｂ_２Ｏ_３が７５モル％以下である発光ダイオード素子被覆用ガラス。 （もっと読む）

【課題】フラットパネルディスプレイ装置用基板ガラスで、ＰＤＰとＬＣＤ用ガラス基板の問題点をそれぞれ改善でき、かつ中間的な特性を持つため、両方に使用することが出来るうえに、フロート法のような大量生産にも適した、ディスプレイ用ガラス基板が望まれている。
【解決手段】実質的に重量％表示で、ＳｉＯ_２が５９〜６９、Ａｌ_２Ｏ_３が０．５〜３、Ｎａ_２Ｏが２〜４、Ｋ_２Ｏが１．５〜３．５、Ｒ_２Ｏ（ただし、ＲはＮａ、Ｋ）が３．５〜７．５、Ｎａ_２Ｏ／Ｒ_２Ｏが０．３〜１、ＭｇＯが３〜５．５、ＣａＯが５〜８、ＳｒＯが６〜７．５、ＢａＯが４〜１４、Ｒ’Ｏ（ただし、Ｒ’はＭｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａ）が２０〜２９、ＺｒＯ_２が１〜４．５であるディスプレイ装置用基板ガラス。 （もっと読む）

【課題】成分が揮発することによる屈折率変動が大きい光学ガラスの製造方法に係り、特に、低いガラス転移温度（Ｔｇ）を有する、精密モールドプレス成形に適した光学ガラスの製造方法を提供する。
【解決手段】熔融ガラスを流出口から流出させることを含む連続熔融方式のガラス熔融装置において、流出した熔融ガラスの特性が所望の範囲内となるように予め調節された原料を投入する工程を含む光学ガラスの製造方法。前記製造方法において、調節される熔融ガラスの特性が屈折率である光学ガラスの製造方法。 （もっと読む）

【課題】 結晶化ガラス体の母材であるガラス成形体を安定して製造することができ、該ガラス成形体から、結晶化ガラス体、磁気ディスク基板ブランク、磁気ディスク基板および磁気ディスクを好適に作製することができる方法を提供する。
【解決手段】
中心軸が直線状の貫通孔を有する鋳型を、前記中心軸が垂直になるようにまたは水平に対して傾斜するように配置し、前記貫通孔内に熔融ガラスを流し込み、成形して、結晶化ガラス体の母材となる棒状のガラス成形体を得ることを特徴とするガラス成形体の製造方法であり、上記ガラス成形体を熱処理して結晶化ガラス体を製造する方法、上記ガラス成形体または結晶化ガラスをスライスして磁気ディスク基板ブランクを製造する方法、該磁気ディスク基板ブランクの主表面を研磨して磁気ディスク基板を製造する方法および該磁気ディスク基板上に磁気記録層を形成して磁気ディスクを製造する方法である。 （もっと読む）