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Fターム[4G070CC03]の内容

Fターム[4G070CC03]に分類される特許

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流動床反応装置が、炉と、熱交換室と、粒子状物質を熱交換室から炉に移動させるために熱交換室の下部に接続された概ね鉛直姿勢の排出路と、粒子状物質を熱交換室から炉に対して、および、炉から熱交換室に対して送るための概ね鉛直姿勢の補助経路とを有する。流動化ガス用ノズルと、前記補助経路を炉に接続する流れ導管とが前記補助経路の下部に設けられ、前記補助経路を前記熱交換室に接続する流れ導管が補助経路の上部に設けられている。炉、熱交換室、排出路および補助経路が、炉と熱交換室の間に隣接して配設された排出路および補助経路を有する一体構造体を形成する。
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【課題】一定の品質のカーボンナノチューブなどの生成物を高収量で得ることができる気相反応方法を提供する。
【解決手段】反応場に、粉状あるいは粒子状被反応物を装填する装填工程と、前記粉状あるいは粒子状被反応物を、反応工程における反応場の圧力よりも高い圧力下で、不活性ガスを導入しながら600℃以上まで加熱する加熱工程と、600℃以上かつ減圧下の反応場に反応ガスを導入しながら気相反応させる反応工程を有することを特徴とする気相反応方法。 (もっと読む)


【課題】固体粒子群の触媒重合、乾燥、その他の処理または流体を触媒変換方法および装置。
【解決手段】円筒反応装置(1)中の円筒形チャンバーに流体を円筒壁に対して接線状注入(7)する。円筒反応装置(1)は中空円板(3)によって複数の円筒形チャンバー(Z1、Z2、Z3)に分割される。中空円板は円筒壁に固定され、中心開口(10)を有する。円筒形チャンバー中を回転する循環流体は中心開口を介して吸引される。流体は中空円板の側部開口を介して反応装置の円筒壁を通って排出される。回転流動床中の懸濁粒子は一つの円筒形チャンバーから他の円筒形チャンバーへ中空円板(3)を通って移送される。
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本発明は、少なくとも一つの導波管(5)を通して流動層炉(1、1a)にマイクロ波を放射する、流動層炉(1、1a)に位置した流動層(3、3a)における粒状固体の熱処理方法および対応するプラントに関する。マイクロ波の放射効率を向上させるために、マイクロ波の放射角を流動層炉(1、1a)の主軸(11)に対して10度から50度、とくに10度から20度の角度に傾ける。
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この発明は、渦流チャンバ(4)を有しとくにフラッシュ炉またはサスペンション炉を構成する炉(1)の粒状固体の熱処理方法に関し、マイクロ波源(2)からのマイクロ波を、導波管を通して炉(1)に放射し、さらにこの発明は、対応するプラントに関する。導波管の堆積物を避けるために、同じ導波管がガス供給管(3)を構成し、ガス流がさらに、ガス供給管(3)を通して渦流チャンバ(4)に供給される。
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本発明は、少なくとも1種の有機化合物に不均一触媒使用気相部分酸化を触媒床上で受けさせる長時間稼働方法であって、ここでは、前記触媒床が示す失活に対抗する目的で、前記触媒床の稼働時間の間に気相中の作業圧力を高くして行く方法に関する。
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本発明は、反応容器中で粒子状炭素生成物を製造する方法であって、ガス入口とガス排出口との間のガス流により、該反応容器内の触媒を含む粒子状物質からなる床を浮遊させ、生成物をその床より落下させて、該粒子状炭素生成物を該反応容器から排出することにより炭素生成物を製造する方法である。
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本発明は、粉末化基質を官能基化する方法に関する。本方法は以下のステップを含み、本方法は、ガスを、励起および/または不安定ガス種を形成させるための手段、典型的には大気圧プラズマもしくは同様のものの中へと通すこと、ならびに、該手段を離れていく際、実質的に電荷のない励起および/または不安定ガス種を該ガスが含むよう該ガスを処理することを含む。実質的に電荷のない該励起および/または不安定ガス種を含んでいる該ガスが次いで、励起および/または不安定ガスを形成させるための手段外部の下流領域中の粉末化基質および官能基化前駆体を処理するのに使用され、ここで、該粉末化基質も該官能基化前駆体も、ステップ(i)および(ii)に付されておらず、該官能基化前駆体が、該粉末化基質の導入と同時もしくは引き続いて、導入される。好ましくは本方法は、流動化床において行われる。

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所定体積の脱水素化触媒を含有する脱水素反応装置を運転および停止するための方法が記載される。脱水素化反応条件下で運転される脱水素化反応装置への脱水素化原料の導入を停止した後、スチームを含む第1の冷却流体が、脱水素化反応装置に含有される脱水素化触媒を第2の温度に冷却するために十分な第1の期間、反応装置に導入される。第1の冷却流体の導入が停止され、続いて、第2の冷却流体の導入が、脱水素化反応装置に含有される脱水素化触媒を、脱水素化触媒の取り扱い、および、脱水素化反応装置からの脱水素化触媒の取り出しを可能にする第3の温度に冷却するために十分な第2の期間にわたって行われる。 (もっと読む)


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