化学蒸着法プロセスを使用するなど、ナノチューブがナノワイヤテンプレート上のシースとして合成される、均一なナノチューブの製造方法が記載される。例えば、単結晶酸化亜鉛（ＺｎＯ）ナノワイヤは、窒化ガリウム（ＧａＮ）がその上にエピタキシャル成長されるテンプレートとして利用される。ＺｎＯテンプレートは、次に、熱還元および蒸発によってなど除去される。完成された単結晶ＧａＮナノチューブは、好ましくは３０ｎｍから２００ｎｍの範囲の内径、および５ｎｍから５０ｎｍの壁厚みを有する。透過電子顕微鏡研究は、結果としてのナノチューブが、ウルツ鉱構造を有する単結晶であり、＜００１＞方向に沿って配向されていることを示す。本発明は、層状ではない結晶構造を有する材料の単結晶ナノチューブを例示する。同様に「エピタキシャルキャスティング」アプローチは、他の固体材料および半導体の列および単結晶ナノチューブを作るために使用されることができる。さらに、複数シースならびに複数の長手方向セグメントを有するナノチューブの製造が記載される。 （もっと読む）

【課題】ナノメートルオーダーの結晶質シリコン粒子を提供すること、そしてこれを半導体素子として利用できるようにすること。
【解決手段】粒径０．５〜５ｎｍの非晶質シリコン粒子を内在するＳｉＯｘ（Ｘは０．５以上２．０未満）粒子に、光、好ましくはレーザー光、を照射して、粒径１〜１０ｎｍの結晶質シリコン粒子を内在するＳｉＯｘ（Ｘは０．５以上２．０未満）粒子とすることを特徴とするＳｉＯｘ粒子の製造方法であり、好ましくは、粒径０．５〜５ｎｍの非晶質シリコン粒子を内在するＳｉＯｘ（Ｘは０．５以上２．０未満）粒子が、モノシランガスとモノシランガスを酸化するための酸化性ガスとを、圧力１０〜１０００ｋＰａ、温度５００〜１０００℃の条件下で反応して得たものであることを特徴とする前記のＳｉＯｘ粒子の製造方法である。 （もっと読む）

【課題】集積回路において使用するのに適した厚さおよび質の金属酸化物の薄膜の製造。
【解決手段】キシレン／メチルエチルケトン溶媒中にストロンチウム、タンタルおよびビスマス２−エチルヘキサノアート（ethylhexanoate）などのいくつかの金属２−エチルヘキサノアート（ethylhexanoate）を含む前駆体液体が調製され、基板（５、858）が真空堆積チャンバ（２）内に配置され、少量のヘキサメチル−ジシラザンが前駆体液体に添加され、噴霧化され、噴霧は堆積チャンバ内に流入させられて基板上に前駆体液体の層が堆積される。液体は乾燥、焼成およびアニールされ、基板上にストロンチウムビスマスタンタル酸塩などの層状超格子材料の薄膜（506、860）が形成される。次いで、集積回路（600、850）が完成され、集積回路の構成要素（604、872）中に層状超格子材料膜の少なくとも一部が含まれる。 （もっと読む）

ＢＥＴ表面積３０〜９０ｍ^２／ｇ、少なくとも８０のジブチルフタレート数及び１１０ｇ／ｌ以下の重装嵩密度を有する熱分解により製造されたシリカ粉末。該シリカ粉末は少なくとも１種の蒸気状のケイ素化合物、遊離酸素を含有するガス及び燃焼ガスを密閉された燃焼器中で一緒に混合し、次いで燃焼器の火炎管中の火炎において燃焼させ、得られた固体をガス混合物から分離し、場合により生成し、その際、遊離酸素を含有するガスの酸素含量を、ラムダ値が１以上となるように調整し、かつガンマ値を１．２〜１．８にして製造する。該シリカ粉末はトナー用途で使用できる。
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【課題】 励起光を効率よく利用でき、分解力が高い光触媒担持シリカスート体とその製造方法、及び光触媒担持シリカスート体を用いた高性能な空気清浄装置、排ガス処理装置、排水処理装置及び浄水装置の提供。
【解決手段】 シリカガラス微粒子を堆積させて形成されたシリカスート体に光触媒が担持されてなることを特徴とする光触媒担持シリカスート体。シリカガラス微粒子を堆積させて形成されたシリカスート体を、光触媒粒子および／または光触媒前駆体を含む溶液に浸漬し、該溶液を含浸させた後、乾燥することで光触媒を担持させることを特徴とする光触媒担持シリカスート体の製造方法。 （もっと読む）

チタンおよび珪素の成分およびアルミニウム、ジルコニウム、亜鉛、錫、マグネシウム、イットリウム、バナジウム、タングステン、タンタル、セリウムまたはホウ素からなる群から選択される第３の成分を有する、熱分解により製造された結晶質三元金属混合酸化物粉末。前記粉末は、蒸発可能なまたは噴霧可能な珪素およびチタン化合物および蒸発可能なまたは噴霧可能な第３の混合酸化物成分の化合物を水素および一次空気と混合し、ガス混合物を反応室で焼き尽くし、形成される粉末をガス状反応生成物から分離する方法により製造される。前記粉末は日焼け止め組成物に使用できる。 （もっと読む）

一次粒子の凝集体から構成され、９０±１５ｍ²/ｇのＢＥＴ表面積、５０±８質量％の二酸化チタン部分および６０：４０〜７０：３０のアナターゼ型／ルチル型比を有する、炎内加水分解によって製造されたシリコンーチタン混合酸化物粉末。このシリコンーチタン混合酸化物粉末は、シリコンハロゲン化物、チタンハロゲン化物、水素および一次空気をバーナー中で点火し、火炎を周囲空気から閉鎖された反応室中に燃焼させ、燃焼によって反応室中の温度を増加させる二次空気およびガスまたはガス混合物および／または低い熱移動のために、反応室中で失速して冷却する二次空気およびガスまたはガス混合物を、付加的に反応室中に導入することにより製造される。このシリコンーチタン混合酸化物粉末は、トナー組成物中に使用されてよい。 （もっと読む）

０．２μｇ／ｇ未満の金属含量を有している熱分解により製造された高純度の二酸化ケイ素は、３０ppb未満の金属含量を有している四塩化ケイ素を火炎加水分解を用いて反応させることにより製造される。前記二酸化ケイ素は、高均質性を示すゾル−ゲル法を用いる高純度ガラスの製造に利用されることができる。これは光ファイバー紡糸用の母材として使用されることができる成形された物品の製造に使用されることができる。 （もっと読む）