【課題】新規なＳｉ含有膜形成材料、殊にＰＥＣＶＤ装置に適したアルケニル基含有有機シラン化合物から成るＳｉ含有膜形成材料を提供する。
【解決手段】一般式（１）で表される有機シラン化合物を含有するＳｉ含有膜形成材料を用い、化学気相成長法、特にプラズマ励起化学気相成長法によりＳｉ含有膜を形成させ、絶縁膜として使用する。
【化１】


（式中、Ｒ^１，Ｒ^２は、炭素数１〜２０の炭化水素基または水素原子を表し、ｎは０〜３の整数を表す。） （もっと読む）

２００〜４００ｍ²／ｇのＢＥＴ比表面積、９７．０±１．５質量％の二酸化ケイ素含有率、３．５±１．０質量％の二酸化チタン含有率、二酸化ケイ素含有率および二酸化チタンの含有率の合計が９９．７質量％よりも大きい、熱分解法ケイ素−チタン混合酸化物粉末。この粉末を含む分散液。粉末あるいは分散液から出発するチタン含有ゼオライトの製造方法。 （もっと読む）

本発明では、珪素の精製法、精製珪素を得る方法を提供し、ひいては、精製珪素結晶、精製粒状化珪素、および／もしくは精製珪素インゴットを得る方法も提供する。
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【課題】本発明は、クロロシランと水素からの多結晶シリコン析出時のオフガスから得る高沸点クロロシランを再利用する経済的な方法を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明は、クロロシラン及び水素からの多結晶シリコン析出時のオフガスが濃縮され、次に蒸留塔で分別され、前記蒸留塔からの底部留分が、０.５重量％〜２０重量％の高沸点クロロシラン及び９９．５重量％〜８０重量％の四塩化ケイ素を含む高沸点留分であり、前記高沸点留分が完全に蒸発し、クロロシラン蒸気がバーナーに供給され、炎の中で空気又は酸素及び水素と反応して焼成シリカを得ることを特徴とする焼成シリカの製造方法に関する。 （もっと読む）

【課題】 多結晶シリコンのような半導体粒子を安定して高効率に結晶化するとともに高い結晶性を持った結晶シリコン粒子を低コストで製造することができる結晶半導体粒子の製造方法によって製造された結晶半導体粒子を用いて、電気特性に優れた良好な光電変換装置を提供することにある。
【解決手段】 上面に、酸素を含有する半導体粒子１０１を載置した台板１０２を加熱炉内に導入し、半導体粒子１０１を加熱して溶融させた後、この溶融した半導体粒子１０１を台板１０２側から上方に向けて固化させることによって製造された結晶半導体粒子４０６を用いた光電変換装置であって、前記結晶半導体粒子４０６は酸素を含有し、結晶半導体粒子４０６の内部において酸素に一方の極１０３から対向する極１０４に向かって濃度勾配が形成されており、結晶半導体粒子１０１を用いて、高い光電変換効率の光電変換装置を提供する。 （もっと読む）

本発明は、酸素感受性の高いケイ素層と、それを得るための方法とに関する。このケイ素層（２）は、例えばＳｉＣで作られた基板（４）の上に形成され、３×２構造を有する。ケイ素層を得るための方法は、この基板の１つの表面上にほぼ均一にケイ素を堆積させることから構成される。本発明は、例えばマイクロエレクトロニクスに適用可能である。
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ナノ構造体の合成は、基体上の薄膜層の形にあり得る触媒を使用する。プレカーサー化合物は、低沸点について選択するか或いは既にガス状で存在する。ナノ構造体は、マスクした基体と一緒に合成してパターン化ナノ構造体成長を形成させ得る。該方法は、<10nmの粒度および狭い粒度分布を有する金属ナノ粒子を形成させることをさらに含む。金属ナノ粒子は、増強された触媒特性を有することを証明している。該方法は、Ni、Ptおよび/またはAuナノ粒子をSiO₂、SiCおよびGaNナノワイヤーの表面上に付着させるためのプラズマ助長化学蒸着を含み得る。ナノ構造体サンプルは、金属ナノ粒子で約5〜7分以内でコーティングし得る。ナノ粒子の粒度は、処理中の適切な温度および圧力の制御によって制御し得る。コーティングナノワイヤーは、ガスおよび水センサー並びに水素貯蔵のような用途を有する。 （もっと読む）

５〜６００ｍ^２／ｇの比表面積および５００ｐｐｍ未満の炭素含有量を有する熱分解法により製造された二酸化ケイ素粉末であり、これは比表面積１ｍ^２あたり、ジブチルフタレート１．２ｇ／１００ｇＳｉＯ_２以下の比ジブチルフタレート吸収量および比表面積１ｍ^２あたり、１５ｍＰａｓ未満の比増粘作用を有する。該二酸化ケイ素粉末は、蒸気状のテトラメトキシシランおよび／またはテトラエトキシシランを空気と一緒に、および別個に水素をバーナーに供給し、かつ気体の混合物をバーナーに直列に接続された反応室中の火炎中で反応させ、かつ固体の反応生成物を公知の手段により気体流から分離し、その際、バーナー中のラムダ値は０．９５〜１．５であり、かつその際、反応室中のラムダ値が０．８〜１．６であるために十分な二次空気を反応室へ供給することにより製造される。本発明はまた、該二酸化ケイ素粉末を含有する分散液ならびに該粉末および該分散液の使用も提供する。 （もっと読む）

【課題】半導体パッケージなどに用いられる樹脂組成物に好適な球状シリカ粒子の提供。
【解決手段】一般的に球状シリカ粒子中において、不純物と認識され、できる限り除去することが好ましいと考えられていた、アルミニウム元素などの１３族元素が樹脂組成物中において粘度を低下させる作用を発揮するばかりか、半導体パッケージにおける封止材に適用した場合でもこれといった悪影響の発現もない。本発明の球状シリカ粒子は、ウラン元素を質量基準で０．５ｐｐｂ以下、周期表の１３族元素から選択される一種以上の添加元素を質量基準で４０ｐｐｍ以上、４１０ｐｐｍ未満含有し、真球度が０．８以上であることを特徴とする。 （もっと読む）

ガラスは、プリフォームの縦方向に対してほぼ平行に前後に動くプラズマトーチの前方で動かしてプリフォームに予備焼結組成物を堆積させることにより製造され、第１の供給ダクトはプラズマに予備焼結組成物の粒を供給し、場合により第２の供給ダクトはプラズマにキャリアガスと混合されたフッ素化合物又は塩素化合物、有利にフッ素化合物を供給し、その際、前記の予備焼結組成物は、３０〜９０ｍ²／ｇのＢＥＴ表面積、８０以下のＤＢＰインデックス、２５０００ｎｍ²より低いアグリゲート平均面積、１０００ｎｍより低いアグリゲート平均周長を有し、その際、前記アグリゲートの少なくとも７０％は１３００ｎｍより低い周長を有する熱分解二酸化ケイ素粉末、又は火炎加水分解法により３０ｐｐｂよりも低い金属含有量を有する四塩化ケイ素の反応により製造された０．２μｇ／ｇよりも低い金属含有量を有する熱分解法により製造された高純度の二酸化ケイ素の金属酸化物又はメタロイド酸化物の顆粒からなる。 （もっと読む）

超高純度の光学品質ガラス製品を製造する方法が開示され、前記方法は、
１． 金属酸化物又はメタロイド酸化物を緻密化して約１ミリメートルより小さい平均粒子サイズを有する顆粒にする工程；
２． 場合により、前記顆粒を完全に焼結させて、高純度の人工砂を製造する工程；
３． この顆粒状の人工砂を通常の技術、例えばスリップ注型成形により注型して、高密度の多孔性成形体を作成する工程；
４． 場合により、前記成形体を乾燥及び部分的に焼結する工程；
５． 場合により、前記成形体を真空下で完全に焼結する工程；及び
６． 場合により、前記の完全に焼結した成形体を熱間静水圧加圧成形する工程を有し、
その際、前記金属酸化物又はメタロイド酸化物は、ＢＥＴ表面積３０〜９０ｍ²／ｇ、ＤＢＰインデックス８０より低、アグリゲート平均面積２５０００ｎｍ²より低及びアグリゲート平均周長１０００ｎｍより低を有し、その際、前記アグリゲートの少なくとも７０％は１３００ｎｍより短い周長を有する熱分解二酸化ケイ素粉末、又は０．２μｇ／ｇより低い金属含有量を有する熱分解法により製造された高純度二酸化ケイ素である。 （もっと読む）

二酸化ケイ素をベースとし、かつ次の特性：平均粒度：１０〜１２０μｍ、ＢＥＴ表面積：４０〜４００ｍ²／ｇ、細孔容積：０．５〜２．５ｍｌ／ｇ、細孔分布：合計の細孔容積の５％未満が、直径＜５ｎｍを有する孔であり、残りはメソ孔及びマクロ孔、ｐＨ値：３．６〜８．５、タップ密度：２２０〜７００ｇ／ｌを有する顆粒。前記顆粒は、二酸化ケイ素を水中に分散、噴霧乾燥、場合により加熱及び／又はシラン化することにより調整される。その際、ＢＥＴ表面積３０〜９０ｍ²／ｇ、ＤＢＰ値８０以下、アグリゲート平均面積２５０００ｎｍ²未満及び平均アグリゲート周長１０００ｎｍ未満を有し、アグリゲートの少なくとも７０％が１３００ｎｍより小さい周長を有する熱分解二酸化ケイ素粉末又は０．２μｇ／ｇより少ない金属含有量を有する高純度な熱分解により調整された二酸化ケイ素（３０ｐｐｂよりも少ない金属含有量を有する四塩化ケイ素を火炎加水分解により反応させて調整された）が使用される。 （もっと読む）

【課題】生産性が高く、分散後すぐに使用しても塗布適性が良好な色材受容層塗液を得ることが可能な気相法シリカ分散液の製造方法を提供する。また、こうして得た気相法シリカ分散液を使用することで、色材受容層のひび割れがなく面質が良好で、光沢、色材吸収性に優れた記録材料を提供する。
【解決手段】気相法シリカをカチオン性化合物の存在下で水系分散媒中に分散して気相法シリカ分散液を製造する方法において、該分散液の製造工程中もしくは製造後に該分散液のｐＨを０．１以上上昇させる操作を行う。気相法シリカ分散液のｐＨを０．１以上上昇させる操作が、ｐＫａが１．０以上の酸とアルカリ金属との塩の添加により行われると好ましい。 （もっと読む）

【課題】２５℃において粘度が1Ｐａｓである液体媒体中、１０ｓ^−１の剪断速度で測定した相対粘度すなわち増粘作用η_ｒｅｌが２よりも大きな粒子を提供する。
【解決手段】本粒子は、乾燥体として多孔率ε>０．５である堆積物の形成が可能である。 （もっと読む）

抗微生物性および／または抗菌性および／または抗真菌性の効果を有し、かつ粒子の形のドープシリカ（ＳｉＯ₂）を製造するための火炎噴霧熱分解法を開示する。前記の火炎法により製造されたドープシリカは、少なくとも１の機能性ドーパントを含有し、前記機能性ドーパントは、少なくとも１の抗微生物性および／または抗菌性および／または抗真菌性に作用する金属および／または金属酸化物からなり、有機溶剤中の、少なくとも１の機能性ドーパント前駆体、特に銀および／または銅を含有する前駆体と、少なくとも１のシリカ前駆体とを含有する前駆体溶液から出発して製造される。このようなドープシリカは、たとえばポリマー材料中に配合するために、または含浸材料として使用するために適切である。 （もっと読む）

【課題】 電子写真用トナー外添剤として使用した場合、トナー粒子への埋没を抑えることで良好な流動性を維持し、かつクリーニングブレードのかきとり不良によるフィルミング現象を防止し、かつトナー帯電量のバラツキを抑制したシリカ微粒子を提供する。
【解決手段】 珪素化合物の燃焼によって得られるシリカ微粒子において、平均粒子径が０．０５μｍ以上０．１μｍ未満の範囲でありかつロジン−ラムラー線図で表示した粒度分布の勾配ｎの値が２以上であり、かつレーザ回折・散乱法による測定で１μｍ以上の溶融粒子を含まないシリカ微粒子。 （もっと読む）

【課題】高い増粘作用と同時にポリマー、特にシリコーンポリマーへの短い導入時間及び良好な分散可能性を有する二酸化ケイ素粉末を提供する。
【解決手段】一次粒子の凝集体の形の熱分解法により製造された二酸化ケイ素粉末であって、一次粒子が
− ＢＥＴ表面積１５０±１５ｍ^２／ｇを有し、該凝集体が
− 平均表面積１２０００〜２００００ｎｍ^２、
− 平均等価円直径（ＥＣＤ＝等価円直径）９０〜１２０ｎｍ、及び
− 平均周囲長１１５０〜１７００ｎｍ
を有する二酸化ケイ素粉末を製造する。 （もっと読む）

【課題】高い増粘作用と同時にポリマー、特にポリエステル樹脂への短い導入時間を有する二酸化ケイ素粉末を提供する。
【解決手段】一次粒子の凝集体の形の熱分解法により製造された二酸化ケイ素粉末であって、一次粒子が
− ＢＥＴ表面積２００±２５ｍ^２／ｇを有し、かつ該凝集体が
− 平均表面積７０００〜１２０００ｎｍ^２、
− 平均等価円直径（ＥＣＤ＝等価円直径）８０〜１００ｎｍ、及び
− 平均周囲長８５０〜１０５０ｎｍ
を有する二酸化ケイ素粉末を製造する。 （もっと読む）

【課題】液体媒体中に迅速に混和する二酸化ケイ素粉末の提供。
【解決手段】ＢＥＴ表面積９０±１５ｍ^２／ｇを有する一次粒子の凝集体の形の、熱分解法により製造された二酸化ケイ素粉末であって、凝集体が、平均表面積１００００〜２００００ｎｍ^２、平均相当円周直径９０〜１３０ｎｍおよび平均円周１０００〜１４００ｎｍを有する熱分解法により製造された二酸化ケイ素粉末。
ＳｉＣｌ_４およびＨ_３ＳｉＣｌ、Ｈ_２ＳｉＣｌ_２、ＨＳｉＣｌ_３、ＣＨ_３ＳｉＣｌ_３、（ＣＨ_３）_２ＳｉＣｌ_２、（ＣＨ_３）_３ＳｉＣｌ、（ｎ−Ｃ_３Ｈ_７）ＳｉＣｌ_３からなる群から選択された第２の成分を一次空気および燃焼ガスと混合し、反応室の中に燃焼させ、この際燃焼室中に更に二次空気を供給し、かつ供給物質を断熱火炎温度Ｔ_ａｄが１８１０〜１８９０℃になるように選択する。
該熱分解法により製造された二酸化ケイ素粉末を含有する分散液。 （もっと読む）

【課題】基材表面を触媒化処理することなく、基材表面上に直接金属酸化物膜を形成する金属酸化物膜の製造方法であって、基材が構造部を有する場合においても、簡便なプロセスで均一な金属酸化物膜を得ることが可能な金属酸化物膜の製造方法を提供することを主目的とするものである。
【解決手段】本発明は、基材表面に、金属源として金属塩または金属錯体が溶解した金属酸化物膜形成用溶液を接触させることにより金属酸化物膜を得る金属酸化物膜の製造方法であって、上記金属酸化物膜形成用溶液が還元剤を含有することを特徴とする金属酸化物膜の製造方法を提供することにより、上記課題を解決する。 （もっと読む）