本発明は、粉末化基質を官能基化する方法に関する。本方法は以下のステップを含み、本方法は、ガスを、励起および／または不安定ガス種を形成させるための手段、典型的には大気圧プラズマもしくは同様のものの中へと通すこと、ならびに、該手段を離れていく際、実質的に電荷のない励起および／または不安定ガス種を該ガスが含むよう該ガスを処理することを含む。実質的に電荷のない該励起および／または不安定ガス種を含んでいる該ガスが次いで、励起および／または不安定ガスを形成させるための手段外部の下流領域中の粉末化基質および官能基化前駆体を処理するのに使用され、ここで、該粉末化基質も該官能基化前駆体も、ステップ（ｉ）および（ｉｉ）に付されておらず、該官能基化前駆体が、該粉末化基質の導入と同時もしくは引き続いて、導入される。好ましくは本方法は、流動化床において行われる。

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【課題】多数の触媒を、複数の分析方法の組み合わせを用いて同時に又は順次試験に付すために適する装置を提供する。
【解決手段】２以上の触媒作用試験を同時及び／又は順次行うための、反応器素子を有する装置であって、前記反応器素子は、少なくとも1個のガス導入部、複数の反応チャンバー、及び少なくとも1個の制限部材を有し、該少なくとも1個の制限部材が複数の溝部を、少なくとも１個の反応チャンバーが前記少なくとも1個の制限部材中の少なくとも１個の溝部に直接接触するように配置されることにより構成されていることを特徴とする装置。 （もっと読む）

流体流中の汚染物質を削減するための装置である。装置は、流体流中に基を生成するよう基エネルギーを生成するために、少なくとも１つの光源を含み、光源は誘電体バリヤ放電エキシマランプである。
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本発明は、特に燃焼ガスの脱硫に適した多相反応装置に関する。多相反応装置のハウジングの内部には、軸対称体と環状軸対称体からなる組込式回転部材が固定される。ハウジングは円筒状で、その表面は平坦または波状である。環状軸対称体の上に同軸に設定された軸対象体は、環状軸対称体の内側直径以上の最高直径を有する。１つの組込式回転部材とそのハウジングとがユニットを構成し、反応装置は１つまたは複数のそのようなユニットを有することができる。本発明による多相反応装置は、液体の流れパタンを充分に向上させ、固体の堆積を防止し、気体相、液体相、および固体相を実質的に接触させ、物質移送の速度を高めることができ、また単純な構造を有し、使用するのに便利であり、特に環境保護、化学工業、冶金、および建築産業などの分野で使用するのに適している。この反応装置は、組込式回転部材を有する。

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エチレンをエチレンオキシドに酸化するための反応器系。前記反応器系は触媒成分を含有し得る成形支持体材料の充填層を収容している反応管を含む。前記成形支持体材料は中空円筒形幾何学的構造を有する。前記反応器系は反応管と触媒系形状寸法の特定組合せを有する。
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【技術課題】 基板に損傷や表面汚染を与えることなく、エッチングや成膜が行え、チャンバや電極等の構造は同一であるにも拘らず、導入するガスやプラズマ励起周波数を変えることにより、エッチングや成膜にも応用可能であり、生産性に優れるとともに、低価格で高性能なプラズマプロセス用装置を提供すること。
【解決手段】 容器内105に対向するように設けられ夫々平板状に形成された第１及び第２電極102，104と、プラズマに対して安定な材料から成り第１電極102上を覆うように設けられる保護部材101と、第２電極104上に被処理物103を取り付けるための保持手段と、第１電極102に接続される第１の高周波電源111と、第２電極104に接続される第２の高周波電源110と、容器105内に所望のガスを導入するためのガス供給手段とを少くとも備え、第１の高周波電源の周波数が前記第２の高周波電源の周波数より高いことを特徴とする。 （もっと読む）