水素、アルゴン、クリプトンなどの元素およびその他の組成物をナノチューブ構造に注入するための実用的な方法および装置が開示される。より具体的には、このような発明は、一実施形態において、ナノ構造材料に向けて水素の加速ビームのエネルギーを正確に制御するために必要な必須の付属機器と共に使用されるイオン・ビーム・ライン装置を含む。
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プロセスは、化石燃料を燃焼する炉から排出されるＣＯ₂、ＳＯ₂、Ｎｏｘ及びＣＯ等の温室効果ガスを集める工程；ガスの浄化及びスクラブが行われる金属イオン封鎖装置にガスを供給する工程；スクラブされたガスを、ガスの体積を減少させるために圧縮機へ移送する工程；ガスを荷電成分にイオン化するプラズマアークにガスを導入する工程；自由電子源を供給する工程；自由電子を高濃度自由電子ゾーンで捕獲する工程；プラズマアークから架電成分を高濃度自由電子ゾーンに導入し、イオンを、炭素、酸素ガス、窒素、炭化水素、及び他の元素成分の元素フラグメントに転換する工程；炭素及び他の元素の元素フラグメントを集める工程；酸素ガスを炉へ送って、さらなる化石燃料を燃焼させる工程、を含んでいる。 （もっと読む）

粒子線処理装置を用いて材料を処理する方法およびその方法で作り出された材料が本明細書に提供されている。１つの例示の好ましい実施形態によって、粒子線処理装置を用いて材料を処理する方法が提供され、その方法は、複数の粒子を作り出す少なくとも１つのフィラメントを含む粒子線発生組立品を提供する工程、約１１０ｋボルトより大きい動作電圧をフィラメントに印加して、複数の粒子を作り出す工程、複数の粒子に約１０ミクロン以下の厚さを有する薄箔を貫通させる工程、および複数の粒子を用いて材料を処理する工程を含む。
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基板（１０）上に固相アレイを形成するように、化学物質を空間選択的に堆積することによってマイクロメートル規模及びナノメートル規模で製作又は製造する方法であって、静電気的潜像の形成のように、基板上の少なくとも一つの領域に基板の他の領域の電荷とは異なる静電荷を形成することによって、少なくとも一つの領域（１５）を定義する工程と、基板にエマルジョンを塗布する工程とを含む方法。エマルジョン（１６）は、帯電した不連続相及び該不連続相の中に担持された、又は該不連続相を含んでなる選択的に堆積されるべき成分を有している。このエマルジョンの不連続層は、当該領域上の静電荷により引寄せられることによって予め選択された領域に引寄せられ、反応を伴って又は伴わずに堆積が得られる。光導電体の使用によって、静電画像を形成することができる。形成されるアレイは、フラットスクリーンディスプレーパネルのためのものであってよく、ＤＮＡチップ、印刷回路、半導体チップ、ナノテクノロジー、ミクロ電気機械的システム、可撓性印刷回路等を製造するためのものであってよい。 （もっと読む）

【課題】 本発明の課題は、微小な多孔質部をその一部に有するフィルム状の部材や、多孔質部を有する非常に薄くかつ柔軟なフィルム状の部材を工業的に安定した方法で精度良く他の部材に積層し固着して、多孔質部を有するマイクロ流体デバイスを製造する方法を提供する。
【解決手段】 塗工支持体上に活性エネルギー線硬化性組成物を塗工し、部材の少なくとも一部に部材の表裏に達する細孔からなる多孔質部を有する硬化又は半硬化状の塗膜から成る第一部材を形成する工程、表面に達する流路となる欠損部を有する第二部材の前記欠損部の少なくとも一部に、第一部材の多孔質部を重ねるように積層し固着する工程、及び塗工支持体を第一部材から除去する工程を含む、流路と該流路と接続された多孔質部を有するマイクロ流体デバイスの製造方法。 （もっと読む）