【課題】 本発明は照射室の酸素濃度を適切なレベルに維持しつつ不活性気体の使用量を削減することが可能な電子線照射装置を提供する。
【解決手段】 照射室４内に不活性気体を導入しつつ照射室４を通過する被照射体としてのフィルムＦに電子線を照射する電子線照射装置１において、照射室４内の酸素濃度を検出する酸素濃度計３５と、照射室４内に導入される不活性気体の流量を調整する主制御弁２５と、酸素濃度が低下すると不活性気体の流量が減少するように、酸素濃度計２５が検出した酸素濃度に基づいて主制御弁２５の開度を制御する制御ユニット４０とを設ける。 （もっと読む）

【課題】 金属、半導体、絶縁物および有機物等の固体表面にクラスターイオンビームを照射し、該固体の表面に超親水性を付与する表面改質を行い、該固体表面でのアパタイト等のバイオ材料や有機材料の成長を促進することができるようにする。
【解決手段】 所定の加速電圧で加速された水クラスターイオンビーム、若しくは、酸素クラスターイオンビーム及びモノマーイオンビームを固体表面に照射することによって、該表面に接触角１５°以下の超親水性を付与する。 （もっと読む）

本発明は、ガラス質氷被覆粒子液滴を急速に形成するための方法と装置を提供する。
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【課題】 基板上に形成された窪みまたは貫通孔の中において、所定の形状の細孔の配向が、基板の面内方向に対して略垂直方向を含む任意の方向に揃うことを可能にする配向メソ細孔薄膜、鋳型および配向メソ細孔薄膜の作製方法を提供すること。
【解決手段】 正方形の窪み２が形成された基板１と、窪み２の中に形成された、周期構造を自己組織的に形成する高分子を鋳型として形成された、管状の細孔３を複数有し、該細孔３の配向方向が基板１の面内方向に対して略垂直方向に揃っているシリカ薄膜４とを備える。 （もっと読む）

【解決手段】本発明は、望ましくは気体の媒体（３）を処理するための、少なくとも１つのプラズマ発生区画（２）、望ましくは多数のプラズマ発生区画（２Ａ、２Ｂ）、を直列に設けた貫流プラズマ装置（１）を作動させる方法であって、前記処理済みの又は未処理の媒体（３）の少なくとも１つの特性を判定する段階と、前記判定された特性（Ｃ）に依って、前記プラズマ装置（１）の少なくとも１つの作動設定値（Ｓ）を変更する段階と、から成る方法に関している。 （もっと読む）

平均クラスタ・イオン速度ｖ、平均クラスタ・イオン質量ｍ、平均クラスタ・イオン・エネルギーＥ、平均クラスタ・イオン電荷状態ｑ、電荷当たりの平均クラスタ・イオン質量（ｍ／ｑ）ａｖｅｒａｇｅ及び電荷当たりの平均エネルギー（Ｅ／ｑ）ａｖｅｒａｇｅを含むクラスタ・イオン・ビーム（３０６）におけるクラスタの特性を測定／制御するための方法と装置（３００）が開示されている。測定値は、ガスクラスタ・イオン・ビーム照射によるワークピースの最適処理にとって極めて重要なガスクラスタ・イオン・ビームの特性を監視しかつ制御するためにガスクラスタ・イオン・ビームのプロセス・システムにおいて使用される。
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【課題】 電子ビーム（ＥＢ）により有機化合物を分解し、その分解物および当該分解物由来の微粒子を高効率で帯電化させ、静電的に捕集する方法および装置を提供する。
【解決手段】 気体を次のステップ１および２からなる一連の処理を少なくとも１回以上繰り返す。
ステップ１：未処理の気体またはステップ２により処理された気体を単極帯電化装置に通気し、単極帯電化室において、電子ビーム（ＥＢ）を照射して気体中の有機化合物を分解し、かつ、電極により電場を印加し有機化合物の分解物および当該分解物由来の微粒子を単極帯電化するステップ。
ステップ２：ステップ１により処理した気体を捕集容器に通気し、該容器内の電極により電場を印加し、単極帯電化された分解物および微粒子を電極に捕集し、清浄気体を得るステップ。 （もっと読む）

【課題】小型でかつ不活性ガスの使用量が少なく、電子線照射処理のサイクルタイムが短く、かつ電子線照射の均一性が高い電子線照射装置および電子線照射方法を提供すること。
【解決手段】電子線を放射する電子線照射管２２を有する電子線放射部２０と、放射された電子線を被照射物１に照射する電子線照射部３０と、電子線放射部３０に被照射物１を搬送する搬送機構５０と、電子線を照射する際に被照射物１を自転させる回転機構７６と、電子線を照射する際に被照射物１と電子線照射管２２との間に、電子線照射管２２が被照射物１の直上を通るような相対的な直線移動を生じさせる直動機構７８とを具備し、直動機構７８は、電子線照射管２２が被照射物１の端部から中心に向いその電子線放射部位２２ａの中心が被照射物の中心に達する前に折り返すような相対的な直線移動を生じさせる。 （もっと読む）

【課題】 照射窓を通過する際における電子線のロスを小さくし、効率よく照射雰囲気中に電子線を取り出すことができる電子線照射装置を提供する。
【解決手段】 この電子線照射装置は、Ｘ方向に搬送される被照射物５０に向けて電子線１４を照射する電子線照射装置である。Ｘ方向に伸びていると共に両端部１０６ｂが支持されて同一平面上かつＹ方向に並べて配置された複数のフィラメント１０６に対して略平行に配置されて、フィラメント１０６から放出された電子を電子線１４として引き出す引出し電極１２を備える。Ｘ方向に並列に配置される複数の長手窓２８、３０に仕切る長手桟２２を有し、前記引出し電極１２から引き出された電子線１４を透過させて照射雰囲気中に取り出す照射窓１６を備える。フィラメント１０６は、コイル状に巻かれたコイル部１０８が長手窓２８、３０とＺ方向に対応する部位に形成されている。 （もっと読む）

【課題】 速やかに高い効率で排ガスに含まれる揮発性有機化合物を分解除去できる排ガス処理装置を提供する。
【解決手段】 ガス導入口及びガス排出口を有し、ガス導入口から内部に導入された被処理ガスに電子線を照射する手段を備えた照射処理室３と、前記照射処理室のガス排出口に連結して設けられた接触剤を充填した接触処理室５とを有する排ガス処理装置。接触剤としては、ゼオライト、粒状活性炭、活性炭素繊維等が使用できる。電子線の照射は、被処理ガスの移動方向に対して垂直方向から照射することが好ましい。 （もっと読む）

【課題】 ダイオキシン類により汚染された固体を、安全かつ効率的で低コストにより無害化処理を行うことが可能なダイオキシン類無害化処理装置を提供する。
【解決手段】 ダイオキシン類を含有する汚染廃棄物Ｗを真空状態で加熱することにより前記ダイオキシン類を前記汚染廃棄物Ｗから分離する真空加熱手段１０と、前記真空加熱手段１０により前記汚染廃棄物Ｗから分離された前記ダイオキシン類を分解して無害化する電子線処理手段２０と、を備えることを特徴とするダイオキシン類無害化処理装置１。 （もっと読む）

新規な反応チャンバは不快なにおいをもつガス、有毒な要素をもつガスを処理するためのものである。チャンバはエネルギーをもつ電子で前記ガスを処理するためのもので、チャンバ容積の中央にある伸長電子ソースを使用し、電子ソースはチャンバ内で電子ソースから放射方向に放出される。ガスは、その流れるガスが一様で効率的に曝されるように電子ソースの領域に流れ込み、その電子ソースの領域から流れ出る。
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【課題】被処理体への電子線の照射条件の安定化が容易で、且つ、処理効率を向上可能な電子線照射処理方法および電子線照射処理装置を提供する。
【解決手段】電子を放出可能な電子放出部から被処理体へ電子線を照射することにより被処理体に物理的作用もしくは化学的作用もしくは生物的作用を生じさせる処理を行う電子線照射処理方法であって、電子放出部として、表面が平面状である表面電極７と下部電極５との間に表面電極７を高電位側とする駆動電圧が印加されたときに電子が通過する電子通過層たる強電界ドリフト層６を有し表面電極７を通して電子を放出する平面型の電子源１０を用い、電子源１０の表面電極７の表面に被処理体２０を接するようにして電子源１０から被処理体２０へ電子線を直接照射する。 （もっと読む）

【課題】任意のパートナー（例えば、タンパク質又は核酸）に関して、分析に必要な量を高密度で固定化することが可能なマイクロアレイ用担体を提供する。
【解決手段】マイクロアレイ用担体におけるプラスチック製担持表面が、放射線照射処理されており、好ましくはプラスチック製担体表面がポリスチレン又はスチレン系共重合体であり、放射線照射処理の線量が１〜１００ｋＧｙであり、放射線がガンマ線であることを特徴とするマイクロアレイ用担体。 （もっと読む）

【課題】 電子線透過率が高く且つ長寿命な電子線透過窓、その製造方法及び電子線照射装置を提供する。
【解決手段】 シリコン基板の一方の面上にダイヤモンド核を形成した後、化学気相成長法によりこのシリコン基板の一方の面上に、電子線透過膜としてダイヤモンド膜４を形成する。次に、シリコン基板の中央部に開口部を形成してダイヤモンド膜４の一方の面にシリコン支持枠２を形成する。その後、ダイヤモンド膜４の他方の面にシリコン支持枠２と共にダイヤモンド膜４の周辺部を挟むアルミニウム支持枠３を形成して、電子線透過窓１とする。 （もっと読む）

【課題】 液体や膜状物、医薬品原料や試薬原料などの中に含まれるタンパク質を、従来と比較して格段に簡便かつ確実に分解することができる処理方法、およびそのための処理装置を提供する。
【解決手段】 液体または膜状物に反応性を有する粒子を放出することによって、当該液体または膜状物に含まれるタンパク質を断片化することを特徴とする処理方法、ならびに、反応性を有する粒子を発生する手段と、タンパク質を含む材料中のタンパク質を材料表面に露出させるための手段と、前記露出したタンパク質に前記反応性を有する粒子を放出する手段とを備える処理装置。 （もっと読む）

【課題】電子線源における電子加速電極板をシールド電極開口へ、従来より簡単に、精度よく取り付けることができる電子線照射装置を提供する。
【解決手段】熱電子放出用のフィラメント１と、これに臨設された電子引出し電極２と、これらを囲むとともに電子取り出し開口３３を有するシールド電極３と、シールド電極開口３３に取り付けられた電子加速電極板４とを有する電子線源１０を減圧用容器２０内に設置し、容器２０には電子線照射窓２０１を形成した電子線照射装置Ａ。加速電極板４は外縁部４１が環状枠部材５に保持され、枠部材５がシールド電極開口内周部に沿って設けた部材３５に電極３外側から当てがわれて電極３外側からネジＳ１で留められる。 （もっと読む）

処理室（１１）の中に位置する１つ又は複数のマイクロ構造体をエッチングするためのエッチングガス源（１０）を備える装置（９）及び方法が提供される。この装置は、ガス源（２６）及びエッチング材料（２８）を含むための１つ又は複数の室（２７）に付設されたガス源供給ライン（１２）を有している。使用において、１つ又は複数の室（２７）の中でエッチング材料（２８）がエッチング材料蒸気に変換され、ガス供給ライン（１２）は、キャリヤーガスをエッチング材料蒸気に供給するための手段、及び次いでキャリヤーガスによって移送されたエッチング材料蒸気を処理室（１１）に供給するための手段を備える。有利なことに、本発明の装置（９）は、エッチングガスの連続的な流れを達成するためにいかなる膨張室又は他の複雑な機械的な特徴の組み込みも必要としない。
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【解決手段】電子がガス流を清浄化することを含むさまざまな応用に使用可能なところで、真空エンクロージャから大気を含む周囲空間へ電子を解放する高エネルギー電子の概して円筒形生成器が説明される。ガスまたは処理が必要な表面の処理と関連して、このクラスの過去の装置に比べより大きい電力のビームを放出する効率的な電子生成器が説明される。 （もっと読む）

電離放射線処理システムが、水によって運ばれるプラットホーム上に設けられ、水によって運ばれるプラットホームは汚染された材料を積載、処理および荷下ろしするための領域を含む。
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