【課題】 微粒子又は粉体の表面に薄膜又は超微粒子を均一性よく被覆できるＣＶＤ装置及びＣＶＤ成膜方法を提供する。
【解決手段】 本発明に係るＣＶＤ装置は、微粒子１を載置する容器２と、前記容器２を収容するチャンバー３と、前記容器２に載置された微粒子１を加熱するヒーター４と、前記チャンバー３内に原料ガスを導入するガス導入機構と、を具備し、サーマルＣＶＤ法を用いることにより、前記微粒子１の表面に該微粒子より粒径の小さい超微粒子又は薄膜を被覆することを特徴とする。 （もっと読む）

本発明は、それによって化学調製を行うことができる新規手段に関する。反応は、特別なチップ上でマイクロ波エネルギーを用いて加速することができる。チップは、マイクロ波エネルギーを効率的に吸収し化学反応速度を増加させる材料を含む。本発明は、タンパク質化学反応およびコンビナトリアルケミストリーにおいて使用されるものを含めて、多数の小規模化学変換において重要である。
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【課題】
本発明の課題は、要求される生成物の量に応じて、流体の反応条件を変えることなく化学反応を行い、加熱のエネルギーに対する反応効率を低下させることなく生成物を供給することができる反応装置を提供することである。また、その反応装置を使って効率的な反応を行うことができる反応装置の運転方法を提供することである。
【解決手段】
本発明は、微細な複数の流路を設け、流路で行われる化学反応を流路毎に制御することにより、要求される生成物の量を使用する流路の数で調節するとともに加熱に必要なエネルギーの調節も行うことができる。すなわち、生成物の必要量が少量であっても、加熱のエネルギー量に対する反応効率を下げることなく反応を行うことができる。 （もっと読む）

本発明は、高エネルギの放射線の照射によって不活性ガス雰囲気下で放射線硬化可能な材料を硬化させることにより基材上の成形材料および被覆体を製造するための装置および方法に関する。
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処理層を周辺バリアと結合するフレームからできている燃料電池、電解電池等のような化学反応装置。周辺バリアは処理層上に低アスペクト比の凹部を形成する。低アスペクト比の凹部は、多孔性拡散媒体または他の材料で充填することができる。フレームは、反応装置を形成するために結合することができる中間組立体に内蔵させることができる。中間組立体は、反応装置を形成するために一緒に接着することができる。組み立てた反応装置においては、凹部は高いアスペクト比を有する。
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コンタクト面（Ｓ_ｄｅｖ）（１０８）がその中にある、マイクロデバイス（１０１）上に存在する、１又はそれ以上の液体を含む微小空洞（１０２）を加熱するための加熱アレンジメント。アレンジメントは、ａ）マイクロデバイス（１０１）が加熱サポート（１０４、２０４）の上に配置された場合に、Ｓ_ｄｅｖ（１０８）に対向するサポートコンタクト面Ｓ_ｓｕｐ（１１０）と、ｂ）加熱要素（１２０、２２０）に微小空洞（１０２）を合わせて、（ａ）に従ってマイクロデバイス（１０１）が配置された場合に、それぞれがＳ_ｓｕｐ（１１０）と熱接触し、および少なくとも微小空洞（１０２）の少なくとも１つと熱接触する、１又はそれ以上の加熱要素（１２０、２２０）と、を有する加熱サポート（１０４、２０４）を含む。アレンジメントの特徴は、マイクロデバイス（１０１）がサポート（１０４、２０４）上に配置された場合に、アレンジメントが、サポートを介してサポート（１０４、２０４）とマイクロデバイス（１０１）との間でサブ加圧を可能とするサブ加圧システム（１１３−１１９）を含むことである。
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