Fターム[4G169BC41]の内容
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La (1,219)
Ce (2,179)
La、Ce以外のランタノイド (747)
Fターム[4G169BC41]に分類される特許
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メソ細孔性またはメソ細孔性およびミクロ細孔性の組み合わせの無機酸化物を製造する方法
【課題】触媒、触媒担体または吸着剤として使用できる非結晶性のメソ細孔性およびミクロ細孔性の無機酸化物を、安価な物質を使用しそして環境に優しく製造する方法の提供。
【解決手段】a)錯体化温度で無機酸化物の源と錯体化剤とを反応させて少なくとも1つの錯体を得る段階、b)少なくとも1つの錯体を分解して少なくともいくつかの有機の孔形成剤を含む無機酸化物の骨格を有する細孔性物質の前駆物を得る段階、そしてc)溶媒抽出および/またはか焼により無機酸化物の骨格から有機の孔形成剤の少なくとも大部分を除く段階からなるメソ細孔性またはメソ細孔性/ミクロ細孔性の組み合わせの無機酸化物を製造する方法。
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オレフィン飽和に対する水素化脱硫の選択性を向上するためのオレフィン質ナフサ原料ストリームからの窒素除去
本発明は、低硫黄オレフィン質ナフサ沸点範囲生成物ストリームを窒素除去および選択的水素化により製造するための二工程方法に関する。 (もっと読む)
酸化セリウム及び酸化ジルコニウムを主体とする向上した還元能と表面性を有する組成物、その製造方法、及び触媒としての利用
Ce/Zr原子比が少なくとも1の酸化セリウム及び酸化ジルコニウムを主体とし、少なくとも70%の還元能と、少なくとも15m2/gの表面積を有する組成物を提供する。この組成物は、セリウム化合物、ジルコニウム化合物及び場合によりさらに前記元素を含む混合物を形成し、前記混合物に塩基性化合物を接触させて沈殿を形成し、前記沈殿を水性媒質中で加熱し、この水性媒質に、又は分離した沈殿に、界面活性剤、ポリエチレングリコール、カルボン酸を添加し、添加剤を添加した沈殿を粉砕し、粉砕された沈殿を第1段階として不活性気体中又は真空中で少なくとも850℃の温度に加熱し、第2段階として酸化性雰囲気中で少なくとも400℃に加熱することよりなる製造方法により製造される。 (もっと読む)
金属含有水素貯蔵材料およびその製造方法
【課題】本発明は、水素化または脱水素化の目的で触媒を含有する金属含有水素貯蔵材料に関する。
【解決手段】前記触媒は金属炭酸塩である。このような金属含有水素貯蔵材料の製造方法は、前記金属含有材料および/または金属炭酸塩の形態の前記触媒を機械的粉砕工程に付すことを特徴とする。
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低硫黄燃料を製造する際の触媒系およびその用途
本発明は、触媒系、並びに原料オレフィンの骨格異性化、水素化処理および場合により塩基性窒素含有化合物の除去による、高オクタン価の低硫黄ナフサ生成物製造におけるその用途に関する。 (もっと読む)
ビルディングブロックを含む配位錯体系
本発明は、少なくとも2の供与体部分を持つ配位子を含む配位錯体系であって、該少なくとも2の供与体部分が遷移金属およびランタニドから選ばれた少なくとも1の金属と錯体化されている配位錯体系において、該配位子が少なくとも2のビルディングブロックを含み、該ビルディングブロックのそれぞれが少なくとも1の官能基および少なくとも1の供与体部分を持ち、1のビルディングブロックがその官能基を通してもう1つのビルディングブロックのまたはテンプレートの相補的な官能基に非共有結合的に結合され、該テンプレートはもう1つのビルディングブロックの相補的な官能基に非共有結合的に結合された少なくとも1の他の官能基を含み、かつテンプレートが2より多い官能基を含有するときはすべてのビルディングブロック−テンプレート−ビルディングブロック構造が同じであることを特徴とする配位錯体系に関する。 (もっと読む)
触媒または吸着媒体用内部フィン支持体を備えるマイクロチャネル
本発明は、高さ、幅、および長さ(高さは約10mm以下)を有し、プロセスマイクロチャネルの幅に沿う一方向とプロセスマイクロチャネルの長さに沿う他の方向に展延する基底壁を有する、少なくとも1個のプロセスマイクロチャネルと、基底壁からプロセスマイクロチャネル中に突出し、プロセスマイクロチャネルの長さの少なくとも一部に沿って展延する、少なくとも1個のフィンと、フィンに担持された触媒または吸着媒体とを含む装置に関する。
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