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Fターム[4H039CC20]の内容

触媒を使用する低分子有機合成反応 (28,076) | 酸化 (1,785) | 他の結合からの水素の脱離 (207)

Fターム[4H039CC20]に分類される特許

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【課題】製造の途中で機械的に磨耗した物質が形成されにくい触媒層を提供する。
【解決手段】本発明は、触媒活性な成形体と触媒不活性な成形体との物理的混合物を含む触媒層であって、触媒不活性な成形体の外部こすれ面の縁部が丸くなっていることを特徴とする触媒層に関する。 (もっと読む)


以下の工程:キシレンをフタロニトリルへとアンモ酸化する工程、及びフタロニトリルを水素化する工程を含む、キシリレンジアミンの製造法において、前記アンモ酸化工程の蒸気状の生成物を液体の有機溶剤又は溶融フタロニトリルと直接接触させ(クエンチ)、得られたクエンチ溶液又はクエンチ懸濁液又はフタロニトリル溶融物から、フタロニトリルよりも低い沸点を有する成分(低沸点成分)を部分的又は完全に除去し、かつフタロニトリルよりも高い沸点を有する生成物(高沸点成分)をフタロニトリルの水素化の前に除去しないことを特徴とする、キシリレンジアミンの製造法。 (もっと読む)


本発明は、式(I)(式中、Rは、直鎖状または分枝状アルキル基(C1〜C6)を表す)で示される誘導体を合成する方法に関する。本発明は、ペリンドプリルおよび薬学的に許容され得るその塩を合成するために用いられる。
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圧縮前に濾過される、酸素源としての圧縮空気の併用下で、少なくとも1の有機化合物を不均一系触媒により連続的に気相部分酸化する方法。 (もっと読む)


分子状酸素により反応基質を酸化するための酸化触媒であって、特定のヒドラジルラジカル(例えば2,2−ジフェニル−1−ピクリルヒドラジル)及び特定のヒドラジン化合物(例えば2,2−ジフェニル−1−ピクリルヒドラジン)よりなる群から選ばれる少なくとも1種を包含することを特徴とする酸化触媒。該酸化触媒の存在下、反応基質を分子状酸素と接触させることによる化合物の製造方法。 (もっと読む)


本発明は、酸素または酸素を含む気体混合物を使用し、マンガン塩または銅塩を使用し、アンモニアおよび/またはアミンの存在下でメルカプトエタノールを酸素と反応させる、ジチオジグリコールを生成する方法に関する。この方法は、収率の高い均一な生成物を供給し、実際上、中間生成物は得られない。反応時間は極めて短い。過剰酸化は起こらず、どんな排気および排水問題もない。 (もっと読む)


【課題】 プロパンの一段の気相接触酸化によりアクリル酸を高収率で製造する方法の提供。
【解決手段】 金属Mo、V、SbおよびA(但しAは、Nb、Ta、Sn、W、Ti、Ni、Fe、CrおよびCoからなる群から選ばれた一種以上の元素である)を下記組成式(I)で表される割合で含有する金属酸化物触媒を使用してプロパンの気相接触酸化によりアクリル酸を製造する方法において、反応器への供給ガス中のプロパン濃度が2容量%以上で、該供給ガスを構成する各ガスの体積比が、プロパン:酸素:希釈ガス=1:0〜0.5:0〜49であり、且つ反応により生じる還元状態にある金属酸化物触媒を生成物ガス流から分離し、これを再びプロパンと接触させる前に酸素含有ガスで再酸化することを特徴とするアクリル酸の製造方法。
MoViSbjAk (I)
(式中、i、jおよびkは、いずれも0.001〜3.0である) (もっと読む)


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