説明

Fターム[4H050BC37]の内容

第5−8族元素を含む化合物及びその製造 (19,778) | 反応パラメーター (500) | 成分比(←特定の成分の濃度) (125) | その他(←3成分以上の比の限定、反応生成物を含む比の限定) (7)

Fターム[4H050BC37]に分類される特許

1 - 7 / 7


【課題】 高収率で高純度のメタロセン化合物およびそれを効率よく製造する方法を提供する。
【解決手段】 一般式CpVCl(Cpはシクロペンタジエニル基,置換シクロペンタジエニル基,インデニル基,置換インデニル基,フルオレニル基,置換フルオレニル基より選ばれた少なくとも一種)で表されるバナドセン化合物を含む反応混合物に塩素ガスを反応させてCpVOClを製造する方法において、前工程で用いた溶媒の残留量を塩素化に用いる溶媒中の1wt%以下に制限する。 (もっと読む)


本発明は、少なくとも1種のスピン転移化合物で構成された材料に関する。該材料は、以下の式(I)に示す少なくとも1種の化合物で構成されている:


(上記式において、
− MはFe以外の、3d4、3d5、3d6又は3d7配置の材料;
− 0≦m≦1;
− R−Trzは4位のN上にR置換基を有する1,2,4−トリアゾールリガンド;
− Rはアルキル基又はR12N−基であり、該R1及びR2はそれぞれ互いに独立にH又はアルキルラジカルを示す;
− Xは少なくとも1種の1価又は2価の着色性アニオン;
− Yは着色性の少なくとも1種のアニオン;
− b及びcは化合物(I)の電気的中性が守られるように選択される)。
本発明は、さらに前記材料の製造方法及びそのサーモクロミック顔料、データ記憶のサポート、又は、光リミッタとしての使用に関する。 (もっと読む)


【課題】高い光学収率で且つ工業的に有利な方法で光学活性なジアルキルホスフィノメタン誘導体を製造し得る方法を提供すること。
【解決手段】ジメチルアルキルホスフィンボラン等のホスフィンボラン化合物、触媒量の光学活性アミン及び溶媒の存在下、有機リチウム化合物を添加する第一工程、第一工程終了後に、モノハロゲン化ホスフィンを加えるか、又はジハロゲン化ホスフィンを加えた後にグリニアル試薬を加える第二工程、及び第二工程で得られた生成物にテトラヒドロフラン−ボラン錯体等を加える第三工程を有することを特徴とする光学活性なジアルキルホスフィノメタン誘導体の製造方法。モノハロゲン化ホスフィン又はジハロゲン化ホスフィンを加える前に、テトラヒドロフラン等の配位性溶媒を加えることが好ましい。光学活性アミンはスパルテインであることが好ましい。 (もっと読む)


【課題】多くの金属に配位するキレート化剤および過酸化物の分解防止安定剤等の多種多様な用途に用いられる高純度アミノメチレンホスホン酸の製造方法を提供する。
【解決手段】塩酸酸性下、アンモニアまたはアミンをアルデヒド、亜リン酸と反応させアミノメチレンホスホン酸(例えば、ジエチレントリアミンペンタメチレンホスホン酸)を得る方法において、Fe濃度0.001ppm以下の塩酸を用いて高純度アミノメチレンホスホン酸溶液を製造する。 (もっと読む)


本発明は、毒性不純物の含量の低下した高純度のマラチオンを調製する方法を提供する。更に、本発明の方法により調製されたマラチオンは貯蔵安定性である。マラチオン中の毒性不純物、例えば、イソマラチオン、O,O,S-トリメチルホスホロジチオエート(MeOOSPS)、O,O,S-トリメチルホスホロチオエート(MeOOSPO)、O,S,S-トリメチルホスホロジチオエート(MeOSSPO)、マラオクソン、イソマラチオン、ジエチルフマレート、メチルマラチオン、ジメチルマラチオン、O,O-メチル,エチル-S-(1,2-ジカルボエトキシ)エチル-ホスホロジチオエートの量は、薬品の目的に使用されうるいずれかのその他の市販のマラチオン製剤より低い。 (もっと読む)


【課題】 有機バナデートを製造する際に、有害な副生物が発生せず有機バナデートを製造する方法を提供すること。
【解決手段】反応物質を反応させ、副生する水を含む低沸点化合物を留去することにより、少なくとも一つのバナジウム−酸素−炭素結合を有する有機バナデートの製造方法において、VO、V、VO及びVから選ばれる少なくとも1種の酸化バナジウムと特定のヒドロキシ化合物とを反応させる。ヒドロキシ化合物は一般式ArOH(Arは炭素風6〜20の芳香族基)で表される芳香族ヒドロキシ化合物であることが好ましく、副生する水を含む低沸点化合物は蒸留法によって除去することが好ましい。 (もっと読む)


少なくとも1個のニッケル(0)中心原子、及び少なくとも1個の燐配位子を含むニッケル(0)−燐配位子を製造するための方法が記載されている。この方法は、臭化ニッケル、ヨウ化ニッケル又はこれらの混合物を含むニッケル(II)供給源を、少なくとも1種の燐配位子の存在下に還元させることを含む。 (もっと読む)


1 - 7 / 7