【課題】エチレン系不飽和モノマーの重合を防ぎ又は遅延するための、空気又は酸素の存在下又は不存在下での、単独又は少なくとも１つの更なる阻害剤との組合せでの、真の阻害剤及び遅延剤の両方の特徴を有する少なくとも１つの化合物及びその使用を提供する。
【解決手段】構造：


式中、Ｒ_１、Ｒ_２、Ｒ_３及びＲ_４は、独立に、水素、ニトロ、ニトロソ、ハロゲン、ＣＯＯＲ（ここで、Ｒは、水素若しくはアルキルである）、アルキル、及びヘテロ原子置換アルキルからなる群から選択され、又は隣接基Ｒ_１、Ｒ_２、Ｒ_３及びＲ_４は、一緒になって、置換若しくは非置換縮合６員環を形成することができる］の少なくとも１つのニトロソ阻害剤の有効量をエチレン系不飽和モノマーに添加することを含む、エチレン系不飽和モノマーの早期重合を阻害する方法を提供する。また、Ａ）エチレン系不飽和モノマー、及びＢ）上記構造の少なくとも１つのニトロソ化合物を含む組成物を提供する。 （もっと読む）

【課題】優れた保存安定性と硬化性を兼ね備えた、磁気記録媒体用途に好適な放射線硬化性樹脂および樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】放射線硬化性官能基を含むポリウレタン樹脂および／またはその原料化合物、ならびに下記成分Ｃおよび成分Ｄを含む放射線硬化性ポリウレタン樹脂組成物。
成分Ｃ：フェノール化合物
成分Ｄ：ピペリジン−１−オキシル化合物、ニトロ化合物、ベンゾキノン化合物およびフェノチアジン化合物からなる群から選ばれる少なくとも一種の化合物 （もっと読む）

【課題】 ポリマー微粒子を靭性付与剤として用いた、取り扱い性に優れる硬化性組成物として、分散状態や安定性が高度に制御された高品質の組成物を提供することである。
【解決手段】 ビニルモノマー１００重量部、体積平均粒子径が０．０１〜１μｍのポリマー微粒子０．１〜４５重量部、及びビニルモノマーに対して５０〜５０００ｐｐｍの重合禁止剤を含む硬化性組成物であって、該ビニルモノマーが、側鎖に環状構造を有するモノマー５０〜１００重量％、及びその他のビニルモノマー０〜５０重量％、合計１００重量％からなり、かつ該ポリマー微粒子のシェル層が、該側鎖に環状構造を有するモノマーと同じ化合物である側鎖に環状構造を有するモノマー１〜１００重量％、及びその他のビニルモノマー０〜１００重量％からなるグラフト成分の重合体である。 （もっと読む）

本発明は、互いに不相溶性である少なくとも２つのイソシアネート−反応性ポリオール構成成分と、メディエータ添加剤としての少なくとも１つのコポリマーとを含む単相の流体組成物、およびポリウレタンの製造のためのこれらの使用に関し、このコポリマーは、互いに不相溶性のポリオール構成成分間の相溶性を確実にするものであって、以下に記載される特定の構造ユニットで構成され、このユニットの一部が少なくとも１つのプロトン化可能な窒素基を有し、必要により少なくとも部分的に、少なくとも１つの酸基を含む少なくとも１つの有機化合物で塩化され、および／または必要により少なくとも部分的に１つの有機アルキル化化合物で四級化される。 （もっと読む）

【課題】ゲル化を起こすことなく、安定的かつ大量に、ハイパーブランチポリマーを合成すること。
【解決手段】金属触媒の存在下においてモノマーをリビングラジカル重合させることによってハイパーブランチポリマーを製造する際に、Ｒ₁−ＡまたはＲ₂−Ｂ−Ｒ₃で示される
化合物の少なくとも一方を添加するようにした。
ただし、上記化合物中のＲ₁は、水素、炭素数１〜１０のアルキル基、炭素数６〜１０のアリール基または炭素数７〜１０のアラルキル基をあらわす。上記化合物中のＡは、シアノ基、水酸基またはニトロ基をあらわす。上記化合物中のＲ₂およびＲ₃は、水素、炭素数１〜１０のアルキル基、炭素数６〜１０のアリール基、炭素数７〜１０のアラルキル基または炭素数２〜１０のジアルキルアミノ基をあらわす。上記化合物中のＢは、カルボニル基またはスルホニル基をあらわす。 （もっと読む）

本発明は、１種又は複数の放射線感受性成分を含む被覆組成物で基板を被覆するステップと、潜像を形成する、周期的又は不規則な放射線強度パターンを有する電磁放射線で、被覆基板を局所的に処理するステップと、得られた被覆基板を重合及び／又は架橋するステップとを含み、被覆組成物は、ステップｃにおいて、被覆基板の非処理領域における実質的な重合を阻害／抑制するために十分な量、かつ処理領域における重合及び／又は架橋を可能とするために十分低い量の、１種又は複数のラジカルスカベンジャーを含むが、但し、被覆組成物中に存在する酸素の量は、被覆組成物が空気と接触しているときに存在する酸素の平衡量と等しくない、ポリマーレリーフ構造の調製方法に関する。 （もっと読む）

【課題】反応後のクリーニングステップにおいて、残留触媒またはその承継生成物（successor product）による触媒に起因する欠点により阻害されず、顔料の非常に良好な分散と、バインダーに対する幅広い相溶性とを組み合わせる、コポリマーを提供する。
【解決手段】異なるイオン密度の３つのセグメントを含むコポリマーに関し、各セグメント中のイオン性モノマー分率は１〜１００ｍｏｌ％であり、第２のセグメントおよび第３のセグメントはそれぞれ先行するセグメントのエチレン性不飽和モノマーを含有し、ＮＭＰまたはＲＡＦＴにより単官能性開始剤を用いて製造可能なコポリマーに関する。本発明はさらに、当該コポリマーを製造するプロセスと、分散剤としてのその使用とに関する。 （もっと読む）

本発明は、少なくとも１つの光活性重合可能材料を含む重合可能成分と、光重合開始光源での露光によって活性化されたときに重合可能成分を重合させ、それによって複数のホログラフィックグレーティングを形成するための少なくとも１つの光重合開始剤を含む光重合開始剤成分とを含むシステム、ならびにそのシステムを含む物品およびホログラフィック記録媒体に関し、ここで、重合可能成分の一部分が重合して少なくとも１つのホログラフィックグレーティングを形成したときに、重合可能成分の未重合部分は、光重合開始光源で重合可能成分が露光されないときにはそれ以上重合しにくい。本発明はまた、このような光重合可能システムを有するホログラフィック記録媒体内に少なくとも１つのホログラフィックグレーティングを形成する方法も提供する。
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【課題】 芳香族ビニル化合物の蒸留工程、精製工程および貯蔵工程において、長時間に亘り芳香族ビニル化合物の重合を抑制し、さらに該ビニル化合物の重合物による装置類・設備類の汚れの発生と付着を抑制する重合抑制方法を提供することにある。
【解決手段】 芳香族ビニル化合物の製造、精製、貯蔵および輸送工程において、２，６−ジニトロフェノール化合物を用いることを特徴とする芳香族ビニル化合物の重合抑制方法であり、好ましくは２，６−ジニトロフェノール、２，６−ジニトロ−４−メチルフェノール、２，６−ジニトロ−４−エチルフェノール、２，６−ジニトロ−４−ｓｅｃ−ブチルフェノール、２，６−ジニトロ−４−ｔｅｒｔ−ブチルフェノールから選ばれる１種以上を該芳香族ビニル化合物に対して、１０〜１０，０００ｐｐｍ添加する。 （もっと読む）

エチレン性不飽和モノマーの早期の重合及びポリマー成長を禁止及び抑制する方法であって、式（Ｉ）［式中、Ｒ_１、Ｒ_２、及びＲ_３は、独立に、水素、アルキル、ＮＯ_２、及びＳＯ_３Ｈからなる群から選択され、但し、Ｒ_１、Ｒ_２、及びＲ_３の少なくとも１つはＮＯ_２であり、Ｒ_１、Ｒ_２、及びＲ_３の少なくとも１つはＳＯ_３Ｈである。］のスルホン化ニトロフェノールである少なくとも１種の禁止剤の有効量を、前記モノマーに添加することを含む方法が本明細書に開示されている。好ましい実施形態では、ニトロキシル化合物、ニトロソアニリン、ニトロフェノール、アミン、及びこれらの混合物からなる群から選択される少なくとも１種の追加の禁止剤も添加される。
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