【課題】高い電気伝導度を有し、しかも反応の制御が比較的容易で、量産も可能な固体高分子電解質膜の原料として好適なプレポリマ及びプレポリマ溶液、並びに、触媒層を提供すること。
【解決手段】互いに反応することによってビススルホンイミド基（−ＳＯ₂ＮＨＳＯ₂−）、スルホンカルボンイミド基（−ＳＯ₂ＮＨＣＯ−）、又はビスカルボンイミド基（−ＣＯＮＨＣＯ−）を形成することが可能な反応性末端基Ａ及び前記反応性末端基Ｂの種類及び数が所定の条件を満たす１種又は２種以上の原料モノマ及び／又は原料ポリマを所定の条件下で反応させることにより得られ、高い溶媒可溶性を持つプレポリマ、及び、このようなプレポリマを溶媒に溶解又は分散させたプレポリマ溶液、並びに、これを用いて得られる触媒層。 （もっと読む）

本発明は、以下の構造Ｉ（式Ｉ）を有する芳香族ハロスルホニルイソシアネートを含んでなるモノマー組成物を提供する。
【化１】


式中、「ｍ」は２〜５の整数であり、「ｎ」は１〜５の整数であり、Ａｒは脂肪族炭素−水素結合を含まないＣ₃〜Ｃ₄₀芳香族基であり、Ｘはハロゲンである。芳香族ハロスルホニルイソシアネートＩを含んでなるモノマー組成物は、やはり本発明によって提供される膜として有用なポリマー材料を製造するのに有用である。 （もっと読む）

【課題】新規なポリマーグラフト炭素材料を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明のポリマーグラフト炭素材料は、炭素材料に、分岐構造を有するポリマーをグラフト重合したものである。ここで、限定されるわけではないが、分岐構造を有するポリマーは、デンドリティックポリマーであることが好ましい。また、限定されるわけではないが、炭素材料は、炭素繊維、グラファイト、カーボンナノチューブ、カーボンオニオン、フラーレンから選ばれるいずれか１種、またはいずれか２種以上の組み合わせからなることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】 高いイオン交換容量および安価で高いプロトン伝導性を有するイオン交換樹脂や固体高分子形燃料電池用電解質材料に有用な新規な芳香族スルフィドおよび／またはスルホン誘導体を提供する。
【解決手段】 下記一般式（１）で表される芳香族スルフィドおよび／またはスルホン誘導体。
Ａ（−Ｗ−Ｂ）ｎ （１）
Ａは置換基を有していてもよい芳香族環を表し、ｎは２から６までの整数を表す。ＷはＳおよび／またはＳＯ_２の連結基である。ＢはＷを介してＡに結合する芳香環を表し、この芳香環には−ＣＯＸ、−ＳＯ_２Ｘから選ばれる反応性基を０から５個有し、且つ少なくとも１つの該芳香環には少なくとも１つの該反応性基を有する。Ｘはハロゲン原子、ＯＲ（Ｒは水素原子、アルキル基、またはアリール基）、水酸基から選ばれる。）を表す。 （もっと読む）

【課題】高い強度及び高いイオン伝導度を有するイオン伝導性ポリマ及びこれを製造するためのイミドモノマを提供すること。
【解決手段】（１）式で表されるユニットを含むイオン伝導性ポリマ。
−ＳＯ_２[Ｎ⁻ＳＯ_２(Ｍ^＋)]_Ｘ１− ・・・（１）
但し、Ｘ_１＞１の整数、Ｍ^＋： Ｈ^＋又はＬｉ^＋。
（Ａ）式で表されるイミドモノマ。
Ｚ_１−ＳＯ_２[Ｎ⁻ＳＯ_２Ｍ^＋]_Ｙ−Ｚ_２ ・・・（Ａ）
但し、Ｙ： Ｙ≧２の整数、Ｚ_１： ＯＨ、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ、又は、ＮＺ_３Ｚ_４（但し、Ｚ_３、Ｚ_４は、それぞれ、Ｈ、Ｍ、又は、ＳｉＭｅ_３。Ｍは、金属元素。）、Ｚ_２： ＯＨ、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ、又は、ＮＺ_３Ｚ_４（但し、Ｚ_３、Ｚ_４は、それぞれ、Ｈ、Ｍ、又は、ＳｉＭｅ_３。Ｍは、金属元素。）、Ｍ^＋： Ｈ^＋又はＬｉ^＋。 （もっと読む）

【課題】 ポリエーテルスルホン系材料の典型的な高い衝撃強さを保持又は高めつつ、公知のポリエーテルスルホンよりもガラス転移温度の高い（即ち耐熱性が向上した）ポリアリールエーテルスルホンの提供。
【解決手段】 フルオレニリデンビスフェノールＡと、ジフェノールモノマーの全モル数を基準にして５０モル％以上の４，４′−ビフェノールとを含むモノマー混合物から誘導された構造単位を含むポリエーテルスルホン組成物。このポリエーテルスルホンは、２３５℃以上のガラス転移温度及びＡＳＴＭ Ｄ２５６で測定して１ｆｔ−ｌｂ／ｉｎ以上のノッチ付アイゾッド衝撃値を有する。 （もっと読む）

【課題】反射防止組成物、およびこれらの組成物を回路形成に用いる方法を提供する。
【解決手段】組成物は溶媒系に溶解しまたは分散するポリマーを含み、好ましいポリマーはポリカーボネート、ポリスルホニルエステル、ポリカーボネートスルホン、およびこれらの混合物を含む、組成物はシリコンウェーハーや他の基体上に塗布され、硬化または固化膜を形成でき、この膜は始はフォトレジスト現像液に不溶で、露光すると硬化または固化膜はフォトレジスト現像液に可溶となり現像されたファトレジスト層と一緒に選択的に除去できるので別の除去工程が省ける。 （もっと読む）