【課題】現像液が弱アルカリ水溶液であっても、基板上に導電膜からなる電極パターンを形成できる方法を提供し、導電膜としてＺｎＯ系膜を有する基板上に実用可能な電極パターンを形成すること。
【解決手段】基板上に導電膜を備えてなる積層板の導電膜上に、（ａ）フェノール樹脂のフェノール性水酸基に多塩基酸無水物を反応させて得られる化合物と、（ｂ）キノンジアジド化合物とを含有する感光性樹脂組成物を含む感光層を形成する工程と、感光層の所定部分を露光する工程と、感光層を現像液で現像してレジストパターンを形成すると共に、導電膜の一部を露出する工程と、露出した導電膜をエッチングして電極パターンを形成する工程とを備える、電極パターンの形成方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】未反応フェノール類が少なく、かつ、分子量分布が狭いノボラック型フェノール樹脂を高収率に製造する方法を提供する。
【解決手段】 フェノール化合物とアルデヒド化合物とを、ヘテロポリ酸を触媒として、反応させてフェノール樹脂を製造する方法であって、前記フェノール化合物又は前記フェノール化合物を含む溶液からなる第１液相と、前記ヘテロポリ酸を含む触媒溶液からなる第２液相と、アルデヒド化合物とを混合する工程を有することを特徴とするノボラック型フェノール樹脂の製造方法。前記ヘテロポリ酸は、Ｗ、Ｍｏ、Ｖ及びＮｂから１種類以上選ばれるポリ原子と、Ｐ、Ａｓ、Ｓｉ、Ｇｅ及びＢから１種類以上選ばれるヘテロ原子とを含む。 （もっと読む）

【課題】フェノール類モノマー及びダイマー成分のみならず、フェノール類トリマー及びテトラマー成分も少ないノボラック型フェノール樹脂を効率よく製造できる製造方法を提供する。
【解決手段】フェノール類とフェノール類１モルに対して０．９０〜２．０モルのアルデヒド類とを、リン酸類及び／又は有機ホスホン酸と、アルコール類及び／又は環状エーテル類との存在下で不均一系反応させる工程を有するノボラック型フェノール樹脂の製造方法。 （もっと読む）

【課題】平均粒径が微小であり、２次凝集体を含まず、粒子の形状が真球状であり、狭い粒度分布を有し、遊離フェノール含有量が少ない、非熱溶融性粒状フェノール樹脂およびその製造方法を提供する。
【解決手段】平均粒径が２０μｍ以下であり、単粒子率が０．７以上である非熱溶融性粒状フェノール樹脂。好ましくは、平均粒径１０μｍ以下、粒径分布の変動係数０．６５以下、粒子の真球度０．５以上、遊離フェノール含有量５００ｐｐｍ以下を具備する。ならびに（１）酸性触媒および保護コロイド剤の存在下、水性媒体中でアルデヒド類とフェノール類とを反応させる工程、（２）反応液を加熱する、加熱工程、（３）粒状フェノール樹脂を反応液から分離し洗浄する工程を含み、反応液中における酸性触媒のモル濃度が２．０ｍｏｌ／Ｌ以上である非熱溶融性粒状フェノール樹脂の製造方法。 （もっと読む）

【課題】良好な耐熱性および高感度で高残膜性を有するフォトレジスト用フェノール樹脂、その製造方法およびフォトレジスト用樹脂組成物を提供する。
【解決手段】（ａ）又は（ｂ）成分と式(１)で表されるアルデヒド化合物とを酸性触媒下で反応させた後、フェノール、クレゾール、キシレノール及びトリメチルフェノールから選ばれる１種以上のフェノール類とホルムアルデヒドとを加えて酸性触媒下で反応させてなるフォトレジスト用フェノール樹脂。（ａ） ｐ−クレゾール（ｂ） ｐ−クレゾールとキシレノール及び／又はトリメチルフェノール


（Ｒは水素原子あるいはメチル基を表し、同じであっても異なっても良い。ｎは２または３。） （もっと読む）

【課題】色相が良好で、熱堅牢性および光堅牢性が高く、経時安定性に優れ、現像除去された領域での残色が抑制された着色硬化性組成物を提供する。
【解決手段】着色硬化性組成物に下記一般式（Ｃ１）で表される色素を含有させる。
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メソ孔構造を有する例えばフェノール樹脂などの高分子材料製のバラバラの固体ビーズの生産方法であって、その方法は（ａ）例えばノボラックなどの重合性液体前駆体とエチレングリコールなどの第一の極性有機液体中に溶解した架橋剤との流れと、例えば乾性油を含む変圧器油などの前記液体前駆体と実質的または完全に不混和な第二の非極性有機液体である液体分散媒の流れから合流を生成する工程、（ｂ）例えばインライン静的ミキサーを使用して前記重合性液体前駆体を前記懸濁媒体中に液滴として分散させるように前記合流を混合する工程、（ｃ）凝集できないバラバラの固体ビーズを形成するように前記液滴を前記分散媒の層流中で重合させる工程、および（ｄ）前記分散媒からビーズを回収する工程を含んでよい。また、高分子材料製のバラバラの固体ビーズを形成するための装置を提供する。他の実施形態では、炭素質材料を炭化・活性化する方法および炭素質材料を炭化・活性化する外部燃焼回転キルンを提供する。 （もっと読む）

１又はそれ以上のシロキサン架橋乳化破壊剤を含む組成物において、前記シロキサン架橋乳化破壊剤が、１又はそれ以上のアルキルフェノール−ホルムアルデヒド樹脂アルコキシレート、１又はそれ以上のポリアルキレングリコール、又はそれらの混合物を、最大１．０モル当量の式Ｒ_１Ｒ_２Ｒ_３Ｒ_４Ｓｉの１又はそれ以上のシリコンベースの架橋剤と反応させて調製するものであり、ここで、Ｒ_１、Ｒ_２、Ｒ_３、Ｒ_５、Ｒ_６、Ｒ_７は、独立して、Ｈ、Ｃｌ、Ｃ_１〜Ｃ_４アルキル、Ｃ_１〜Ｃ_４アルコキシから独立して選択され；Ｒ_４は、Ｈ、Ｃｌ、Ｃ_１〜Ｃ_４アルキル、Ｃ_１〜Ｃ_４アルコキシ、及び式Ｌ_１ＳｉＲ_５Ｒ_６Ｒ_７の基から選択され；Ｌ_１は、存在しないか、又は、−Ｏ−、アリーレン及びＣ_１〜Ｃ_１２アルキレン、から選択され、選択的に、−Ｏ−又は−Ｎ（Ｒ_８）が割り込むことがあり；Ｒ_８は、Ｈ又はＣ_１〜Ｃ_４アルキルであり、並びに、前記乳化破壊剤組成物を用いて油中水エマルジョンを分解する方法。 （もっと読む）

【課題】標準のメタクリレートをベースとする常用の材料と比較して低い重合収縮率および良好な機械的性質によって区別され、かつさらに付加的な有利な性質、例えば粘着性を得ることができる、使用可能な歯科材料を製造する。
【解決手段】次の成分：式（Ｉ）による少なくとも１つの重合可能なカリックス［ｎ］アレーン、開始剤、カチオン重合条件下および／またはラジカル重合条件下でおよび／または開環によって重合しうる少なくとも１つの付加的なモノマー、開環によって重合しうる（メタ）アクリレートまたは多官能価（メタ）アクリレート、充填剤および添加剤から構成されている歯科材料によって達成される。 （もっと読む）

【課題】 硬化性が良好であり、耐半田性、高温保管性及び難燃性に優れた硬化物を得ることができる硬化性化合物、硬化性樹脂組成物、及び、半導体装置を提供する。
【解決手段】 芳香族基上にオキサジン環を有する熱硬化性化合物であって、一般式（１）で表される構造を有する熱硬化性化合物により達成される。
【化１】


（一般式（１）中、Ｒ１は炭素−炭素三重結合を含む置換基を有する芳香族基を示し、複数有する場合、それぞれが同一であっても異なっていてもよい。Ｒ２は水素、カルボキシル基、水酸基及びエステル基の１つから選ばれ、複数有する場合、それぞれが同一であっても異なっていてもよい。ｍは１又は２又は３の整数、ｎは１〜４の整数を示す。） （もっと読む）

【課題】 未反応フェノール類や、低核体成分の含有量が少ないノボラック型フェノール樹脂を、効率的かつ簡易に製造することができる方法を提供する。また、該ノボラック型フェノール樹脂を用いることにより、低核体成分の昇華物による生産ラインの汚染を低減し、生産性を向上させることができるフォトレジスト用フェノール樹脂組成物を提供する。
【解決手段】 下記（ａ）工程の後に（ｂ）及び（ｃ）の工程を有することを特徴とするノボラック型フェノール樹脂の製造方法。
（ａ）フェノール類とアルデヒド類とを縮合反応させてノボラック型フェノール樹脂を得る工程、
（ｂ）ノボラック型フェノール樹脂を、樹脂に対する貧溶媒と良溶媒を使用した溶剤分画法により低核体を除去する工程、
（ｃ）反応系温度を１７０〜２５０℃に維持しながら、該反応系温度よりも沸点が低い低沸点化合物を添加して、ノボラック型フェノール樹脂の低核体成分を除去する工程。 （もっと読む）

【課題】低ラインエッジラフネス（ＬＥＲ）なレジストパターンを形成可能な感光性化合物、該感光性化合物を含む感光性組成物及びレジストパターンの形成方法を提供する。
【解決手段】下記一般式（１）で表される構造単位を、分子内に２つ以上含む感光性化合物、該感光性化合物を有機溶剤に溶解させてなる感光性組成物及び該感光性組成物を用いたレジストパターンの形成方法。


（Ｒ₁は水素原子またはアルキル基である。Ｒ₂、Ｒ₃、Ｒ₄、Ｒ₅およびＲ₆のうち少なくとも１つはニトロ基である。Ｒ₇は置換されていてもよいフェニレン基またはナフチレン基である。） （もっと読む）

【課題】 未反応フェノール類が少なく、かつ、分子量分布が狭いノボラック型フェノール樹脂を高収率に製造する方法を提供することである。
【解決手段】 フェノール化合物と、アルデヒド化合物とを、アルミニウムを担持させてなるシリカ触媒を用いて、反応させるノボラック型フェノール樹脂の製造方法。前記ノボラック型フェノール樹脂の製造方法により、１．０以上３．０以下の分子量分布を有するノボラック型フェノール樹脂を製造することができる。 （もっと読む）

【課題】エポキシ樹脂の硬化剤として使用できる、遊離ビスフェノール類の含有量が少なく、かつ分子量分布が狭いフェノール・アルデヒド樹脂およびその製造方法を提供すること。
【解決手段】本発明の新規なフェノール・アルデヒド樹脂は、フェノール・アルデヒド樹脂中、遊離したビスフェノール類の含有量が５重量％以下であり、かつＭｗ／Ｍｎにより示される分子量分布が２．０以下であることを特徴としている。 （もっと読む）

本発明は、実質的に水を含まない酸硬化型の溶解レゾールを有する高分子、この高分子から成形される成形品、電極、電磁シールド材として、また、電磁妨害を抑制するため、あるいは、所定の部位での静電気放電を抑制するための、この高分子の使用方法を提供する。本発明の高分子は、導電性を有する。
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本発明は、僅かな結晶化可能化合物の割合、僅かな粘度、極めて低い色数、広い溶解度及び極めて高い耐熱性と耐光性を有するアルキルアリールケトンとホルムアルデヒドをベースとする、ホルムアルデヒド不含のOH−官能性カルボニル水素化及び核水素化ケトン−アルデヒド樹脂ならびにその製法に関する。 （もっと読む）

【課題】 長期にわたり摩擦特性が安定し、且つ高い静摩擦係数（μｓ）を示し、耐摩耗性、耐久性の優れた熱硬化性樹脂組成物、および摩擦材を提供すること。
【解決手段】 フェノール類（ａ）とトリアジン類（ｂ）とアルデヒド類（ｃ）と乾性油及び／または半乾性油（ｄ）とを反応させて得られるトリアジン・油変性フェノール樹脂（ｅ）を含有することを特徴とする熱硬化性樹脂組成物、更に前記トリアジン・油変性レゾール型フェノール樹脂（ｅ）にアミン化合物（ｆ）を反応させたトリアジン・油変性フェノール樹脂を含有した熱硬化性樹脂組成物、これらを繊維状基材に含浸、硬化してなる摩擦材。 （もっと読む）

【課題】ハードベーク工程後のパターン均一性及び耐熱性に優れたフォトレジスト組成物を提供。
【解決手段】液晶表示装置回路、半導体集積回路などの微細回路の製造に使用されるフォトレジスト組成物に関し、より詳しくはａ）下記の化学式で示されるノボラック樹脂、ｂ）ジアジド系感光性化合物、及びｃ）有機溶媒を含むフォトレジスト組成物に関するものである。
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【課題】 得られる成形物がアルカリ性物質と接触するような部材に使用しても、劣化しにくい特性を有するレゾール型フェノール樹脂組成物、これを用いた成形材料を提供すること。
【解決手段】 本発明は、フェノール類とアルデヒド類とを反応させて得られるレゾール型フェノール樹脂組成物であって、前記フェノール類中のパラ位に炭素数が４以上のアルキル基を有するアルキルフェノールが全フェノール類の１５〜６０モル％であることを特徴とするレゾール型フェノール樹脂組成物、これを用いた成形材料。 （もっと読む）

【課題】 収率を高くすることができることにより、コスト削減及び廃棄物削減が可能なノボラック型クレゾール樹脂及びその製造方法を提供するものである。
【解決手段】 パラクレゾールと酸性触媒の混合物（Ａ）の中に、メタクレゾールとホルムアルデヒドの混合物（Ｂ）を逐次添加し反応させることを特徴とする、ノボラック型クレゾール樹脂の製造方法であり、この方法によって得られることを特徴とするノボラック型クレゾール樹脂であり、¹³Ｃ−ＮＭＲより算出したノボラック型クレゾール樹脂中のメタクレゾール（ｍ）とパラクレゾール（ｐ）との含有比率（ｍ）／（ｐ）が、８０／２０〜２０／８０であることが好ましい。 （もっと読む）