【課題】透過度および乾式エッチングに対する耐性など、レジスト組成物の特性を向上させる感光性ポリマーを提供し、さらに微細なパターン形成を可能にする。
【解決手段】次の構造式：


（式中、Ｒ_１は水素原子またはメチル基であり、Ｒ_２はフルオロ化されたエチレングリコール基を有するＣ_３〜Ｃ_１０の炭化水素基であり、Ｒ_５は水素原子、ヒドロキシ基、Ｃ_１〜Ｃ_１０の炭化水素基、またはＣ_１〜Ｃ_１０のフルオロ化された炭化水素基であり、ｍ／（ｍ＋ｏ）＝０．１〜０．６、ｏ／（ｍ＋ｏ）＝０．４〜０．９である。）を有する感光性ポリマーによって上記課題は解決される。 （もっと読む）

【課題】レジスト保護膜用重合体およびレジストパターンの形成方法を提供する。
【解決手段】イマージョン液が非水系液状媒体であるイマージョンリソグラフィー法に用いられ、ハイドロフルオロカーボン系溶媒およびハイドロフルオロエーテル系溶媒から選ばれる少なくとも１種のハイドロフルオロ系溶媒（Ｓ）によって除去されて用いられるレジスト保護膜用重合体であって、フッ素含有量が４０〜７５質量％である特定の単量体（ｆ）の重合により形成された繰り返し単位（Ｆ^Ｕ）を含む含フッ素重合体（Ｆ）からなるレジスト保護膜用重合体、および該レジスト保護膜用重合体を用いたレジストパターンの形成方法。 （もっと読む）

硬化性フルオロポリマー組成物であって、テトラフルオロエチレン、ペルフルオロ（脂肪族ビニル）エーテル、及び窒素含有硬化部位モノマーの共重合単位を含む、フルオロポリマーと、窒素含有硬化部位モノマーと架橋を形成するための触媒と、有機過酸化物と、過酸化物硬化に関与する助剤と、ハイドロタルサイト化合物と、を含む、硬化性フルオロポリマー組成物を提供する。また、硬化性組成物の硬化フルオロポリマー反応生成物を含む物品、並びに成形した物品を形成するための方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】パーフルオロアルキル基の炭素数が短いポリマー型フッ素系界面活性剤用新規含フッ素ウレタン(メタ)アクリレート、その製造方法、これを用いたフッ素系界面活性剤を提供する。
【解決手段】下記一般式（Ｉ）で表される含フッ素ウレタン（メタ）アクリレート。


（Ｒ_１はＣ１〜２０のパーフルオロアルキル基、Ｃ１〜２０の部分フッ素化アルキル基、部分フッ素化アルキル基、Ｒ_２はＲ_１と同一の基、アルキル基、アラルキル基、フェニル基。Ｒ_３は水素原子又はメチル基、Ａは、Ｃ２〜４の二価の連結基、ＸとＹは、それぞれ独立に、二価の連結基。） （もっと読む）

フードウェア基材、並びに８０重量％〜９４重量％のテトラフルオロエチレン、６重量％〜２０重量％の１種以上の式ＣＦ₂＝ＣＦＯ（Ｒ^a_fＯ）_n（Ｒ^b_fＯ）_mＲ^c_fのペルフルオロビニルエーテル（式中、Ｒ^a_fとＲ^b_fとは、独立して１個〜６個の炭素原子の直鎖又は分枝状のペルフルオロアルキレン基から選択され、ｍとｎとはそれぞれ独立して０〜１０であり、Ｒ^c_fは１個〜６個の炭素原子のペルフルオロアルキル基であり、ここで、ペルフルオロビニルエーテル含有量が７重量％未満であるとき、フルオロポリマーが５以下のＭＦＩを有する）からなるコポリマー、並びに／又は、８０重量％〜９４重量％のテトラフルオロエチレン、５重量％〜２０重量％の式ＣＦ₂＝ＣＦＯ（Ｒ^a_fＯ）_n（Ｒ^b_fＯ）_mＲ^c_fのペルフルオロビニルエーテル（式中、Ｒ^a_f、Ｒ^b_f、ｍ、ｎ、及びＲ^c_fは、上記と同一である）を含むコポリマー、及びフルオロポリマーの総重量に対して、１５重量％以下の１種以上の追加のモノマー、を有するフルオロポリマー組成物を含む多層物品。 （もっと読む）

【課題】金属に対して直接積層が可能であるという金属に対する層間接着性を改善せしめた接着剤塗布金属積層用含フッ素エラストマーを提供する。
【解決手段】パーオキサイド架橋性基またはアミン加硫性基を有する含フッ素モノオレフィン／含フッ素ジエン共重合体エラストマーよりなる接着剤塗布金属積層用含フッ素エラストマー。この含フッ素エラストマーを接着剤塗布金属に直接接合し、含フッ素エラストマー層をパーオキサイド架橋またはアミン加硫させると、含フッ素エラストマー積層金属が形成される。 （もっと読む）

【課題】ＤＵＶエキシマレーザーリソグラフィー等において、ラインエッジラフネスが小さく、ディフェクトの生成も少ないレジスト用重合体を提供する。
【解決手段】下記式（３）で表される構造を有する酸分解性単位と、親水性基を有する単位とを構成単位として含有するレジスト用アクリル系重合体。


（式（３）中、Ｋ¹およびＫ²はそれぞれ独立してアルキレン、シクロアルキレン、オキシアルキレン、およびアリーレンからなる群の少なくとも一種を表し、Ｌ¹およびＬ²はそれぞれ独立して−Ｃ(Ｏ)−、および−ＯＣ(Ｏ)−からなる群の少なくとも一種を表し、Ｍ²はアルキレン、シクロアルキレン、オキシアルキレンからなる群の少なくとも一種を表し、Ｙ¹およびＹ²はそれぞれ独立して特定のエーテル構造を有する基又は特定の環状エーテルを有する基を含む酸分解性結合を表す。） （もっと読む）

本発明は、反応済スルホニルハライド基と未反応スルホニルハライド基との均質混合物を含有するフルオロポリマー有機−液体分散体および膜に関する。分散体は、架橋膜の調製に有用である。 （もっと読む）

【課題】 水溶性に優れ、コーティング用組成物、特に薄膜コーティングであるレジスト組成物として用いた際に、優れた塗布性を発現するフッ素系界面活性剤、特には、パーフルオロアルキル基中の炭素数が短いものからなる、前述の性能を有するフッ素系界面活性剤、及びこれを用いた感光性組成物を提供すること。
【解決手段】 下記一般式（１）
−［ＯＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３）］_ｎ−ＯＣＦ_３・・・・・（１）
（式中、ｎは１〜１０の整数を示す。）
で表されるフッ素化ポリオキシプロピレン鎖を有する化合物（Ａ）からなることを特徴とするフッ素系界面活性剤、及びこれを用いた感光性組成物。 （もっと読む）

【課題】化学増幅ポジ型レジスト材料として使用されて高解像性、優れた基板密着性を有し、現像後に側壁荒れの小さいパターンを与える。
【解決手段】酸と反応してアルカリ現像液に可溶な極性基を与える基を有する繰り返し単位と、式(1)及び／又は(2)で示される含フッ素ジエンが環化重合してなる繰り返し単位と、式(3)〜(7)で示される単量体から選ばれる単量体に基づく繰り返し単位とを含有する高分子化合物(A)、酸発生化合物(B)、及び有機溶剤(C)を含むレジスト材料。 CF₂=CFCF₂C(CF₃)(OH)CH₂CH=CH₂ (1) CF₂=CFCH₂CH(C(CF₃)₂OH)CH₂CH=CH₂ (2)
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【課題】散乱損失がなく伝送特性に優れた光伝送体を提供する。
【解決手段】重合開始剤、第１重合性化合物、第２重合性化合物を第１部材（１２）の中空部に入れて、第１及び第２重合性化合物を共重合させ第２部材（１６）を形成する。第２部材（１６）は、第１層（２１）から断面中央に向かって順に層をつくることにより形成される。第１重合性化合物の重量Ｗ１と第２重合性化合物の重量Ｗ２とが１／９９≦Ｗ２／（Ｗ１＋Ｗ２）≦２／３を満たすように第１及び第２重合性化合物が第１部材（１２）の中空部に入れられる。第１層（２１）から第ｎ層に向かうに従い、Ｗ２／（Ｗ１＋Ｗ２）の値が大きくなるように第１及び第２重合性化合物を配合する。 （もっと読む）

一般式Ｒ_F−Ａ−［ＣＨ₂］_cＣＲ₂Ｒ₃−Ｚで示されるフルオラステロマー化合物が請求の範囲に記載されている。式中、Ｒ_Fは炭素原子数１〜２０のペルフルオロアルキルラジカルであり、Ａは一般式（Ｉ）又は（ＩＩ）で示される置換基である。Ｒ¹はＣＦ₃、ＯＲ₄、Ｃｌ、Ｂｒ又はＩであり、Ｒ₂とＲ₃はＨ、アルキル又はアリールであり、Ｒ₄はペルフルオロメチル、ペルフルオロプロピル又はペルフルオロプロピルオキシプロピルであり、ＸとＹはＨ、Ｃｌ又はＦであり、Ｚは−ＯＨ、−ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ₂又は−ＯＣＯＣＣＨ₃＝ＣＨ₂であり、ａは０〜１０、ｂは１〜３０、またｃは１〜３０である。これらの化合物はさらなるモノマーと共重合する。こうして得られるコポリマーは繊維質基材の撥水、撥油及び防汚加工に有用である。

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【課題】室温付近でも高いイオン伝導率をもち、粘性が低く、不燃性でかつ耐酸化性に優れたものであり、リチウム二次電池、キャパシタや太陽電池の高分子電解質として要求される特性を満足し得るイオン伝導体を提供する。
【解決手段】環状カーボネート基とエーテル基を側鎖に有するイオン伝導性化合物（Ｉ）と電解質塩（II）とを含み、該イオン伝導性化合物（Ｉ）が、側鎖にフルオロエーテル基を有する非晶性含フッ素ポリエーテル化合物またはその架橋物であるイオン伝導体。 （もっと読む）

【課題】有機溶媒に可溶性であり、高光透過率かつ低屈折率であり、しかも表面処理や接着剤の使用などを必要とはせず、それ自体各種基材に対して良好な接着性を有する含フッ素共重合体を提供する。
【解決手段】CF₂=CFORfCOOR (Rf：炭素数1〜24のフルオロアルキレン基、フルオロアルキルエーテル基、フルオロアルコキシフルオロアルキルエーテル基、R：水素原子、炭素数1〜24のアルキル基、アラルキル基またはアリール基)で表わされる末端カルボン酸基を有する含フッ素ビニルエーテル20重量％以上とこれ以外の含フッ素不飽和単量体の少なくとも一種80重量％以下との共重合体である含フッ素共重合体。末端カルボン酸基を有する含フッ素ビニルエーテルとしては、一般式 CF₂=CF[OCF₂CF(CF₃)]_bO(CF₂)_aO[CF(CF₃)CF₂O]_cCF(CF₃)COOR (a：0〜10、b+c：0〜8)で表わされる含フッ素ビニルエーテルが好んで用いられる。 （もっと読む）

【課題】環境負荷が低く、規制対象となる可能性がきわめて低い乳化剤を用いた、官能基を有する含フッ素重合体の製造方法を提供する。
【解決手段】水性媒体中、炭素数が６以下であり、主鎖にエーテル性の酸素原子を１個以上有し、カルボン酸型エステル基を有する含フッ素化合物（ＣＦ_３ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＯＯＮＨ_４等）の存在下で、含フッ素オレフィンと、カルボン酸型官能基またはスルホン酸型官能基を有する含フッ素モノマーとを共重合させることを特徴とする含フッ素重合体の製造方法。 （もっと読む）

新規α，α−ジヒドロフルオロビニルエーテル、そのホモポリマーおよび前記エーテルの２２モルパーセントより多い共重合単位を含有するコポリマーが本明細書に開示される。本エーテルは、一般式Ｒ_f−［ＣＨ₂］_n−ＯＣＦ＝ＣＦ₂（式中ｎが１または２であり、そしてＲ_fがパーフルオロアルキル基、パーフルオロアルコキシ基、フルオロアルキル基およびフルオロアルコキシ基からなる群から選択される）で表される。 （もっと読む）

【課題】含フッ素共重合体水性重合乳化液から、共重合反応の乳化剤として用いられた含フッ素カルボン酸塩を非常に効率良く含フッ素カルボン酸として回収する方法を提供する。
【解決手段】含フッ素カルボン酸塩乳化剤を含有する、含フッ素共重合体の水性重合乳化液を低級アルコール中に加えて含フッ素共重合体を凝析させ、それを分離した後、液相から水および低級アルコールを留去し、初期容積の30％以下迄濃縮しあるいは完全に蒸発乾固させた後、無機強酸を加え、含フッ素カルボン酸塩に対応する含フッ素カルボン酸として回収する。 （もっと読む）

【課題】 含フッ素エラストマーが本来有する成形加工性および耐圧縮永久歪特性を損うことなく、低温特性および耐溶剤性にすぐれた加硫物を与え得る含フッ素エラストマーおよび耐寒性、耐燃料油性などにすぐれたその組成物を提供する。
【解決手段】 その共重合組成が(a)フッ化ビニリデン50〜85モル%、(b)テトラフルオロエチレン0〜25モル%、(c)パーフルオロ(メチルビニルエーテル)7〜20モル%、(d)CF₂=CFO[CF₂CF(CF₃)O]nCF₃(n：4〜6)3〜15モル%、(e)RfX(Rfは炭素数2〜8の不飽和フルオロ炭化水素基であり、基中に1個以上のエーテル結合を有していてもよく、Xは臭素またはヨウ素である)0.1〜2モル%である含フッ素エラストマー。この含フッ素エラストマー100重量部当リ0.1〜10重量部の有機過酸化物、0.1〜10重量部の多官能性不飽和化合物および2重量部以上の受酸剤を添加した含フッ素エラストマー組成物は、耐寒性および耐燃料油性にすぐれた架橋物を与える。 （もっと読む）

【課題】 ジメチルエーテルに対する耐性を有するゴム部材を提供する。
【解決手段】 ジメチルエーテルのガスまたは液体と接触する部位に使用されるゴム部材であって、２価パーフルオロポリエーテルまたは２価パーフルオロアルキレン骨格からなり、1分子当たり２個以上のアルケニル基を有するフッ素系エラストマー、または前記フッ素系エラストマーを含むゴム組成物が過酸化物架橋剤により架橋された架橋成形物からなることを特徴とする耐ジメチルエーテル性ゴム部材。 （もっと読む）

【課題】本発明は、押出成形性と低燃料透過性を両立し、パーオキサイド架橋できる可能なフッ素ゴム、該フッ素ゴムを含む架橋用組成物、および該組成物からなる成形品を提供する。
【解決手段】分子量分布において少なくとも２つのピークを有し、最も低分子量側のピークの数平均分子量が３０００〜６００００であり、該ピークの分子量分布が１．０〜２．０であり、かつフッ素ゴム全体の１００℃におけるムーニー粘度が３０〜８０であるパーオキサイド架橋可能なフッ素ゴムである。 （もっと読む）