【解決手段】分子中に極性を持ちポリマーに密着性を与える単位と、酸不安定基で保護され、酸の作用によりアルカリ可溶性となる単位を含有する化学増幅型レジスト用ポリマーとして、フッ素置換されたアルキル鎖を持つスルホン酸スルホニウム塩を側鎖に有する繰り返し単位の含有量が５モル％未満で、繰り返し単位中に芳香環骨格を含有する単位が６０モル％以上のポリマーを用いる化学増幅型レジスト材料。
【効果】クロム化合物による膜表面のようなパターン形成が難しい基板上でも、パターン剥がれやパターンの崩壊を発生しにくいレジスト材料を提供できる。 （もっと読む）

本発明は、ａ）ニトリルキュアサイト、アルキンキュアサイトまたはアジドキュアサイトのいずれかを有するフルオロエラストマーと、ｂ）フルオロエラストマー上でキュアサイトと反応させるためのジアジド基、ジニトリル基またはジアルキン基を含むフッ素化硬化剤とを含む硬化性フルオロエラストマー組成物に関する。アジドキュアサイトを有するフルオロエラストマーは、ジニトリル基またはジアルキン基を有する硬化剤により架橋を形成する。ニトリルキュアサイトまたはアルキンキュアサイトを有するフルオロエラストマーは、ジアジド基を有する硬化剤により架橋を形成する。 （もっと読む）

【課題】 有機ハロゲン化物、金属銅又は銅化合物の錯体を重合触媒とするリビングラジカル重合法を利用し、（メタ）アクリル系重合体を製造するに当たり、従来と比較して低濃度な銅触媒であっても分子量、分子量分布などの重合体構造を制御しつつ、従来の重合速度で生産性を落とすことなく重合可能な条件を提供するものである。
【解決手段】 反応系中に有機ハロゲン化物、金属銅又は銅化合物、ポリアミン化合物及びアセトニトリルが存在する（メタ）アクリル系単量体のリビングラジカル重合法において、アセトニトリルと重合触媒のモル比（アセトニトリル／重合触媒）を２０以上１００以下とする。 （もっと読む）

【課題】撥水性と滑水性に優れ、現像欠陥が少なく、現像後のレジストパターン形状が良好な液浸リソグラフィー用レジスト材料の添加剤を用いたレジスト材料、この材料を用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）一般式（１）で表される繰り返し単位を有する高分子化合物、（Ｂ）ベース樹脂として酸の作用によりアルカリ現像液に可溶となる高分子化合物、（Ｃ）高エネルギー線の露光により酸を発生する化合物、（Ｄ）有機溶剤を含有するレジスト材料。
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【課題】イオン交換樹脂用のモノマー、および、該モノマーから得られるイオン交換ポリマーに関するものであり、特に、フューエルセル、アルカリクロリドプロセスのような電気化学用途、並びに、有機化学における不均一触媒のような膜に結合したアニオン中心の解離に関連したカチオンイオン交換樹脂を提供する。
【解決手段】一般式〔Ｔ−ＳＯ2−Ｙ−ＳＯ2Ｔ’〕-Ｍ+（式中、ＴおよびＴ’は同一であるかまたは異なり、不飽和基または開環可能な環のような重合活性官能基を少なくとも１つ有する有機基、Ｍ+はカチオン、ＹはＮまたはＣＱ、ＱはＨ、ＣＮ、Ｆ、ＳＯ2Ｒ3、Ｃ1-20アルキル、Ｃ1-20アリール、Ｃ1-20アルキレン、置換基は１以上のハロゲン、そして、鎖は１以上の置換基Ｆ、ＳＯ2Ｒ、アザ、オキサ、チアまたはジオキサチアを含み、そして、Ｒ3は特定の置換基）の二官能性モノマー、およびこれから誘導されるポリマー。 （もっと読む）

【課題】耐寒性にすぐれかつ耐燃料油油透過性にすぐれているばかりではなく、耐圧縮永久歪特性にもすぐれた架橋物を与え得る含フッ素エラストマー組成物を提供する。
【解決手段】その共重合組成が、テトラフルオロエチレンを含まず、(a)フッ化ビニリデン40〜65モル%、(b)クロロトリフルオロエチレン20〜40モル%、(c)パーフルオロ(メチルビニルエーテル)7〜20モル%、(d)一般式 CF₂=CFO〔CF₂CF(CF₃)O〕nCF₃(n：2〜6の整数)で表わされるパーフルオロポリエーテル3〜15モル%および(e)一般式 RfX(Rf：炭素数2〜8の不飽和フルオロ炭化水素基、基中に1個以上のエーテル結合を有していてもよく、XはBrまたはI)で表わされる含臭素または含ヨウ素不飽和化合物0.1〜2モル%である含フッ素エラストマー100重量部当リ、0.1〜10重量部の有機過酸化物、0.1〜10重量部の多官能性不飽和化合物および2重量部以上の受酸剤を添加してなる含フッ素エラストマー組成物。 （もっと読む）

【課題】酸ハライドに直接アルコールを反応させるという１段階の反応によって得られる、1分子中に2個以上の重合性官能基を有する新規な含フッ素ポリエーテルカルボン酸エステルを提供する。
【解決手段】一般式 R¹OCOCF(CF₃)[OCF₂CF(CF₃)]_aO(CF₂)_bO[CF(CF₃)CF₂O]_cCF(CF₃)COOR¹ 〔ここで、R¹は一般式 CH₂=CR²COO(CH₂)_dCH₂- (R²は水素原子またはメチル基であり、dは1〜3の整数である)で表わされる基であり、a+cは0を除く28以下の整数であり、好ましくは6〜28の整数であり、bは2以上の整数である〕で表わされる含フッ素ポリエーテルカルボン酸エステル。 （もっと読む）

【解決手段】カルボキシル基の水素原子が下記一般式（１）で示される酸不安定基によって置換されている樹脂をベース樹脂にしていることを特徴とするポジ型レジスト材料。


（式中、Ｒ¹は水素原子、炭素数１〜４のアルキル基、アルコキシ基、アルカノイル基又はアルコキシカルボニル基、炭素数６〜１０のアリール基、ハロゲン原子、又はシアノ基である。ｍは１〜４の整数である。）
【効果】本発明のポジ型レジスト材料は、露光前後のアルカリ溶解速度コントラストが大幅に高く、高解像性を有し、露光後のパターン形状とラインエッジラフネスが良好で、その上特に酸拡散速度を抑制し、優れたエッチング耐性を示す。従って、特に超ＬＳＩ製造用あるいはフォトマスクの微細パターン形成材料、ＥＵＶ露光用のパターン形成材料として好適なポジ型レジスト材料、特には化学増幅ポジ型レジスト材料を得ることができる。 （もっと読む）

【課題】高解像度でラインエッジラフネスが小さく、露光後のパターン形状が良好であり、更に優れたエッチング耐性を示すレジスト膜を与えるポジ型レジスト材料を提供する。
【解決手段】カルボキシル基の水素原子が一般式（１）で示される酸不安定基によって置換されている樹脂をベース樹脂にしているポジ型レジスト材料。


（Ｒ¹、Ｒ²はＨ、Ｃ１〜４のアルキル基、アルコキシ基、アルカノイル基、アルコキシカルボニル基、ヒドロキシ基、Ｃ６〜１０のアリール基、ハロゲン原子、又はシアノ基。ＲはＨ、Ｃ１〜１２のアルキル基、Ｏ又はＳを有していてもよく、Ｃ２〜１２のアルケニル基、Ｃ２〜１２のアルキニル基、又はＣ６〜１０のアリール基。Ｒ³〜Ｒ⁶はＨ、あるいはＲ³とＲ⁴、Ｒ⁴とＲ⁵、又はＲ⁵とＲ⁶が結合してベンゼン環を形成してもよい。ｍ、ｎは１〜４の整数。） （もっと読む）

【課題】自己形成型上部反射防止コーティング組成物、この組成物を含むフォトレジスト調合物およびこの組成物を含むフォトレジスト調合物を用いる像形成の方法を提供する。
【解決手段】この組成物は、エチレン形主鎖を有するポリマーであって、芳香族部分を有する第１のモノマー、塩基可溶性部分または酸に不安定な基で保護された塩基可溶性部分を有する第２のモノマー、およびフルオロアルキル部分を有する第３のモノマーを含むポリマーを含む。 （もっと読む）

【課題】フルオロエラストマーの製造方法を提供すること。
【解決手段】過フッ素化アルカンスルホン酸若しくはカルボン酸又はその塩、硬化部位を含む液体フッ素化モノマー、および、任意に不活性液体の高フッ素化炭化水素化合物から得られる水性マイクロエマルジョン。本水性マイクロエマルジョンは、水、過フッ素化アルカンスルホン酸若しくはカルボン酸又はその塩、任意に不活性液体の高フッ素化炭化水素化合物、および硬化部位を有する液体フッ素化モノマーを一緒に混合することによって生成されてもよい。 （もっと読む）

【課題】良好なパターン形成性およびエッチング耐性を有するインプリント用硬化性組成物を提供する。
【解決手段】下記一般式（Ｉ）で表される重合性単量体（Ａｘ）と光重合開始剤を含有するインプリント用硬化性組成物。


（一般式（Ｉ）中、Ｒ¹は水素原子、アルキル基またはハロゲン原子を表し、Ｚは芳香族基を含有する分子量１００以上の基を表す。但し、重合性単量体（Ａｘ）が２５℃において液体であるとき、２５℃における粘度が５００ｍＰａ・ｓ以下である。） （もっと読む）

【課題】酸・酸塩型基を有するポリマーからなり、基材に塗布又は多孔質材料に含浸したのち架橋することにより機械特性に優れ水分量による寸法変化の小さい架橋体を製造することができる液状組成物を提供する。
【解決手段】液状媒体と、架橋性官能基を有する架橋性含フッ素ポリマーとからなる含フッ素ポリマー液（Ａ）からなる含フッ素ポリマー液状組成物であって、上記含フッ素ポリマー液（Ａ）は、酸・酸塩型基、若しくは、加水分解してカルボキシル基に変換する有機基を有する架橋性含フッ素ポリマー（ＰＤ）からなる粒子が液状分散媒に分散している含フッ素ポリマー液状分散液（ＡＤ）、又は、酸・酸塩型基若しくは酸・酸塩型基の前駆体を有する架橋性含フッ素ポリマー（ＰＳ）がフッ素系溶剤若しくはアルコール／水混合溶剤に溶解してなる含フッ素ポリマー溶液（ＡＳ）であることを特徴とする含フッ素ポリマー液状組成物である。 （もっと読む）

開始剤の存在下に水性重合媒体中イオン性基を有する少なくとも１つのフッ素化モノマーを第１の重合ステップで重合させる工程であって、フッ素化イオノマーの分散した微粒子を提供する重合工程と、フッ素化イオノマーの分散した微粒子および開始剤の存在下に水性重合媒体中イオン性基を有する少なくとも１つのフッ素化モノマーを第２の重合ステップで重合させてフッ素化イオノマーの粒子の水性分散液を形成する工程と、第２重合ステップを始める前に第１の重合ステップを浮遊処理する工程とによるフッ素化イオノマー粒子の水性分散液の製造方法。 （もっと読む）

少なくとも１つのフッ素化モノマーを、開始剤および重合剤を含有する水性媒体中で重合させてフルオロポリマーの粒子の水性分散系を形成する工程を含む方法であって、前記重合剤が式（Ｉ）：
Ｒ_f−Ｏ−（ＣＦ₂）_n−ＣＯＯＸ （Ｉ）
（式中、
Ｒ_fは、ＣＦ₃ＣＦ₂ＣＦ₂−であり、
ｎは、３、５または７に等しい整数であり、
Ｘは、Ｈ、ＮＨ₄、Ｌｉ、ＮａまたはＫである）
の化合物である方法。 （もっと読む）

【課題】フッ素樹脂粒子、特にＰＴＦＥ粒子を有機溶剤等の粘度の低い液中で安定に分散させることが可能なフッ素樹脂粒子用分散剤を提供する。また、当該分散剤を用いたフッ素樹脂粒子分散液及び当該分散液を配合したフッ素樹脂塗料を提供する。
【解決手段】下記一般式（１）で表されるフッ素化合物と、ポリオキシアルキレン鎖を有するエチレン性不飽和単量体との共重合体からなることを特徴とするフッ素樹脂粒子用分散剤。
【化１】


（一般式（１）中のＲ^１及びＲ^２は、それぞれ独立して、炭素原子数１〜６のパーフルオロアルキル基等を表し、Ｒ^３は、水素原子又はメチル基を表し、Ａ^１及びＡ^２は、それぞれ独立して、炭素原子数１〜３のアルキレン基又は直接結合を表し、Ａ^３は、炭素原子数２〜３のアルキレン基を表し、Ｘ^１及びＸ^２は、それぞれ独立して、酸素原子、硫黄原子又はスルホンアミドを表す。） （もっと読む）

【課題】低屈折率かつ高耐擦傷性の反射防止フィルムの提供。
【解決手段】下記一般式（１）の化合物、および無機微粒子を含む組成物を硬化してなる層を含有する。（式（１）中、Ｙは式（２）で表される基（但し、Ｘは水素原子、フッ素原子、塩素原子、メチル基、又は水酸基を表す。）又はビニル基を表し、Ｌ_１は式（３）又は（４）で表される基を表し、Ｌ_２及びＬ_３は、式（５）、（６）又は（７）で表される基を表し、Ｒｆ_１は飽和パーフルオロアルキル基、Ｒｆ_２はパーフルオロアルキル基又はフッ素原子を表し、Ｒｆ_３は、パーフルオロアルキル基又は塩素原子を表す。）
（もっと読む）

【課題】光導波路や封止部材などの光デバイス用材料および反射防止膜などの表示デバイス用材料として好適な近赤外領域における透明性、耐吸湿性、耐熱性などに優れた各種の光学材料および硬化した部材を提供する。
【解決手段】式（１）：


（式中、構造単位Ｍは架橋性環状エーテル構造を側鎖に有する含フッ素有機基に由来する構造単位、構造単位Ａは該式（Ｍ）で示される含フッ素エチレン性単量体と共重合可能な単量体に由来する構造単位である）で示され、構造単位Ｍを０．１〜１００モル％および構造単位Ａを０〜９９．９モル％含み、数平均分子量が５００〜１００００００である硬化性含フッ素ポリマー（Ｉ）を含む、またはさらに光酸発生剤（II）を含む光学材料 （もっと読む）

【課題】フォトリソグラフィーにおいて、高解像性かつ露光余裕度に優れたレジスト材料のベース樹脂用の単量体として有用な重合性アニオンを有するスルホニウム塩、そのスルホニウム塩から得られる高分子化合物、その高分子化合物を含有するレジスト材料及びそのレジスト材料を用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】一般式（１）で示されるスルホニウム塩。


（ＡはＣ１〜２０の二価の有機基。ｎは０又は１） （もっと読む）

【課題】低屈折率で高い硬度を有し、且つ、汚染や剪断といった外的刺激に対して安定なポリマーを与える重合性含フッ素化合物を提供する。
【解決手段】下記一般式（Ｉ）で表される重合性含フッ素化合物。


一般式（Ｉ）中、Ｒｆは炭素原子およびフッ素原子を含むａ価の有機基を表す。Ｒｆ_１は炭素原子およびフッ素原子を含む１価の有機基を表す。Ｒｆ_２は炭素原子およびフッ素原子を含む１価の有機基またはフッ素原子を表す。Ａは単結合または上記一般式（ＩＩ）で表される２価の連結基を表す。Ｑは重合性基または水素原子を表す。ａは２〜２０の整数を表し、ｂ、ｃはそれぞれ独立に０〜１００の整数を表す。 （もっと読む）