【課題】ＩＣ等の半導体製造工程、液晶、サーマルヘッド等の回路基板の製造、更にその他のフォトファブリケーション工程などに使用される感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法に於いて、解像力、ラインエッジラフネスに優れた感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法に用いることができる樹脂及び重合性化合物を提供する。
【解決手段】特定の基を有する樹脂、及び、特定の基を有する繰り返し単位を有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂。 （もっと読む）

【課題】薄膜であっても、感度、解像度等のレジストとしての基本物性に優れるとともに、ラインパターンを形成する際における露光余裕度が優れ、また、現像後の残渣を低減させるレジスト膜を形成可能な感放射線性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）少なくとも下記式（ａ−１）で表される繰り返し単位を有する重合体、並びに（Ｂ）酸発生剤、（Ｄ）有機溶剤を含有することを特徴とする、感放射線性樹脂組成物。
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【課題】良好なリソグラフィー特性で、ラフネスの低減されたレジストパターンを形成できるポジ型レジスト組成物、該ポジ型レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法、およびポジ型レジスト組成物の基材成分として利用できる高分子化合物を提供する。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分（Ａ）、および露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有するポジ型レジスト組成物であって、前記基材成分（Ａ）が、（メタ）アクリル酸のメチロール置換ナフトールエステル単位を含有する構成単位を有する高分子化合物（Ａ１）を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】パターン倒れが抑制され、かつ現像不良が発生しにくく、更に経時安定性に優れたパターンを形成することが可能である感活性光線又は感放射線樹脂組成物、及びそれを用いたパターン形成方法を提供すること。
【解決手段】（Ａ）酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増大する樹脂、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により、酸を発生する化合物、（Ｃ）アルカリ現像液の作用により分解してアルカリ現像液に対する溶解性が増大する極性変換基を有する繰り返し単位を含有し、かつ、フッ素原子及びケイ素原子の少なくともいずれかを含有する樹脂、及び（Ｄ）ｐＫａが９以下である塩基性化合物を含有することを特徴とする感活性光線性または感放射線性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】 レジストパターンの裾引き形状改善に効果があり、パターン倒れ欠陥が少ないパターンを形成することが可能である感活性光線又は感放射線樹脂組成物、及びそれを用いたパターン形成方法を提供すること。
【解決手段】 （Ａ）酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、（Ｂ）活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物、および、（Ｃ）フッ素原子及びケイ素原子の少なくともいずれかと、アルカリ現像液の作用により分解してアルカリ現像液に対する溶解性が増大する極性変換基とを有する樹脂を含有し、樹脂成分（Ａ）が下記一般式（１）で示されるエステル化合物から得られる繰り返し単位を含有することを特徴とする感活性光線または感放射線樹脂組成物。（一般式（１）中の符号は明細書に記載の意味を有する。）
【化１】
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【課題】コーナー・プロキシミティ（Corner proximity）が良好で、現像欠陥が少ないパターンを形成することが可能で、液浸液への酸の溶出が少なく、液浸液に対する追随性が良好である感活性光線又は感放射線樹脂組成物、及びそれを用いたパターン形成方法を提供すること。
【解決手段】（Ａ）酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、（Ｂ）活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物、（Ｃ）アルカリ現像液の作用により分解してアルカリ現像液に対する溶解性が増大する極性変換基を有する繰り返し単位を含有し、かつ、フッ素原子及びケイ素原子の少なくともいずれかを含有する樹脂、および、（Ｄ）下記一般式（１）で表される含窒素ヘテロ環を有する含窒素有機化合物を含有することを特徴とする感活性光線または感放射線樹脂組成物。（一般式（１）の各符号は明細書に記載の意味を有する。）
【化１】
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【課題】化学増幅型レジストとして、放射線に対する透明性が高く、かつ解像度が優れるとともに、ドライエッチング耐性、感度、パターン形状等にも優れるのみならず、微細加工時の現像欠陥発生を抑制し、半導体素子の歩留りを著しく向上させることができる感放射線性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】（Ａ）酸解離性基含有樹脂、
（Ｂ）活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物、および
（C）分子構造中にシクロデキストリン骨格とフッ素原子とを有し、かつ、¹H NMRから算出した平均分子量が６０００以下である化合物、
を含有することを特徴とする感放射線性樹脂組成物を提供する。 （もっと読む）

【課題】
臨床検査用自動分析装置で用いられる試薬収容容器において、容器の成形がし易く、凍結乾燥処理を行うことが可能であり、安価な、試薬を収容可能な臨床検査用試薬収容容器を提供することを目的とする。
【解決手段】
本発明は、臨床検査用試薬を収容し、臨床検査用自動分析装置に用いられる臨床検査用試薬収容容器であって、シクロオレフィンコポリマーを一体成形することにより得られ、凍結乾燥処理に適用可能であることを特徴とする臨床検査用試薬収容容器を提供する。 （もっと読む）

【課題】ポジ型レジスト組成物、及び該ポジ型レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分（Ａ）、及び露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有するポジ型レジスト組成物であって、基材成分（Ａ）が、その環骨格中に−ＳＯ_２−を含む環式基を含むアクリル酸エステル構成単位及び／又はメタクリル酸エステル構成単位と、酸解離性溶解抑制基を含むアクリル酸エステルから誘導される構成単位（ａ１）及び／又は酸解離性溶解抑制基を含むメタクリル酸エステルから誘導される構成単位（ａ１’）とを有する高分子化合物（Ａ１）を含有し、高分子化合物（Ａ１）中の、該アクリル酸エステルから誘導される構成単位の割合が１５〜８０モル％であることを特徴とするポジ型レジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】液晶表示装置の光学補償有用な新規な光学異方性膜を提供する。
【解決手段】変形したねじれらせん構造の光学異方性膜であって、光により捩れ力が変化する光学活性化合物を含む液晶組成物をコレステリック配向させた後、偏光を照射することにより形成され、及び面内異方性が存在することを特徴とする光学異方性膜である。 （もっと読む）

【課題】良好な形状で、ＬＷＲの小さいレジストパターンを形成でき、基板とのマッチングが良好なポジ型レジスト組成物、該ポジ型レジスト組成物の基材として利用できる高分子化合物、およびレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分（Ａ）を含有するポジ型レジスト組成物であって、基材成分（Ａ）は、末端にカルボキシル基を有する脂肪族炭化水素基を側鎖に含む特定のアクリル酸系エステルから誘導される構成単位（ａ０）、環骨格中に−ＳＯ_２−を含む環式基がエステル結合した脂肪族炭化水素基を側鎖に含む特定のアクリル酸系エステルから誘導される構成単位（ａ５）及び酸解離性溶解抑制基を含むアクリル酸エステルから誘導される構成単位（ａ１）を有する高分子化合物（Ａ１）を含有する。 （もっと読む）

【課題】解像性能に優れるだけでなく、ＬＷＲが小さく、パターン倒れ耐性に優れ、且つ、欠陥性にも優れる感放射線性樹脂組成物の提供。
【解決手段】樹脂（Ａ）と、感放射線性酸発生剤（Ｂ）とを含有し、樹脂（Ａ）が、側鎖に、炭素数１〜１２のアルキレン基または脂環式アルキレン基で結合されたノルボルニルラクトン基を有する（メタ）アクリレート単位（ａ−１）と、側鎖に、末端が水素原子、ヒドロキシル基またはアシル基であるメチレン基を有する（メタ）アクリレート単位（ａ−２）と、酸解離性基を有する繰り返し単位（ａ−３）とを含む重合体である感放射線性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】ＡｒＦエキシマレーザーを高原とするフォトリソグラフィー工程に用いられ、９０ｎｍ以下の線幅を可能とする短波長の光源を用いた微細なレジストパターンの形成に対応することができ、解像性能に優れるだけでなく、パターン倒れ耐性にも優れた樹脂の提供。
【解決手段】ノルボルナンカルボン酸に由来する特定のラクトン骨格を側鎖に有する（メタ）クリル酸エステル（ａ−１）および特定のアダマンタン骨格を側鎖に有する（メタ）クリル酸エステル構造単位（ａ−２）とからなる樹脂（Ａ）と、感放射線性酸発生剤とからなる樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】
着色の少ないアジン結合を有する、重合性化合物及び重合性液晶化合物、これらの化合物を含有する重合性液晶組成物、これらを重合して得られる液晶性高分子、及びこの液晶性高分子を構成材料とする光学異方体を提供する。
【解決手段】
下記式（Ｉ）で示される、重合性化合物及び重合性液晶化合物、これらの化合物を含有する重合性液晶組成物、これらを重合して得られる液晶性高分子、及び、この液晶性高分子を構成材料とする光学異方体。
【化１】


〔式中、Ｙ_１〜Ｙ_６は−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−等を、Ｇ_１及びＧ_２は炭素数１〜２０の２価の脂肪族基等を、Ｚ_１及びＺ_２は炭素数２〜１０のアルケニル基等を、Ａ_１及びＡ_２は２価の脂環構造含有脂肪族基を、Ｘ_１〜Ｘ_８は水素原子等を、ａ及びｂは０又は１である。〕 （もっと読む）

【課題】ポジ型レジスト組成物の基材成分として有用な新規な高分子化合物、該高分子化合物のモノマーとして有用な化合物、前記高分子化合物を含有するポジ型レジスト組成物、および該ポジ型レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分（Ａ）、および露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有するポジ型レジスト組成物であって、前記基材成分（Ａ）が、側鎖にノルボルニルラクトン構造を有するエステル基を有する（メタ）アクリレート単位（ａ０）、および酸解離性溶解抑制基を含む（メタ）アクリル酸エステルから誘導される構成単位（ａ１）を有する高分子化合物（Ａ１）を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】ＩＣ等の半導体製造工程、液晶、サーマルヘッド等の回路基板の製造工程、さらにその他のフォトファブリケーション工程に使用されるポジ型感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法に関するものであり、現像欠陥性能とスカム性能に優れたポジ型感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】極性基を有する特定の繰り返し単位及びラクトン構造を有する特定の繰り返し単位を有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する樹脂、活性光線又は放射線の照射により、酸を発生する化合物及び溶剤を含有するポジ型感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】レジストパターン形成において、優れたリソグラフィー特性を示し、ディフェクトを低減できるポジ型レジスト組成物、該ポジ型レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法、および該ポジ型レジスト組成物の基材成分として有用な高分子化合物の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分（Ａ）、および露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有するポジ型レジスト組成物であって、前記基材成分（Ａ）が、側鎖にオキシラン環を有する構成単位（ａ０）、前記構成単位（ａ０）に該当しない酸解離性溶解抑制基を含むアクリル酸エステルから誘導される構成単位（ａ１）、およびラクトン含有環式基を含むアクリル酸エステルから誘導される構成単位（ａ２）を有する高分子化合物（Ａ１）を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】ダブルパターニング法等のマルチパターニング法において、１回目のレジストパターン形成用のレジスト組成物によって得られたパターンを、極微細に、かつ精度良く形成するレジスト処理方法を提供することを目的とする。
【解決手段】（１）酸に不安定な基を有し、アルカリ水溶液に不溶・難溶、酸と作用した後可溶となる樹脂（Ａ）、光酸発生剤（Ｂ）、架橋剤（Ｃ）及び酸増殖剤（Ｄ）を含む第１のレジスト組成物を基体上に塗布・乾燥して第１のレジスト膜を得、これをプリベークし、露光処理し、ポストエクスポージャーベークし、現像して第１のレジストパターンを得、これをハードベークし、この上に第２のレジスト組成物を塗布し、乾燥して第２のレジスト膜を得、これをプリベークし、露光処理し、ポストエクスポージャーベークし、現像して第２のレジストパターンを得る工程を含むレジスト処理方法。 （もっと読む）

【課題】改質対象となる材料の表面に多点配位し、かつ、該表面を機能化することが可能なグラフト共重合体に用いられる重合性モノマー及びその製造方法、並びにその重合性モノマーを他の重合性モノマーと共重合させたグラフト共重合体を提供すること。
【解決手段】本発明のグラフト共重合体は、一般式（Ｉ）で表される重合性モノマー（Ａ）と、ピリジル基を有する重合性モノマー（Ｂ）と、からなり、Ｒ^３ａの末端の官能基を介してリガンドを結合することができる。


（式中、Ｒ^１ａは、重合性基を表し、Ｒ^２ａは、炭素数２〜５のアルキレン基を表し、Ｒ^３ａは、末端にアジ基、フェニルアジ基、カルボキシル基、１級〜４級アミノ基、アセタール基、アルデヒド基、チオール基、ジスルフィド基、活性エステル基、トリアルコキシシリル基、及び重合性基から選ばれる官能基を有する有機基を表し、ｎは、５〜２００００の任意の整数を表す。） （もっと読む）

【課題】ラインウィズスラフネスが小さいパターンを得られるとともに、露光ラチチュードが広いパターンを形成することができるポジ型レジスト組成物の提供。
【解決手段】 酸の作用によりアルカリ溶解性が増大する繰り返し単位を少なくとも２種含有し、該２種の繰り返し単位は酸分解性基の反応活性化エネルギーが互いに異なり、該反応活性化エネルギーの差が４０．０ｋＪ／ｍｏｌ以下である樹脂を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 （もっと読む）