【課題】ラインウィズスラフネス等のラフネス性能、局所的なパターン寸法の均一性、露光ラチチュード及びドライエッチング耐性に優れ、かつ露光により形成されるパターン部の膜厚低下、いわゆる膜べりを抑制するパターン形成方法、それに用いられる感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、レジスト膜、電子デバイスの製造方法及び電子デバイスを提供する。
【解決手段】（ア）下記一般式（Ｉ）で表される繰り返し単位（ａ）、及び酸の作用により分解してアルコール性水酸基を生じる基と多環の脂環式炭化水素基とを有する繰り返し単位（ｂ）を有する樹脂（Ｐ）並びに活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物（Ｂ）を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物によって膜を形成する工程、（イ）該膜を露光する工程、及び（ウ）有機溶剤を含む現像液を用いて現像してネガ型のパターンを形成する工程を含む、パターン形成方法。
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【課題】レジストパターン製造時のフォーカスマージンが良好であり、欠陥の発生が少ないレジストパターンを得ることができるレジスト組成物の提供。
【解決手段】式（Ｉ）で表される構造単位を有する樹脂、アルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液で溶解し得る樹脂、酸発生剤及び式（ＩＡ）で表されるアニオンを有する塩を含有するレジスト組成物。


［式中、Ｒ¹は水素原子又はメチル基；Ａ¹はアルカンジイル基；Ｒ²はフッ素原子を有する炭化水素基；Ｒ^１Ａ及びＲ^２Ａは、それぞれ、水素原子、脂肪族炭化水素基、脂環式炭化水素基、芳香族炭化水素基又はアラルキル基を表し、これら基は置換基を有していてもよく、あるいはＲ^１Ａ及びＲ^２Ａは互いに結合してＮとともに環を形成してもよい。］ （もっと読む）

【課題】ラインエッジラフネスおよび感度の両立を可能とする感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、それを用いた感活性光線性又は感放射線性膜及びパターン形成方法を提供する。
【解決手段】一般式（Ｉ）で表される酸分解性の繰り返し単位を含有する樹脂、及び、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。（式中、Ｒ_１は水素原子、アルキル基、ハロゲン原子、シアノ基又はアルキルオキシカルボニル基を表す。Ｒ_２はアルキル基又はシクロアルキル基を表す。Ｒ_３は１価の置換基を表す。Ｗはアルキレン基又はシクロアルキレン基を表す。Ｘは酸素原子または硫黄原子を表し、Ｘを含む環はエーテル結合又はチオエーテル結合を含む環構造を表す。ｌ及びｎは各々独立に０以上の整数を表す。ｎが２以上の場合、複数のＲ_３は各々独立であり、また、互いに結合して環を形成してもよい。）
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【課題】優れた解像度を有するレジストパターンを得ることができる樹脂及びレジスト組成物を提供する。
【解決手段】式（ａ）で表される構造単位を有する樹脂。


［式中、Ｒ^１は、ハロゲン原子を有してもよいアルキル基、水素原子又はハロゲン原子を表す；Ｒ^２は、置換基を有していてもよい脂肪族炭化水素基、単結合等を表す；Ｒ^３は、式（ｂ）で表される基である；---は単結合又は二重結合を表す；ｘ１は１又は２、ｘ２は０又は１、ｘ１＋ｘ２＝２である。］ （もっと読む）

【課題】電子デバイス製造における微細パターンの形成を可能にし、および最新技術に関連する１以上の上記課題を回避するかまたは顕著に改善する、改良されたポリマー、フォトレジスト組成物、およびネガティブトーン現像のためのフォトリソグラフィ方法の開発。
【解決手段】特定のアセタール部分を含む単位と、ラクトン部分を含む単位とを含むポリマー。このポリマーを含むフォトレジスト組成物、前記フォトレジスト組成物でコーティングされた基体、およびフォトリソグラフィパターンを形成する方法。このポリマー、組成物、方法およびコーティングされた基体には、半導体デバイスの製造における特別な適用性が見いだされる。 （もっと読む）

【課題】フォトリソグラフィパターンを形成するのに有用なポリマーおよびフォトレジスト組成物を提供する。
【解決手段】側鎖に環状アセタール骨格を有するポリマー。該ポリマーと光酸発生剤とを含むフォトレジスト組成物。ポリマーが、側鎖に環状アセタール骨格を有する（メタ）アクリル酸エステルの重合体である。フォトレジストでコーティングされた基体、およびフォトリソグラフィパターンを形成する方法。基体と、当該基体の表面上のフォトレジスト組成物の層とを含むコーティングされた基体。 （もっと読む）

【課題】ネガティブトーン現像プロセスによってフォトリソグラフィパターンを形成するのに有用なフォトレジスト組成物、フォトリソグラフィパターンを形成する方法、並びにフォトレジスト組成物でコーティングされた基体を提供する。
【解決手段】フォトレジスト組成物、およびネガティブトーン現像プロセスを用いて微細パターンの形成を可能にするフォトリソグラフィ方法に関し、このフォトレジスト組成物は一部分が特定のアセタール部分を含むモノマーから形成されるコポリマーを含む。本発明の好ましい組成物および方法は、フォトリソグラフィ処理における厚さ損失の低減およびパターン崩壊マージンの向上をもたらす。この組成物、方法およびコーティングされた基体については、半導体デバイスの製造における特別な適用性が見いだされた。 （もっと読む）

【解決手段】下記一般式（１）で示されることを特徴とする重合性モノマー。


（式中、Ｒ¹は、水素原子又はメチル基である。Ｒ²は、水素原子又は炭素数１〜４のアルキル基である。Ｒ³は、酸不安定基である。ｍは、１〜４の整数である。）
【効果】本発明の重合性モノマーを（共）重合して得られる高分子化合物をベース樹脂とするポジ型レジスト材料は、露光前後のアルカリ溶解速度コントラストが大幅に高く、高解像性を有し、露光後のパターン形状とラインエッジラフネスが良好で、その上特に酸拡散速度を抑制し、優れたエッチング耐性を示す。従って、本発明によれば、特に超ＬＳＩ製造用又はフォトマスクの微細パターン形成材料、ＥＵＶ露光用のパターン形成材料等として好適なポジ型レジスト材料、特には化学増幅ポジ型レジスト材料を得ることができる。 （もっと読む）

【課題】 コレステリック反射フィルムの選択反射の波長領域を容易に拡大し、かつ、生産性に優れた重合性液晶組成物提供し、併せて、当該重合性液晶組成物をを用いた外観の優れたコレステリック反射フィルム及び反射型偏光板を提供する。
【解決手段】 ａ）重合性官能基を１つのみ有し、かつ、トラン骨格を有する液晶化合物を１種又は２種以上含有し、ｂ）重合性官能基を１つのみ有し、トラン骨格を含まない液晶化合物を１種又は２種以上含有し、ｃ）重合性官能基を２つ以上有する液晶化合物を１種又は２種以上含有し、ｄ）重合性官能基を１つ以上有するキラル化合物を１種又は２種以上含有し、ｅ）重合開始剤を１種又は２種以上含有することを特徴とする重合性液晶組成物。 （もっと読む）

【課題】酸分解性基を含有するラクトン化合物を高収率で得ることができる製造方法、及び、レジスト性能が改善された感活性光線性または感放射線性樹脂組成物の製造方法を提供すること
【解決手段】下記一般式（ＩＢ）で表される化合物の製造方法であって、下記一般式（ＩＡ）で表される化合物を用いる製造方法。
【化１】


式中、Ｑは、重合性基を表す。Ｌ_１は、ｍが２以上の場合は各々独立に、連結基を表す。Ｌｃはラクトン構造を有する基を表す。Ａ_１は酸の作用により脱離する基、又は酸の作用により分解してアルカリ可溶性基を発生する基を有する基を表す。ｍは０以上の整数を表す。 （もっと読む）

【課題】高いΔｎを示す重合性液晶の提供。
【解決手段】下記式（Ｉ）で表される重合性化合物である。式中、Ｐ¹及びＰ²は、重合性基；ｍ１及びｍ２は、１〜１０の整数；Ａは、５〜１８員環の芳香族炭化水素環又は５〜１８員環の芳香族複素環を含む２価基；Ｌ³及びＬ⁴はそれぞれ、炭素原子数１〜１０のアルキル基、又は炭素原子数１〜１０のアルコキシ基；ｋ１及びｋ２はそれぞれ、０〜４の整数；Ｘ¹、Ｘ²、Ｘ³及びＸ⁴はそれぞれ、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−、−ＮＲ−、又は−ＳｉＲ⁰Ｒ⁰⁰−；ｎ１及びｎ２はそれぞれ、０又は１を表し、但し少なくとも一方は１であり、Ｌ^1a、Ｌ^1b、Ｌ^2a及びＬ^2bはそれぞれ、水素原子、ハロゲン原子、−ＣＮ、−ＮＣ、−ＮＣＯ、−ＮＣＳ、又は−ＯＣＮを表し、但し、ｎ１が１で且つＬ^1a及びＬ^1bの双方が水素原子であり、及びｎ２が１で且つＬ^2a及びＬ^2bの双方が水素原子の時、並びにｎ１が１で且つＬ^1a及びＬ^1bの双方が水素原子であり、及びｎ２が０の時に限り、Ｘ²及びＸ³の双方が−Ｏ−で表される化合物、並びにＸ²及びＸ³の一方が−Ｏ−であり且つ他方が−ＮＨ−又は−ＮＲ−で表される化合物を除く。
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【課題】露光ラチチュード、フォーカス余裕度及びパターン形状の改善、並びに、定在波の抑制を可能とする感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、それを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】本発明に係る感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物は、酸の作用により分解してアルカリ可溶性基を発生する構造部位（Ｓ１）と、アルカリ現像液の作用により分解してアルカリ現像液中への溶解速度が増大する構造部位（Ｓ２）とを備えた繰り返し単位（Ａ）を含んだ樹脂（Ｐ）と、下記一般式（１）乃至（５）の何れかにより表される化合物（Ｑ）とを含有している。
【化１】
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【課題】優れた解像度を有するパターンを形成することができるレジスト組成物の提供。
【解決手段】式（Ｉ）で表されるモノマーに由来する構造単位を有する樹脂と、式（Ｂ１）で表される塩を有効成分とする酸発生剤とを含有するレジスト組成物。［Ｒ^１〜Ｒ^４は脂肪族炭化水素基を表すか、又はＲ^１及びＲ^２並びにＲ^３及びＲ^４は、互いに結合して環を形成する。Ｒ^５は水素原子、ハロゲン原子又はハロゲン原子を有してもよいアルキル基を表す。Ｔ^１は２価の飽和炭化水素基を表す。ｍは０又は１を表す。］
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【課題】ラインウィズスラフネス、現像欠陥並びにパターン倒れが改善され、更に、液浸露光時に於ける液浸液に対する追随性が良好であるパターンを形成することが可能な感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、これを用いたレジスト膜及びパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）酸の作用により分解してアルカリ可溶性基を生じる構造部位（Ｓ１）と、アルカリ現像液の作用によりアルカリ現像液中への溶解速度が増大する構造部位（Ｓ２）とを備えた繰り返し単位を含んだ樹脂、
（Ｂ）フッ素原子及び珪素原子の少なくともいずれかを有する樹脂、及び、
（Ｃ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物
を含有した感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、これを用いたレジスト膜及びパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供することであり、パターンプロファイル、パターン倒れ、スカムの諸性能が改善され、かつ液浸液の後退接触角ならびに水追随性も優れたポジ型レジスト組成物及びパターン形成方法を提供することである。
【解決手段】（Ａ）酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、（Ｂ）活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物、（Ｃ）下記（ｘ）〜（ｚ）の群から選ばれる基を少なくとも１つ含有する含フッ素化合物、および（Ｆ）溶剤、を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物、及びそれを用いたパターン形成方法。（ｘ）アルカリ可溶性基、（ｙ）アルカリ現像液の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度が増大する基、（ｚ）酸の作用により分解する基。 （もっと読む）

【課題】極めて透明であり、低い誘電率（熱酸化ケイ素膜の誘電率より低いか、または、それと同等の誘電率）を有し、さらに、高い耐熱性（それに続く加工に十分耐える程度の耐熱性）を有する、３０μｍまたはそれより大きい厚さを有するフィルム形成に使用可能な樹脂組成物を提供する。
【解決手段】ノルボルネン系ポリマー、光酸発生剤および溶媒を含む、ネガ型の自己結像可能なフィルムを形成するためのポリマー組成物。 （もっと読む）

【課題】高感度、高解像性、良好なパターン形状及び良好なラインエッジラフネスを同時に満足させる、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、該組成物を用いたパターン形成方法及び該組成物に用いられる樹脂の精製方法を提供する。
【解決手段】活性光線又は放射線の照射により分解して酸を発生する構造部位（Ｘ）を有する繰り返し単位（Ａ）を有する樹脂（Ｐ）を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物であって、前記組成物中の、前記樹脂（Ｐ）中に含まれる繰り返し単位（Ａ）を構成する単量体（ａ）の存在量が、前記感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物の質量に対して０．０５質量％以下であることを特徴とする感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、該組成物を用いたパターン形成方法及び該組成物に用いられる樹脂の精製方法。 （もっと読む）

【解決手段】(I)酸でアルカリ溶解性が増加する繰り返し単位及びラクトン構造含有繰り返し単位を有する高分子化合物をベース樹脂として含むポジ型レジスト材料を基板上に塗布して第1レジスト膜を形成し露光、アルカリ現像して短辺が200nm以上のポジパターンである大面積パターンを含む第1レジストパターンを形成する工程、
(II)第1レジストパターン上に共役酸pKaが4以上の塩基性含窒素化合物を有するレジスト変性用組成物を塗布し、加熱して第1レジストパターンの変性処理を行う工程、
(III)その上に第2ポジ型レジスト材料を塗布し露光、アルカリ現像して第2レジストパターンを形成する工程
を含む多重パターン形成方法であり、第2レジストパターン形成後の第1レジストパターン中の大面積パターン残膜率が50%以上のパターン形成方法。
【効果】本発明のレジスト変性用組成物を用いたダブルパターニングプロセスにおいて、有効なアライメントマークの形成が可能。 （もっと読む）

【課題】 本願発明の目的は、二軸性フィルム用の材料として供される重合性液晶組成物において、紫外線照射時に不活性ガスで雰囲気を置換することなく、空気中で硬化が可能であり、得られた正面位相差の熱安定性に優れる二軸位相差フィルムを実現できる材料を提供することにある。
【解決手段】 本願発明は、重合性液晶化合物、キラル化合物、光吸収剤及び光重合開始剤を含有する重合性液晶組成物において、重合性液晶化合物として、2つの6員環を有する単官能重合性液晶化合物及び光重合開始剤としてベンジルジメチルケタール化合物を含有し、光吸収剤の光吸収帯が波長280〜400nmであり、キラルネマチック相を示す重合性液晶組成物を提供する。 （もっと読む）

【解決手段】高エネルギー線又は熱に感応し、一般式（１）で示されるスルホン酸を発生する光酸発生剤を含む化学増幅型レジスト材料。


（Ｒは芳香環あるいは炭素数５以上の脂環式炭化水素構造を有する一価の炭化水素基。Ｒ’はＨ又はトリフルオロメチル基。Ａ¹はエステル結合、エーテル結合、チオエーテル結合、アミド結合、カーボネート結合のいずれかを示す。ｎは１〜３の整数。）
【効果】本発明の光酸発生剤より生ずる酸は、スルホネートに嵩高い環式構造で酸拡散を抑制しつつ、直鎖状炭化水素基の存在によって適度な機動性も有していることから、適度な酸拡散挙動を示す。また、レジスト材料中の樹脂類との相溶性もよく、これらスルホン酸を発生する光酸発生剤はデバイス作製工程に問題なく使用でき、解像性能、ＬＷＲ、露光余裕度といった問題も解決できる。 （もっと読む）