【課題】 高い耐熱性、耐光性を有し、ガスバリア性および耐冷熱衝撃性に優れ、かつ、光半導体素子を封止する際のハンドリング性が良好なポリシロキサン系組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）アルケニル基を有する多面体構造ポリシロキサン系化合物（ａ）、ヒドロシリル基を有する化合物（ｂ）、１分子中にアルケニル基を１個有する有機ケイ素化合物（ｃ）とをヒドロシリル化反応することで得られる多面体構造ポリシロキサン変性体、
（Ｂ）アルケニル基を２個以上含有する化合物 （もっと読む）

【課題】屈折率の高い低アッベ数の光学材料に適した硬化性組成物並びに硬化物を提供することである。
【解決手段】 （Ａ）ＳｉＨ基と反応性を有する炭素−炭素二重結合を１分子中に少なくとも２個含有する有機化合物、（Ｂ）１分子中に少なくとも２個のＳｉＨ基を含有するケイ素化合物、（Ｃ）ヒドロシリル化触媒、（Ｄ）ＳｉＨ基と反応性を有する炭素−炭素三重結合を１分子中に少なくとも１個有する芳香族化合物を必須成分とする硬化性組成物。 （もっと読む）

【課題】耐クラック性、パターニング性および耐熱性に優れる感放射線性組成物を提供する。
【解決手段】下記成分（Ａ）及び（Ｂ）を含有することを特徴とする感放射線性組成物。
（Ａ）下記一般式（１）で表される加水分解性シラン化合物、該加水分解性シラン化合物の加水分解物、及び該加水分解物の縮合物からなる群より選ばれる少なくとも１種


［一般式（１）中、Ｒ^１は、炭素数１〜１２のアルキル基等である。Ｒ^２は、置換基を有してもよい炭素数２〜３０のアルキレン基等である。Ｘは加水分解性基である。Ａは４価の有機基を示す。ｐは各々独立に０〜２の整数であり、ｑは各々独立に１〜３の整数であり、かつｐ＋ｑ＝３である。］
（Ｂ）光酸発生剤 （もっと読む）

次の構造的特徴：１つより多くの繰り返し単位；少なくとも４つのＳｉ−アリーレン結合；少なくとも１つの（メタ）アクリレート部分、Ｓｉ−Ｈ部分、もしくは両方；０個のＳｉ−Ｏ結合；および、好ましくは少なくとも４つのケイ素原子を有し、各繰り返し単位で２つのケイ素原子が１つのアリーレン基によって分離されているカルボシラン含有ポリマー（オリゴマーを含む）。 （もっと読む）

ポリ（エチニレンフェニレンエチニレンシリレン）ポリマーのアセチレン結合への、ただ１つの反応性官能基を含有する化合物の選択的付加によって得ることができるポリ（エチニレンフェニレンエチニレンシリレン）タイプの被毒変性ポリマー。これらの変性ポリマーを含有する組成物。これらの変性ポリマーを調製する方法。ポリ（エチニレンフェニレンエチニレンシリレン）タイプの新規な自己被毒ポリマー。前記変性ポリマー又は自己被毒ポリマーの熱処理によって得ることができる硬化製品。ポリマー及び硬化製品は、優れた熱特性を保持しながら、改善された機械特性を有する。 （もっと読む）