【課題】液相プロセスを用いて、安定かつ所望な膜厚の膜を形成することができる高次シラン組成物、かかる高次シラン組成物により製造される膜付基板の製造方法、膜付基板を備える電気光学装置および電子デバイスを提供すること。
に関するものである。
【解決手段】高次シラン組成物は、高次シラン化合物と、置換または無置換の炭化水素系溶媒を含む溶媒とを含有し、前記溶媒として、前記高次シラン化合物が溶解し得るように、屈折率が１．５３以上のものを選択する。また、炭化水素系溶媒は、比誘電率が１０以下であるのが好ましい。 （もっと読む）

ポリマーは、放射線硬化メカニズムか水分硬化メカニズムかのどちらかもしくはその両方により硬化する。該ポリマーは、ヒドロシリル化により、調製される。該ポリマーは、式：
【化１】


（Ｒ²₂ＳｉＯ_2/2）_b、（Ｒ²ＳｉＯ_3/2）_c、（ＳｉＯ_4/2）_d、（Ｒ^1'）_f、および（Ｒ²₃ＳｉＯ_1/2）_gの単位を包含し、式中、各Ｒ¹は、独立に、酸素原子もしくは２価の炭化水素基であり；各Ｒ^1'は、独立に、２価炭化水素基であり；各Ｒ²は、独立に、末端脂肪族不飽和のない１価の有機基であり；各Ｘが、独立に、１価の加水分解性基であり；各Ｊは、独立に、１価エポキシ官能性有機基であり；下付き文字ａが、１以上の値を有し；下付き文字ｂが、０以上の値を有し；下付き文字ｃが、０以上の値を有し；下付き文字ｄが、０以上の値を有し；下付き文字ｅが、１以上の値を有し；下付き文字ｆが、０以上の値を有し；下付き文字ｇが、０以上の値を有し；下付き文字ｓが、１、２、もしくは３であり；下付き文字ｔが、１、２、もしくは３である。
（もっと読む）

【課題】外観、硬度、耐擦傷性及び基材との密着性に優れた無機系の硬化被膜を短時間で形成できる活性エネルギー線硬化性組成物、及びこの組成物を用いて硬化被膜を基材の表面に形成した積層体を提供する。
【解決手段】特定のアルキルシリケート及び特定のオルガノアルコキシシランの少なくとも一方と個数平均粒子径が５〜２００ｎｍであるコロイド状シリカとの加水分解・縮合物（Ａ）、特定のアルキルシリケート及び特定のオルガノアルコキシシランの少なくとも一方とエポキシ基含有アルコキシシランとの加水分解・縮合物（Ｂ）並びに活性エネルギー線感応性酸発生剤（Ｃ）を含有する活性エネルギー線硬化性組成物、及びその硬化被膜を有する積層体。 （もっと読む）

【課題】硬化させても回路素子へ応力を与えず、硬化時に体積変化を起こさない熱伝導性シリコーン組成物を提供する。
【解決手段】
（Ａ）一般式（Ｉ）
【化１】


（Ｘは−ＣＨ_２−又は−ＳｉＲ^３Ｒ^４−、Ｚは酸素原子又は二価の炭化水素基、Ｒ^１はＨ又はメチル基、Ｒ^２〜Ｒ^４は一価炭化水素基。ａ、ｂは１〜３の整数）で示される基を分子中に平均０．２〜２個有するオルガノポリシロキサン、（Ｂ）光反応開始剤、及び（Ｃ）熱伝導性充填剤を含有する紫外線硬化型熱伝導性シリコーン組成物。 （もっと読む）

【課題】本発明は、有機アミン化合物を用いた新規な有機無機複合体、特に、表面に所望の硬度を有すると共に、可視光の透過性に優れ、かつ基体との密着性に優れた有機無機複合体、その製造方法、及び有機無機複合体を形成可能な有機無機複合体形成用組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】アミン化合物の存在下、
式（I）
Ｒ^１_ｎＳｉＸ_４−ｎ・・・（Ｉ）
（式中、Ｒ^１は、式中のＳｉに炭素原子が直接結合するような有機基を表し、Ｘは、水酸基又は加水分解性基を表す。ｎは１又は２を表し、ｎが２のとき、Ｒ^１は同一であっても異なっていてもよく、（４−ｎ）が２以上のとき、Ｘは同一であっても異なっていてもよい。）で表される有機ケイ素化合物を縮合させて得られる、有機ケイ素化合物の縮合物を含有することを特徴とする有機無機複合体。 （もっと読む）

【課題】常圧下で、塗布法により、基体上に、均一なゲルマニウムドープシリコン導電膜を形成する方法およびそのためのリン原子含有高次シラン化合物の製造法の提供。
【解決手段】光重合性シラン化合物およびゲルマニウム化合物を含有する溶液に、４００ｎｍより長い波長の光線を照射せしめてゲルマニウム原子含有高次シラン化合物を生成せしめるゲルマニウム原子含有高次シラン化合物の製造法。上記方法で得られたゲルマニウム原子含有高次シラン化合物を含む溶液を基板に塗布し、さらにその塗布基板を熱処理することからなるゲルマニウム含有シリコン膜の形成方法。 （もっと読む）

【課題】常圧下で、塗布法により、基体上に、均一な燐ドープシリコン導電膜を形成する方法およびそのためのリン原子含有高次シラン化合物の製造法の提供。
【解決手段】光重合性シラン化合物およびリン化合物を含有する溶液に、４００ｎｍより長い波長の光線を照射せしめてリン原子含有高次シラン化合物を生成せしめるリン原子含有高次シラン化合物の製造法。上記方法で得られたリン原子含有高次シラン化合物を含む溶液を基板に塗布し、さらにその塗布基板を熱処理することからなるリン含有シリコン膜の形成方法。 （もっと読む）

【課題】感光性を有し、短時間で現像でき、かつ感光性組成物に由来した着色がない薄膜パターンを形成することを可能とするシリコン含有感光性組成物、これを用いた薄膜パターンの製造方法、電子機器用保護膜、トランジスタ、カラーフィルタ、有機ＥＬ素子、ゲート絶縁膜及び薄膜トランジスタを提供する。
【解決手段】ＳｉＨ基を有する少なくとも１種のシリコン含有ポリマーと、光線もしくは放射線の照射により酸または塩基を発生する化合物とを含有し、シリコン含有ポリマーが、下記式（１）で表される２個の加水分解性基を有する少なくとも１種のシラン化合物（Ａ）を重合して得られたポリマーからなり、シラン化合物（Ａ）が、ＳｉＨ基を有するシラン化合物を含む、シリコン含有感光性組成物。
ＳｉＨ_ｐ（Ｘ）_２（Ｒ_１）_２−ｐ・・・式（１） （もっと読む）

本発明は電子部品組立に有用な接着剤組成物を提供し、前記接着剤組成物は重合性アクリレートを含有する光重合性アクリル樹脂と、アルコキシまたはアシルオキシのシラン末端化ポリマーを含む湿気硬化樹脂と、前記アクリレートの重合を開始する光開始剤と、アルコキシまたはアシルオキシのシラン末端化ポリマーの湿気硬化反応を促進する光酸発生剤と、を含んで成る。そのような接着剤を含む組立体、例えば、電子部品組立および無線周波数識別タグ、も提供される。 （もっと読む）

【課題】シロキサン系ポリマーの製造において、縮重合過程における反応を制御しながら効率的に進行させることにより、構造が制御されたシロキサン系ポリマーをより効率的に製造する方法を提供する。
【解決手段】トリアルコキシシラン、又はトリアルコキシシランとジアルコキシシランの混合物に、触媒存在下、温度を制御してマイクロ波を照射することにより、ポリシルセスキオキサン、又はシルセスキオキサンとシロキサンの共重合ポリマーを製造する。さらに、ポリシルセスキオキサン、又はシルセスキオキサンとシロキサンの共重合ポリマーに、温度を制御してマイクロ波を照射することにより、これらのポリマーを高分子量化する。 （もっと読む）

【課題】導電性が高く、かつ溶媒への溶解性を有するシリコン含有導電性高分子材料およびその製造方法ならびに導電性膜を提供する。
【解決手段】Ｓｉ−Ｓｉ結合を有する複数の鎖状分子が、当該各鎖状分子中のＳｉ原子間でフェニレン基によって架橋されてなることを特徴とするシリコン含有導電性高分子材料である。また、側鎖としてフェニル基を有するポリシラン化合物を含む溶液１１に、光を照射することで、上記シリコン含有導電性高分子材料を製造する方法である。さらに、上記シリコン含有導電性高分子材料によって構成された導電性膜である。 （もっと読む）

【課題】透明性に優れ、経時による変色の少ない硬化物を与え、発光ダイオード素子の保護材料、レンズ材料等として適するシリコーン樹脂組成物を提供。
【解決手段】（Ａ）一般式：
【化１】


（式中、ｍは0、1又は2の整数、R¹は水素原子、フェニル基又はハロゲン化フェニル基、R²は水素原子又はメチル基、R³は１価の炭素原子数1〜10の有機基、Z¹は−R⁴−、−R⁴O−、又は、−R⁴(CH₃)₂SiO−（R⁴は２価の炭素原子数1〜10の有機基）で表される２価の基、Z²は酸素原子、又は、２価の炭素原子数1〜10の有機基である。）
で表される構造を分子中に少なくとも1つ有するオルガノポリシロキサン 100質量部、及び、
（Ｂ）光重合開始剤0.01〜10質量部
を含有する発光ダイオード素子用紫外線硬化型シリコーン組成物。 （もっと読む）

【課題】優れたプロトン伝導性、メタノールクロスオーバー防止性を有するプロトン伝導性膜を製造することができ、かつ、プロトン伝導性膜の生産性を大幅に向上させることが可能なプロトン伝導性膜の製造方法、プロトン伝導性膜及び燃料電池を提供する。
【解決手段】スルホン酸基と金属−酸素結合からなる架橋構造とを有するプロトン伝導性膜を製造する方法であって、金属−酸素結合を有する構造単位（ａ）と金属−酸素結合を有する構造単位と共有結合で結合したメルカプト基及び／又はスルフィド基を有する構造単位（ｂ）とからなる架橋性化合物を含有する液状体を調製する工程、前記架橋性化合物を含有する膜状体を作製する工程、及び、水蒸気雰囲気下で前記膜状体に紫外線照射又はプラズマ処理を行うことにより、前記メルカプト基及び／又はスルフィド基をスルホン酸基とすると同時に、前記膜状体を硬化させる工程を有するプロトン伝導性膜の製造方法。 （もっと読む）

【課題】反射率が極めて低く、良好な光線透過率、帯電防止性を有し、表面の耐擦傷性が特に優れる反射防止フィルム、およびそれを組み込んだ画像表示装置を提供する。
【解決手段】基材フィルムの片面に、ハードコート層、アクリル系樹脂および導電性金属酸化物微粒子を主成分とする高屈折率層および、シリカ系微粒子と均質化されているシロキサンポリマーを主成分とする低屈折率層の少なくとも３層が、ハードコート層、高屈折率層、低屈折率層の順で該基材フィルム上に積層されている反射防止フィルムであって、下記シロキサン化合物（１）と下記シロキサン化合物（２）からなる縮合体化合物が、該高屈折率層中に、該高屈折率層に対して０．００１〜２０質量％含まれている反射防止フィルム。 （もっと読む）

本発明の放射線硬化性組成物は、（ａ）成分：シロキサン樹脂と、（ｂ）成分：光酸発生剤又は光塩基発生剤と、（ｃ）成分：（ａ）成分を溶解可能であり、非プロトン性溶媒を含む溶媒とを含有してなるものである。 （もっと読む）

【課題】 基板と金属微粒子（特に金属ナノ粒子）との密着性を向上できる組成物を提供する。
【解決手段】 ポリシラン化合物と、還元により前記金属微粒子を生成可能な金属化合物（例えば、貴金属化合物）と、無機微粒子（シリカなど）とで前記組成物を構成する。前記ポリシラン化合物は、ポリシランと、金属化合物及び／又は金属微粒子に対する親和性を有するユニットを含むビニル単量体との共重合体であってもよい。このような組成物を基板に塗布し、活性エネルギー線を作用させてポリシラン化合物を分解させることにより、金属微粒子を生成できる。このような方法は種々の方法に応用でき、例えば、基板に、前記組成物を塗布し、露光して金属微粒子を生成させたのち現像して金属微粒子を含むパターンを形成し、無電解めっき処理することにより無電解めっきパターンを形成することもできる。 （もっと読む）

【課題】液相プロセスを用いて、均一な膜厚の膜を形成することができる高次シラン組成物、かかる高次シラン組成物を用いる膜付基板の製造方法、膜付基板を備える電気光学装置および電子デバイスを提供すること。
に関するものである。
【解決手段】高次シラン組成物は、高次シラン化合物と、液体状のシラン化合物と、該シラン化合物より沸点（常圧）の高い溶媒とを含有する。溶媒の沸点は、シラン化合物の沸点（常圧）をＡ［℃］とし、溶媒の沸点（常圧）をＢ［℃］としたとき、Ｂ−Ａが１０以上なる関係を満足するのが好ましい。このような高次シラン組成物は、例えば光重合性を有するシラン化合物と、溶媒を混合し、シラン化合物の一部が重合して高次シラン化合物に変化し、他の一部が未反応物として残存するような線量で紫外線を照射することによって調製することができる。 （もっと読む）

【課題】信号の処理速度向上が得られる層間絶縁膜として好適な誘電率が小さな材料を提供する。
【解決手段】化学気相成長方法により基板上に膜を形成する方法であって、 （ｉ−Ｃ₃Ｈ₇）₂Ｓｉ（ＯＣＨ₃）₂を供給する供給工程と、 前記供給工程で供給された（ｉ−Ｃ₃Ｈ₇）₂Ｓｉ（ＯＣＨ₃）₂の分解による分解生成物が前記基板上に堆積する堆積工程とを具備する。 （もっと読む）

【課題】波長純度の高い紫外光を得ることのできるＥＬ素子及びレーザ発光素子を提供する。
【解決手段】ポリシラン又はオリゴシラン等、Ｓｉ，Ｇｅ，Ｓｎ，Ｐｂから選ばれた同種又は異種の元素が直接連結したポリマー又はオリゴマーからなる薄膜を発光層１３として透明電極１２と上部電極１４の間に配置してＥＬ素子１０を構成する。発光層としてポリ−ジ−ｎ−ヘキシルポリシリレン（ＰＤＨＳ）を用いた場合、両電極１２，１４間に直流電圧を印加することで約３７０ｎｍに鋭いピークを有するＥＬスペクトルが得られる。 （もっと読む）

【課題】 露光量が比較的少なくても、パターン精度に優れた硬化物が得られる放射線硬化性組成物、その保存方法、硬化膜形成方法及びパターン形成方法を提供する。
【解決手段】 本発明の放射線硬化性組成物は、（ａ）成分：
Ｒ^１_ｎＳｉＸ_４−ｎ
（Ｒ^１は、Ｈ若しくはＦ原子、又はＢ、Ｎ、Ａｌ、Ｐ、Ｓｉ、Ｇｅ若しくはＴｉ原子を含む基又は有機基を示し、Ｘは加水分解性基を示し、ｎは０〜２の整数を示す。）
で表される化合物、その化合物の多量体、及び／又はその化合物の部分縮合物を必須成分としてを加水分解縮合して得られ、Ｓｉ原子１モルに対する、Ｓｉ原子に結合しているＨ、Ｆ、Ｂ、Ｎ、Ａｌ、Ｐ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｔｉ及びＣ原子からなる群より選ばれる少なくとも一種の原子の総含有割合が０．９０〜０．２０である樹脂を含むシロキサン樹脂、（ｂ）成分：光酸発生剤又は光塩基発生剤、及び（ｃ）成分：非プロトン性溶媒を含む溶媒を含有する。 （もっと読む）