【課題】絶縁性の基板を吸着できる吸着装置を提供する。
【解決手段】表面が絶縁されている基体１０上に第１、第２の電極１１、１２を露出して設け、絶縁性の基板が第１、第２の電極表面に接触するか、非常に近接して配置されるようにする。第１、第２の電極間には、空間変化率の大きな電場が形成されるので、グラディエント力により、基板７は吸着装置１表面に吸着される。グラディエント力の大きさは電場の変化率の大きさに依存しているので、第１、第２の電極１１、１２間に電圧を印加し、１．０×１０⁶Ｖ／ｍ以上の電場を形成するとよい。 （もっと読む）

【課題】上基板ワーク、下基板ワークを保持又は支持する保持面及び又は支持面の面粗度や相対平行度が低い場合においても、相互の擦れの発生や接触圧力による内部応力の発生を生起することのないアライメント装置を提供すること。
【解決手段】上基板ワークＷ１を保持可能な保持装置２０１と、保持装置２０１の下方に配置され、下基板ワークＷ２を上基板ワークＷ１に対して略平行に支持可能な支持装置３００とを有し、保持面２３３と支持面３１０とを互いの平面方向であるｘｙ平面方向内で相対的に移動可能に構成することにより、保持装置２０１及び／又は支持装置３００をｘ軸方向及びｙ軸方向の相対的移動を行い、上基板ワークＷ１及び下基板ワークＷ２の相対位置合わせを行うアライメント装置である。保持装置２０１は、上基板ワークＷ１を保持面２３３に対して離間した浮上状態で保持可能である。 （もっと読む）

【課題】複数の磁気記録媒体を生産性良く製造でき、磁気記録媒体の面内での電磁変換特性のバラツキが少なく、また製造歩留まりの高い磁気記録媒体の製造方法を提供すること。
【解決手段】（１）基板上に、ターゲットを用いてスパッタリング法により、薄膜を形成する磁気記録媒体の製造方法において、スパッタリング中に円環状侵蝕領域が形成されるターゲットと複数枚の基板を載置した基板ホルダーとを中心軸を一致させて平行に対向配置する。そして円環状侵蝕領域の最深部のターゲット中心からの距離をＲ１、円環状侵蝕侵蝕領域の最内周のターゲット中心からの距離をＲ２、基板外径端の基板ホルダー中心からの最長距離をＲ３、最短距離をＲ４としたとき、Ｒ３／Ｒ１が１．１以下であり、かつＲ４がＲ２以上である位置に基板を基板ホルダーに配置して薄膜を形成することを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。 （もっと読む）

【課題】絶縁性の基板を吸着できる吸着装置を提供する。
【解決手段】表面が絶縁されている基体１０上に第１、第２の電極１１、１２を露出して設け、絶縁性の基板７が第１、第２の電極１１、１２表面に接触するか、非常に近接して配置されるようにする。第１、第２の電極１１、１２間には、空間変化率の大きな電場が形成されるので、グラディエント力により、基板７は吸着装置１表面に吸着される。グラディエント力の大きさは電場の変化率の大きさに依存しているので、第１、第２の電極１１、１２間に電圧を印加し、１．０×１０⁶Ｖ／ｍ以上の電場を形成するとよい。 （もっと読む）