【課題】静電チャックの基板吸着面にパーティクルが付着することを抑制できるようにした多元スパッタリング装置を提供する。
【解決手段】本発明の多元スパッタリング装置ＳＭは、真空チャンバ１と、この真空チャンバの底部に配置され、上面に基板Ｗを吸着する静電チャック３を有するステージ２と、この真空チャンバの上部に、静電チャックで吸着された基板に対してスパッタ粒子を斜入射させるように配置された少なくとも２個のスパッタリングカソードＣと、各スパッタリングカソードと基板との間を選択的に遮蔽する遮蔽手段４とを備える。静電チャックの上面が露出している場合に、当該静電チャックの上面を選択的に覆う保護板５を更に備える。 （もっと読む）

【課題】
本発明は、減圧雰囲気内で絶縁性のフィルムを連続的に繰り出し薄膜を蒸着する薄膜形成方法において、冷却ローラへ安定して直流電圧を印加し、フィルムを十分冷却することによってフィルムの熱変形を防止し薄膜を形成する方法を提供する。
【解決手段】
冷却ローラへ導入する冷却媒体の体積抵抗率が１ＭΩ・ｍ以上であって、＋２５℃から−３０℃までの範囲における動粘度が２００mm²／ｓ以下である液体を用いることにより、前記冷却ローラへ安定的に電圧を印加し、前記フィルムを前記冷却ローラへ静電引力で密着させて成膜することを特徴とする薄膜形成方法。 （もっと読む）

【課題】有機層蒸着装置及びこれを用いる有機発光表示装置の製造方法を提供する。
【解決手段】被蒸着用基板を固定させる静電チャックと、真空に維持されるチャンバ及びチャンバの内部に配されて静電チャックに固定された基板に薄膜を蒸着する薄膜蒸着アセンブリーを備える蒸着部と、基板が固定された静電チャックを蒸着部内に移動させる第１循環部と、を備え、第１循環部は、蒸着部を通過する時にチャンバ内部に貫通し、第１循環部は、静電チャックが一方向に移動可能に静電チャックを収容する収容部を備えるガイド部を備える有機層蒸着装置及びこれを用いる有機発光表示装置の製造方法。 （もっと読む）

【課題】コンタクトホール内に良好にＡｌ膜が埋設されたコンタクトプラグを有する半導体装置を提供する。
【解決手段】半導体装置の製造方法は、基板の層間絶縁膜内にコンタクトホールを形成する工程と、基板を加熱した状態でコンタクトプラグを形成する工程を有する。コンタクトプラグを形成する工程では、スパッタ装置のチャンバー内のステージ上に、チャックを介して基板を保持し、チャックに印加するＥＳＣ電圧を第一の電圧、第二の電圧、第三の電圧と、この順に３段階のステップ状に増加させる。チャンバー内のターゲットに対して第一のターゲット電力を印加してコンタクトホール内に第一のＡｌ膜を成膜する。次に、チャンバー内のターゲットに対して第一のターゲット電力よりも高い第二のターゲット電力を印加して第一のＡｌ膜上に第二のＡｌ膜を成膜する。 （もっと読む）

【課題】プラズマを用いて被処理基板に対してプラズマ処理を行なうプラズマ処理装置において、被処理基板載置部材の上に載置された被処理基板に傷が付くことを抑制する。
【解決手段】被処理基板１００に対してプラズマ処理を行なうプラズマ処理装置１Ａは、被処理基板載置部材５と、被処理基板載置部材５の表面５ａ上に設けられ、被処理基板載置部材５の上に載置された被処理基板１００を上方支持することによって、被処理基板１００と被処理基板載置部材５との間に隙間Ｓを形成する支持部材４と、被処理基板１００に面するようにプラズマを生成することによって、被処理基板１００にプラズマ処理を行なうプラズマ生成部と、を備える。 （もっと読む）

【課題】筒状体の内周面への成膜に適したものであって、かつγ電子によるダメージを抑制することができる成膜装置および成膜方法を提供する。
【解決手段】ターゲットホルダ９は、スパッタ膜の材料としてのターゲット８を保持するためのものであって、相対的に負電位が印加されるように構成されている。筒状体ホルダ２は、筒状体１を保持するためのものであって、相対的に正電位が印加されるように構成された導電部２ｂを有する。導電部２ｂは、筒状体１が筒状体ホルダ２に保持された状態において筒状体１の内部空間へ露出するように構成されている。 （もっと読む）

【課題】被処理基板を加熱してトレンチやホールの間口部のオーバーハングを抑制しつつ金属膜を成膜するとともに、成膜後に速やかに被処理基板の温度を低下させることができる成膜方法を提供すること。
【解決手段】載置台を低温に保持して、載置台上に被処理基板を吸着させずに載置する工程と、プラズマ生成ガスのプラズマを生成し、載置台に高周波バイアスを印加した状態で、被処理基板にプラズマ生成ガスのイオンを引きこんで被処理基板を予備加熱する工程と、ターゲットに電圧を印加して金属粒子を放出させ、プラズマ生成ガスのイオンとともにイオン化した金属イオンを被処理基板に引きこんで金属膜を形成する工程と、被処理基板を低温に保持された載置台に吸着させ、載置台と被処理基板との間に伝熱ガスを供給して被処理基板を冷却する工程とを有する。 （もっと読む）

【課題】薄い基材上に厚いアルミニウムを被着させても基材が撓むことのない被着方法を提供する。
【解決手段】基材を静電チャック上に配置し、静電チャックにバイアスを印加しない状態でアルミニウムの第１層を被着させ、次に静電チャックにバイアスを印加して基材を支持体に密着し、そして第１層より厚いアルミニウムの第２層を２２℃未満の基材温度で第１層に連続して被着させる。 （もっと読む）

【課題】微細な物体を位置決めして保持する。
【解決手段】電磁チャックが、複数のマイクロコイルＭＣのうちの特定のマイクロコイルに電流を供給し、物体Ｍの磁石と協働して物体Ｍに電磁力を作用させるので、物体Ｍをベース面上の所望の位置（電流を供給したマイクロコイルに対応する位置）に位置決めした状態で保持することができる。また、気体供給路４２から噴出される気体により、物体Ｍに対して浮上力が与えられるので、物体Ｍを位置決めする際に物体Ｍと電磁チャック上面との間に作用する摩擦力の影響を低減することができる。 （もっと読む）

【課題】大型基板の量産工程にさらに適しており、高精細のパターニングを可能にする有機層蒸着装置及びこれを利用した有機発光ディスプレイ装置の製造方法を提供する。
【解決手段】基板上に有機層を形成するための有機層蒸着装置において、基板と結合して基板を固定させ、基板の載置面が所定の曲率を持つように形成される静電チャック；基板側に蒸着物質を放射する蒸着源；蒸着源の一側に配置され、第１方向に沿って複数の蒸着源ノズルが形成される蒸着源ノズル部；蒸着源ノズル部と対向して配置され、第１方向に対して垂直の第２方向に沿って複数のパターニングスリットが形成され、第２方向と、第１方向及び第２方向に対して垂直の第３方向とが形成する平面上での断面が一定に曲げられるように形成されるパターニングスリットシート；を備える有機層蒸着装置。 （もっと読む）

【課題】安定した電気的特性と高い信頼性を有する半導体装置を実現する成膜装置を提供することを課題の一とする。また、マザーガラスのような大きな基板を用いて、信頼性の高い半導体装置の大量生産を行うことの出来る成膜装置を提供することを課題の一とする。また、上記成膜装置を用いて安定した電気的特性と高い信頼性を有する半導体装置の作製方法を提供することを課題の一とする。
【解決手段】基板の搬送機構と、搬送機構が送る基板の進行方向に沿って、酸化物半導体を成膜する第１の成膜室と、第１の熱処理を行う第１の加熱室とを有し、基板は、該基板の成膜面と鉛直方向との成す角が１°以上３０°以内に収まるよう保持され、大気に曝すことなく、基板に第１の膜を成膜した後に第１の熱処理を施すことのできる成膜装置を用いて、酸化物半導体層を形成する。 （もっと読む）

【課題】特に真空処理装置において、被処理体を破損することなく略均一に被処理体を加熱できるようにした被処理体の加熱冷却方法を提供する
【解決手段】基板ステージ２に設けた正負一対の吸着電極１４ａ乃至１４ｄ間に所定の電圧を印加して基板Ｗを静電吸着し、基板ステージ２に組み込んだ加熱手段または冷却手段により基板を所定の温度に加熱または冷却する。基板の温度が所定の温度に達するまでの間に、この吸着電極の印加電圧を三角パルス状に変化させ、この印加電圧が低くなるときに吸着電極と被処理体とを実質的に縁切りする。 （もっと読む）

【課題】生産性を落とすことなくガラス基板を効果的に冷却することで蒸着処理時の有機層の変質・劣化を防止し、これにより高品質の有機層を形成する。
【解決手段】ガラス基板７の一方の面７ａの側に一又は複数の層を形成するに際し、層は有機層４を有すると共に、層における少なくとも一種の層が蒸着処理により形成され、蒸着処理時、ガラス基板７の他方の面７ｂにガラス基板７を冷却するための冷却板１５の一方の面１５ａを直に面接触させることとし、かつ、この面接触により、各々の合わせ面７ｂ，１５ａが剥離可能な程度に密着した状態となるようにした。 （もっと読む）

【課題】基板ホルダの基板以外の領域の表面に成膜材料が付着するのを防止することができ、基板上に成膜される膜の品質及び生産性を向上させることができるスパッタリング装置を提供する
【解決手段】真空排気可能な真空容器１と、真空容器１の内部に配設され、基板８をその処理面を下方へ臨ませて保持する保持機構３０、３１を備えた基板ホルダ４０と、基板ホルダ４０の直下に基板８に対向させて配置され、放電用電力が供給されるカソード電極１０と、カソード電極１０の基板側に支持されたターゲット１６と、を備え、基板ホルダ４０は、基板以外の領域の表面温度を基板８上に成膜する成膜材料の分解または蒸発温度以上に加熱する加熱機構６０、６１を有する。 （もっと読む）

【課題】マスクフレームを備えない単体のマスクを基板上に搬送し、又は基板に対するマスクの位置調整を行うべく、マスクを皺無く保持することができるマスク保持装置を提供する。
【解決手段】磁性材料を含み、基板上に薄膜をパターン形成するための開口が形成されたシート状のマスクを保持するマスク保持・位置あわせ装置５に、一面側に配された複数の永久磁石によって、他面側にマスクが磁着されるマスク磁着板５４を備え、前記複数の永久磁石は、マスク磁着板５４の他面側における第１領域の磁場の分布と、該他面側における第２領域の磁場の分布とが異なるように構成する。 （もっと読む）

【課題】基板を一方的にマスクに押し付けても基板とマスクを十分に密着させることができない。静電吸着により基板とマスクの双方を引き合わせることで、基板とマスクを十分に密着させて真空成膜（蒸着、スパッタリング等）を行うことにより、パターン精度の高い表示パネルを提供する。
【解決手段】１または複数の表示パネル用回路が形成される基板４２０とマスク５２０とを重ねて配置し、当該基板が前記マスクに静電吸着するように、当該マスクに電圧を印加し、当該基板に当該マスクを介して真空成膜する。 （もっと読む）

【課題】蒸着装置において、ドーム外周側に設置された光学レンズに対しても膜特性を安定させることを目的とする。
【解決手段】本発明は、第１面及び第２面を有する光学レンズに膜を蒸着させる膜蒸着装置に関する。蒸着装置は、膜を形成するための蒸着材料を噴射する蒸着源と、複数のレンズを設置可能な複数のレンズパレットと、前記蒸着源の噴射方向に位置し、前記蒸着源の噴射を基準とした所定の傾斜を有し、前記複数のレンズパレットを設置可能なドームと、を備え、前記ドームは、前記設置されたレンズパレットを反転可能であり、 前記光学レンズの第１面が前記蒸着源側に配置された場合において、前記噴射対象として外周側に位置する第１パレットが、前記噴射対象として中心側に位置する第２パレットと比べて、前記所定の傾斜を基準にして、外周側の端部が中心側の端部よりも蒸着源側に位置するように構成される。 （もっと読む）

【課題】熱拡散器を用いた物理蒸着装置及び方法を提供する。
【解決手段】物理蒸着装置は、側壁を有する真空チャンバと、真空チャンバの内側にあって、スパッタリングターゲットを含むように構成されたカソードと、カソードに電力を供給するように構成された高周波電力源と、真空チャンバの側壁の内側にあって、側壁と電気的に接続されたアノードと、真空チャンバの側壁の内側にあって、側壁から電気的に絶縁されていて、基板１１６を支持するように構成されたチャック１１０と、チャック上に支持された基板を加熱するヒータ６０１と、を含む。チャックは、チャック本体６０５と、チャック本体上に支持されていて、基板と接触するように構成された、黒鉛熱拡散器と、を含む。 （もっと読む）

本願は、第１基材上の収容溝に補助体を挿入して、前記補助体の第１表面は、前記収容溝に収容され、前記補助体の第２表面は、外部に露出させるステップ、前記第２表面に第１コーティング層を形成するステップ、前記第１コーティング層が形成された補助体と第２基材とを付着するステップ、前記第２基材に付着した前記第１コーティング層が形成された補助体を前記第１基材から分離して、前記第１コーティング層が形成された補助体の第１表面を外部に露出させるステップ、前記第１表面上に第２コーティング層を形成するステップ、及び前記第１コーティング層と前記第２コーティング層とが形成された補助体を前記第２基材から分離するステップを含む粒子の製造方法及びこれによって製造される粒子を提供する。 （もっと読む）

【課題】機能性微粒子の純度を高めつつ、機能性微粒子を含む機能膜を基材の表面に安定して形成すること。
【解決手段】開放型で不活性ガスを用いて雰囲気制御を行うヘッド２４を用いて、液中の機能性微粒子４をミストジェット技術にて所望の分布で基板３上に吐出させる工程と、その後に大気圧プラズマ化学輸送法により薄膜８を成膜させる工程とを交互に繰り返す。 （もっと読む）