【課題】比重の異なる酸化物系セラミックと重金属の粉末を物理的に混合してなるサーメット溶射用粉末材料を用いて溶射皮膜を形成すると、セラミックと金属とが不均等な状態で溶射皮膜中に分布するため、サーメット溶射皮膜としての機能を十分発揮することができない。
【解決手段】酸化物系セラミック粒子の表面に、無電解めっき法によってＮｉまたはＮｉ−Ｐ、Ｎｉ−Ｂ合金のめっき膜を０．３〜５μｍの厚さで被覆した非混合形サーメット粉末をつくり、このサーメット溶射用粉末材料を用いて溶射皮膜を形成することによって、該溶射皮膜を被成してなる部材の緻密性、密着性、耐摩耗性、耐プラズマ・エロージョン性などを向上させる。 （もっと読む）

【課題】安価であり、厳しい高温条件下においても伸縮性が高くかつ耐磨耗性を両立する溶射材料の提供する。
【解決手段】ＮｉＣｒ合金と、Ｃｒ₃Ｃ₂とを含み、造粒焼結法により粒子状に形成され、前記ＮｉＣｒ合金におけるＣｒ含有量が４０〜５０質量％である溶射材料。前記溶射材料は、Ｃｒ₃Ｃ₂を１００質量％とする場合のＮｉＣｒ合金の配合比が、２５〜３５質量％であるのが好ましい。また、基材の表面に、本発明の溶射材料を高速フレーム溶射することにより、前記基材上に溶射被膜を形成する方法も提供される。 （もっと読む）

【課題】鋳物や鋼で形成されたものと同等以上の表面強度を有し、軽量で熱伝導性の優れた伸線機用キャプスタンブロックを提供することである。
【解決手段】キャプスタンブロック２を形成する母材Ｍをジュラルミンとし、外周面の母材Ｍをプラズマアークで所定の深さまで溶融して、この外周面の母材Ｍの溶融部の下部に、母材Ｍよりも比重が大きいＷＣで形成された強化粒子４を重力によって沈降、堆積させ、この強化粒子４を堆積させた堆積層５の上側に、溶融した母材Ｍを浮揚させた浮揚層６を形成して、この母材Ｍの浮揚層６の表面を平滑化し、平滑化した浮揚層６の表面に溶射法による硬質皮膜７を形成した。 （もっと読む）

第２の成分Ｂと機械的に混合された第１の成分Ａを有する溶射粉末であって、第１の成分Ａが、金属若しくは金属複合材料、好ましくは、Ｎｉ−Ｃｒ−Ａｌで被覆されたＡＢＮ、Ｎｉ−Ｃｒ−Ａｌで被覆されたＨＢＮ、有機結合剤を含むＮｉ−Ｃｒ−Ａｌで被覆された凝集六方晶系窒化ホウ素粉末、無機結合剤を含むＮｉ−Ｃｒ−Ａｌ凝集六方晶系窒化ホウ素粉末、ＭがＮｉ、Ｃｏ、Ｆｅのうちの少なくとも１つであるＭＣｒＡｌＹ型粉末のうちの少なくとも１つであり、成分Ｂが、ニッケル、ニッケル合金、ニッケルクロム合金、ニッケルクロムアルミニウム合金、ニッケルアルミニウム合金、コバルト及びコバルト合金のうちの少なくとも１つで被覆されたポリマーである、溶射粉末。その結果は、４相混合物とする４つのはっきりと異なる相の溶射粉末である。
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本発明は内燃機関用の摺動部材に関する。摺動部材は、基材と、以下の成分比率を含む粉末を溶射することによって形成可能な被膜とを備える。
クロム（Ｃｒ）：５５〜７５ｗｔ％、
ケイ素（Ｓｉ）：３〜１０ｗｔ％、
ニッケル（Ｎｉ）：１８〜３５ｗｔ％、
モリブデン（Ｍｏ）：０．１〜２ｗｔ％、
カーボン（Ｃ）：０．１〜３ｗｔ％、
ホウ素（Ｂ）：０．５〜２ｗｔ％および
鉄（Ｆｅ）：０〜３ｗｔ％。
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【課題】窯炉を補修する際に、溶射補修に適用される溶射材料とその製造方法、及び溶射施工体において、溶射材料の化学組成を従来にはない構成とすることにより、溶射材料及び溶射施工体の耐用性を従来よりもさらに向上させ、窯炉の寿命延長を図る。
【解決手段】２５質量％以上４０質量％以下の黒鉛原料と、６０質量％以上７５質量％以下の酸化物原料とを、外掛けで１質量％以上３質量％以下のフェノール樹脂を結合材として用いて混合後、当該混合物を非酸化性雰囲気において９００℃以上の温度で３時間以上熱処理して得られた熱処理体を粉砕することにより得られ、１０μｍ以上１４０μｍ以下の粒度を有する溶射材料を用いる。 （もっと読む）

半導体処理装置に特殊セラミック材料を適用する方法であり、この特殊セラミック材料はハロゲン含有プラズマに耐性である。特殊セラミック材料は、少なくとも１種の酸化イットリウム含有固溶体を含有する。特殊セラミック材料の一部の実施形態は、半導体処理チャンバ内でのアーク放電の可能性を低下させる抵抗率を付与するように改質されている。
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【課題】 近年のコークス炉は、使用条件の過酷化や炉寿命の長期延命化といった要求があり、操業に支障をきたさないように溶射補修をする材料を開発するにある。
【解決手段】 耐火性粒子、金属粒子の混合物を酸素と共に高温の被補修体に吹き付け、金属粒子の酸化発熱反応により混合物を溶融させて被補修体に溶着させる溶射材料であって、上記耐火性粒子は２ｍｍ以下の粒子径で、ＳｉＯ₂ を６５重量％以下で、かつＡｌ₂ Ｏ₃ を３５〜７０重量％含む組成の原料を主成分とし、そのアルカリ成分（Ｎａ₂ Ｏ、Ｋ₂ Ｏ）が１重量％以下で、金属粒子は粒子径が１５０μｍ以下の金属シリコンを配合するものである。 （もっと読む）

本発明のピストンリングは平均粒径が５μｍ以下の炭化クロム粒子と、Ｎｉ−Ｃｒ合金又はＮｉ−Ｃｒ合金及びＮｉのマトリックス金属とからなる溶射皮膜を少なくとも外周摺動面に有し、前記溶射皮膜は平均孔径が１０μｍ以下の気孔を有するとともに気孔率が８体積％以下である。微細な組織を有する均質な溶射皮膜を形成することにより、耐摩耗性、耐焼付性及び耐剥離性に優れ、かつ相手材に対する攻撃性の低いピストンリングが得られる。
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