金属酸化物含有基板であって、ＦｅとＣｒとを含み、かつＮｉ、Ｍｏ、Ｍｎ、ＡｌおよびＳｉよりなる群から選ばれた少なくとも１種を含む合金と、前記合金を構成する金属元素の酸化物とを含み、ＣｕＫα線を用いて観測される前記基板の粉末Ｘ線回折パターンが、前記酸化物に帰属されるピークを少なくとも１つ有する、金属酸化物含有基板。 （もっと読む）

本発明は、水性で、薄膜を形成する、重合シロキサンを含む結合剤に関する。また、本発明は、前述の結合剤を使用して生成される塗膜組成物に関し、又、この塗膜組成物で塗装された製品に関する。 （もっと読む）

マスクなし中規模材料デポジション（Maskless Mesoscale Material Deposition, M³D^TM）処理のための方法および装置が開示され、これはエアロゾルを作るのに好ましくは超音波トランスデューサまたは圧縮空気噴霧器（２２）を用い、このエアロゾルは流入口（２０）を経由してフローヘッド（１２）に入り、その際に随意的に、ガス量を低減するため事実上のインパクタ（２４）ならびに溶剤を除去するまたは粘度を調整するためヒータアセンブリ（１８）の両方を、あるいはそのいずれかを経由するようにしてもよい。機械的シャッター（２８）のついた材料シャッターアセンブリ（２６）が好ましくはフローヘッドの出口についており、鞘状のガスが流入口（１８）を通って入り、エアロゾルがフローヘッドから出る前にそれを囲む。熱に弱いターゲットの上のエアロゾルデポジット材料は好ましくはレーザモジュール（１０）からのビームで処理し、これによってそのターゲットを損傷閾値以上に加熱することなく、たとえば化学分解、焼結、重合などにより希望の状態を得るためにデポジットした材料を加熱する。１ミクロンの線幅の形状をデポジットすることができる。 （もっと読む）

凝縮エアロゾルを生成するためのアセンブリおよび方法が開示される。本アセンブリは、耐酸化性外面（１４）を備える熱伝導性金属基材（１２）および上記外面上の薬物組成物フィルム（１８）を含んでおり、エアロゾルデバイスに使用される。上記フィルムおよび上記基材の表面の厚さは、上記薬物組成物を気化および凝縮させるステップによって形成されるエアロゾルが重量で１０％以下の薬物分解生成物および上記フィルム中の上記薬物組成物の総量の少なくとも５０％を含有するエアロゾルを提供するような厚さである。上記外面を処理するための方法には、熱処理および化学処理が含まれ、また保護膜の形成も含まれる。 （もっと読む）

式Ｍｎ_ｘＣｒ_３−ｘＯ_４（式中ｘは０．５から２である）のスピネル並びにＭｎＯ、ＭｎＳｉＯ_３、Ｍｎ_２ＳｉＯ_４及びそれらの混合物からなる群から選択されるＭｎ及びＳｉの酸化物を含み、コーキングし難く、分解用加熱炉チューブなどのヒドロカルビル反応に適した、１０から５０００ミクロンの厚さを有する複合材料表面。
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