【課題】アルミニウム材料の表面に陽極酸化皮膜形成工程とエッチング工程を繰返し行なって得られるテーパー構造を持つナノ構造体作製用型体において、その表面の場所による均一性を向上させることであり、更には、それから得られるナノ構造体の場所による均一性を向上させること。
【解決手段】アルミニウム材料の表面に、少なくともある一の方向に対し平均周期５０ｎｍ以上４００ｎｍ以下で、テーパー形状を有するポアを形成するように、該アルミニウム材料の表面を陽極酸化処理する工程と該陽極酸化皮膜をエッチング処理する工程を繰り返し行って、テーパー形状を形成する型体の製造方法であって、該陽極酸化皮膜形成工程又は該エッチング工程の直前に、該アルミニウム材料の処理面の温度を、該陽極酸化処理温度又はエッチング処理温度の±５℃の範囲に調整する工程を含むナノ構造体作製用型体の製造方法。 （もっと読む）

【課題】サブミリオーダーからナノレベルの微細な金属薄膜部品、特に形態がコイル状の金属薄膜部品を容易に製造できる方法を提供することを課題とした。
【解決手段】基板１上に単一もしくは複数の材料を積層して形成された金属薄膜２をフォトリソ法を適用して所望のパターン形状に形成した後、前記金属薄膜パターン５に対して高電圧を印加して、前記金属薄膜パターン５を基板１から剥離することを特徴とする薄膜金属部品の製造方法で、前記薄膜金属部品のスケールがサブミリオーダー程度以下、形状がコイル状あるいはカットワイヤーであることを特徴とする薄膜金属部品７の製造方法である。 （もっと読む）

【課題】ＥＵＶ光及び検査光において吸収体層での反射率を低減でき、ＥＵＶ光および検査光の両方において高コントラストな反射型フォトマスクを提供する。
【解決手段】基板１と基板１上に形成された反射体層２と、反射体層２上に形成された吸収体層３を持つＥＵＶマスクブランクにおいて、吸収体層３の表面に所定の大小二つの表面粗さの凹凸４を形成する。 （もっと読む）

【課題】黒欠陥を生じない設計図面通りの優れた寸法再現性を有する高精度の大型のディスプレイマスクが得られるエッチング液およびディスプレイマスクの製造方法を提供すること。
【解決手段】少なくとも硝酸第二セリウムアンモニウムと、過塩素酸とを含有するエッチング液において、一般式（１）で表される化合物（Ｍ）を含有することを特徴とするディスプレイマスク用エッチング液、および該エッチング液を使用してディスプレイマスク用基板をエッチングすることを特徴とするディスプレイマスクの製造方法。 （もっと読む）

【課題】 例えば、三次元微細構造体やμｍオーダ以下のパターンやバイナリー立体光学素子等の微細構造体を真空蒸着とエッチングのみで容易に形成することができる微細構造体製造方法を提供することにある。
【解決手段】 微細凹凸パターンを備えた構造体を該微細凹凸パターン側を真空蒸着源に指向させた状態で対向・配置させ、その際微細凹凸パターンの凹部の一部が蒸着されないように上記構造体を上記真空蒸着源に対して所定角度だけ傾斜させ、その状態で真空斜め蒸着を施して上記構造体の微細凹凸パターン側にエッチングマスクを堆積・設置させ、次いで、エッチングを行うことにより上記微細凹凸パターンよりもさらに細かな微細凹凸パターンを形成するようにしたもの。 （もっと読む）

【課題】インプリント法によるパターン転写時のサイドエッチング量を見込んで凸部パターンの幅を所望の通りに制御して形成できるとともに、離型剤を塗布したときに良好な離型性が得られるスタンパの製造方法を提供する。
【解決手段】凹凸を有する原盤の表面に導電層を形成し、前記導電層上に電鋳層を形成し、前記原盤から前記電鋳層および前記導電層を剥離して前記原盤の凹凸が転写されたスタンパを形成し、前記スタンパの表面に残留しているレジストを除去し、前記スタンパの表面をｐＨ３未満の酸性溶液でエッチングすることを特徴とするスタンパの製造方法。 （もっと読む）

【課題】本発明は、貫通孔を良好な形状に形成することができると共に、貫通孔を形成する際のエッチングによりキャビティの側面が粗化されることを防止できる基板の製造方法を提供することを課題とする。
【解決手段】キャビティ２２を形成する前にシリコン基板３１の面３１Ｂ側からシリコン基板３１を異方性エッチングして貫通孔２４を形成し、その後、貫通孔２４に露出された部分のシリコン基板３１の面及びシリコン基板３１の両面３１Ａ，３１Ｂに絶縁膜３５を形成し、その後、シリコン基板３１の面３１Ａに設けられた絶縁膜３５に開口部３５Ａを形成し、次いで、開口部３５Ａを有した絶縁膜３５をマスクとしてシリコン基板のエッチングを行い、少なくとも貫通孔２４の底面２４Ｂに設けられた部分の絶縁膜３５を露出するようにキャビティ２２を形成する。 （もっと読む）

【課題】黒色度が高く、遮光性に優れるだけでなく、耐熱性にも優れ、しかも、環境負荷が小さく、安価なコアシェル型銀錫複合粒子の製造方法及びコアシェル型銀錫複合粒子並びに黒色材料、黒色遮光膜、黒色粒子分散液を提供する。
【解決手段】本発明のコアシェル型銀錫複合粒子１は、平均粒子径が１ｎｍ以上かつ３００ｎｍ以下であり、錫を主成分としかつ核となる錫微粒子２が、銀、銀錫合金、銀及び銀錫合金のいずれか１種からなる微細孔を有する膜である外殻層３により被覆された構造である。 （もっと読む）

【課題】密着層を有する銀合金膜において、サイドエッチング幅を低減せしめ、所望の微細なパターニング加工を可能とする銀合金膜のエッチング方法を提供する。
【解決手段】リン酸イオン、硝酸イオン、酢酸イオン、及び純水を少なくとも含み、それらのイオンはリン酸、酢酸、リン酸塩、硝酸塩、酢酸塩のいずれかに由来するエッチング溶液を用い、基板上に密着層を介して配されてなる銀合金膜をエッチング処理する。 （もっと読む）

【課題】Ａ２０００系アルミニウム合金の低コストで有効な艶消し方法と、この艶消し方法を施したアルミニウム合金から製作した光学素子保持用光学部品、光学機器の光路周辺の構成部品、反射防止部材を提供する。
【解決手段】リン酸をベース組成に含む処理液を満たしたエッチング槽にＡ２０００系アルミニウム合金を浸漬して化学エッチングを行う。これにより、アルミニウム合金の表面について、表面粗さＲａ＝２．０〜４．０μｍとなる。ここで、エッチング後のアルミニウム合金表面の光沢度を光沢計で計測すると、およそＧ３を示しており、十分な艶消し効果が得られている。レンズ保持枠などの光学素子保持用光学部品は、フレアの抑制など、光学性能を維持するために反射防止処理を施す必要があることから、Ａ２０００系アルミニウム合金にこの艶消し処理を施したものから製作することで、反射防止性能に加えて強度をもたせることができる。 （もっと読む）

【課題】金属線または間隔のクリティカルディメンションを実質上変化させることなく、所望量の金属を除去するエッチング工程が必要とされている。
【解決手段】エッチングレジストとエッチング後の金属残渣を単一工程で除去する、光学ディスプレーデバイスの製造方法が提供される。これらの方法はＬＣＤの製造に特に有用である。 （もっと読む）

【課題】ガラス基板等を高精度でエッチングでき、メンテナンスの必要性を低減できるエッチング方法およびエッチング装置を提供することを目的とする。
【解決手段】被処理部材をエッチング液に浸漬させてエッチング処理を行うエッチング槽１０からエッチング液を取り出して循環させる循環ライン３０を形成する。そして、循環ライン３０を流れるエッチング液を、浸漬膜２１を備える濾過槽２０内に導いて、浸漬膜２１による吸引濾過を行い、ＳＳが除去された濾液を循環ライン３０に戻す。 （もっと読む）

【課題】透光性基板上に、半透光性膜と、遮光性膜とが順次形成されたマスクブランクか
ら、前記遮光性膜及び前記半透光性膜をパターニングして、フォトマスクを製造するフォ
トマスクの製造方法において、前記半透光性膜のウエットエッチングに伴って発生するガ
スによる前記半透光性膜及び／又は前記遮光性膜のパターン欠陥を防止できる、フォトマ
スクの製造方法を提供する。
【解決手段】透光性基板上に、露光光に対する透過量を調整する機能を有し、金属及び珪
素を含む材料からなる半透光性膜と、露光光を遮光する遮光性膜とが順次形成されたマス
クブランクから、前記遮光性膜及び前記半透光性膜をパターニングして、フォトマスクを
製造するフォトマスクの製造方法であって、
前記半透光性膜のパターニングは、弗化水素酸、珪弗化水素酸、弗化水素アンモニウム
から選ばれる少なくとも一つの弗素化合物と、過酸化水素、硝酸、硫酸から選ばれる少な
くとも一つの酸化剤とを含むエッチング液を用いたウエットエッチングによって行われ、
前記エッチング液は、該エッチング液中の前記弗素化合物と前記酸化剤のモル比を、ウ
エットエッチングに伴って発生するガスによるパターン欠陥を防止するモル比に設定した
エッチング液とすることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】エッチング精度が優れ、ガラス基板に白濁の発生がないブラックマトリックスが得られ、エッチングの際にエッチング液の消耗が少ないエッチング液およびブラックマトリックスの製造方法を提供すること。
【解決手段】硝酸第二セリウムアンモニウム（ａ成分）と、過塩素酸および／または硝酸（ｂ成分）と、界面活性剤とを含み、該界面活性剤が、直鎖のフッ化炭素基を有するパーフルオロアルキルスルホン酸塩６０質量％〜８２質量％と、分岐鎖のフッ化炭素基を有するパーフルオロアルキルスルホン酸塩１８質量％〜４０質量％との混合物（ｃ成分）であることを特徴とするブラックマトリックス製造用のエッチング液、および該エッチング液を使用したブラックマトリックスの製造方法。 （もっと読む）

【課題】アルミニウムを含む材料のウエットエッチングに適したエッチング液、エッチング方法、及び対向基板の製造方法等を提供する。
【解決手段】アルミニウムを含む材料のエッチング液であって、
前記エッチング液は、フッ化水素アンモニウムと過酸化水素と水を含む溶液からなることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】透明基板上に形成されたパターン化フィルムスタックを含む位相シフトフォトマスク及びフォトマスクを製造する方法が開示されている。
【解決手段】一実施形態において、フィルムスタックは、リソグラフィーシステムの照明光源の光に対して所定値の透明度を有する第１の層と、その光に実質的に透明でその光における所定の位相シフトを促す第２の層とを含む。 （もっと読む）

【課題】 被加工物の表面が目的のプロファイルになるように該表面をエッチングする表面加工方法を提供する。
【解決手段】 まず、被加工物１の表面の加工前のプロファイルを測定する。次に、複数のノズル（供給手段）１２からこの表面に向けて所定の流量でエッチング液を供給しつつ、これらノズル１２の集合体１１をこの表面に沿って移動させる。その際、各ノズル１２から供給されるエッチング液の温度及びノズル集合体１１の移動速度を、被加工物表面上の各位置において目的プロファイルと加工前プロファイルの差から求めた加工深さにより定まる値になるように制御する。これにより、被加工物の表面を目的のプロファイルにすることができる。 （もっと読む）

【課題】 エッチング反応によって生じた不純物を効果的に処理することを特徴とする湿式エッチング処理方法、及びそれを実施するエッチングシステムを提供すること
【解決手段】 ＬＣＤガラス基板４０をエッチングするシステムを、エッチング槽１１、エッチング反応で生じた不純物３を含むエッチング排液２を取り出すエッチング液排出管１２、一次反応沈澱槽１４、二次反応沈澱槽１６、不純物３が一部除去された上澄み液７と、新しく追加される未使用のエッチング液８とからエッチング液９を調製するための調合槽１８などで構成する。そして、エッチング槽１１、エッチング液排出管１２、一次反応沈澱槽１４、および二次反応沈澱槽１６の全部または一部に噴射手段３２〜３５を設け、不純物除去流体３１をエッチング液１またはエッチング排液２に噴射して、これらから不純物３が沈殿する反応を誘起する。 （もっと読む）

【課題】 加工対象物に供与する液体の性状に関わらず、特別な装置又は器具等を用いずに、加工対象物を加工し得る方法の提供。
【解決手段】 本発明は、加工対象物上に、液体を配置する第１工程と、前記液体に気体を溶解させ、当該液体を変質させて、前記加工対象物を当該変質後の液体により加工する第２工程とを含む加工方法により、上記課題を解決する。また、前記第１工程が、インクジェット法により前記液体を配置する工程であることが好ましい。 （もっと読む）