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Fターム[4M112CA35]の内容

圧力センサ (26,807) | 素子の構造 (8,535) | ビーム(梁)型、重錘型素子 (4,892) | 素子の基体への取付け (128)

Fターム[4M112CA35]に分類される特許

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【課題】固定電極に備えたシリコン接触部と可動電極とが、それらの接触する部分において、固着を低減させるMEMSデバイスを提供する。
【解決手段】シリコン接触部14は、Rを有する凸状に形成され、可動電極5は、シリコン接触部14との対向面にR形状を有する凸部13を備える。これら、可動電極5と絶縁基板20は、シリコン接触部14および凸部13を介して接触し、シリコン接触部14と凸部13とは、それらが接触する点における法線の向きと点における離れる力の向きとが異なる。 (もっと読む)


【課題】 特に、動作空間を囲む枠体と対向基板とを接合する金属接合部の腐食を防止しやすい構造のMEMSセンサ及びその製造方法を提供することを目的としている。
【解決手段】 機能層10には、動作領域15と外部領域16とを区画する枠体14とが形成される。前記枠体14と支持基板1間は第1の絶縁層3aを介して接合される。枠体と配線基板との間には、枠体の外周側面から内側に向けて延出する横方向溝部18が形成される。また横方向溝部よりも内側では傾斜側面14fを介して前記横方向溝部18での間隔よりも近接する前記枠体と前記第2の部材との対向面間が動作領域の全周を囲む金属接合部30aを介して接合されている。傾斜側面14fの傾き角度θ1は、鈍角である。そして横方向溝部18内にて現れる金属接合部30aの外周表面が保護絶縁層41により覆われている。 (もっと読む)


【課題】製造効率の低下を抑制した機能素子、機能素子の製造方法、電子機器を提供する。
【解決手段】主面16を有する基板12と、前記主面12上に配置された溝部(第1の溝部24、第2の溝部26)と、前記基板12上の前記溝部を跨いで配置された固定素子部(第1の固定電極指78、第2の固定電極指80)と、を有し、前記溝部の内部には、前記固定素子部に平面視で重複する位置に前記基板および前記固定素子部の少なくとも一方を用いて形成された凸部54、56が設けられ、前記凸部54、56は接合面(端面82)を有し、該接合面側に配線(第1の配線30、第2の配線36)が配置され、前記配線を介して前記基板12と前記固定素子部とが接続されたことを特徴とする機能素子。 (もっと読む)


【課題】放電防止用の配線部の切断に伴う不具合の発生を抑制する。
【解決手段】センサチップ1の上面に絶縁材料製の保護壁12が形成されている。また保護壁12の一部である第1保護壁120は、放電防止用配線部25,26と可動電極4A,4Bを導通させる導電部11を放電防止用配線部25,26と隔てる位置に起立している。故に、放電防止用配線部25,26の切断部分Xの金属材料Yは、保護壁12に遮られることで広い範囲に飛散しないので、不要な箇所(導電部11)への付着が抑制される。その結果、放電防止用配線部25,26の切断に伴う不具合の発生を抑制することができる。 (もっと読む)


【課題】樹脂封止型の半導体装置の信頼性低下を抑制する。
【解決手段】キャップ(部材)2とキャビティ部(空間形成部)5dを備えるキャップ(部材)5を重ね合わせて接合することで、密封された空間8が形成され、空間8内にセンサチップ(半導体チップ)1および複数のワイヤ4を配置する半導体装置を以下のように製造する。キャップ2とキャップ5の接合部を封止する封止工程において、キャップ5の上面5a全体と、キャップ2の下面2b全体がそれぞれ露出するように樹脂から成る封止体9を形成する。これにより、封止工程において、キャップ5を押し潰す方向に作用する圧力を低減することができる。 (もっと読む)


【課題】第1収容空間に異物が導入されることを抑制することができる加速度角速度センサ装置の製造方法を提供する。
【解決手段】
加速度検出部1および角速度検出部2が形成されたセンサ部10と蓋部20とを用意する準備工程と、センサ部10と蓋部20とを減圧空間で接合し、加速度検出部1および加熱されることによりガスを放出するガス放出材24a、50を第1収容空間3に収容すると共に、角速度検出部2を第2収容空間4に収容する接合工程と、ガス放出材24a、50からガスを放出させることにより、第1収容空間3の圧力を第2収容空間4の圧力より高くする内圧変動工程とを行う。 (もっと読む)


【課題】製造効率の低下を抑制した機能素子、機能素子の製造方法、物理量センサー及び電子機器を提供する。
【解決手段】第1基板12と、前記第1基板12上に設けられ、且つ、素子部を有する第2基板50と、を備え、前記第1基板12と前記第2基板50との間には内部空間68が設けられ、前記第1基板12および前記第2基板50の互いに対向する面の少なくとも一方には、前記内部空間68と外部とを連通する排気溝24が設けられていることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】 特に、押圧部材と当接する受圧部表面の耐摩耗性を向上させた荷重センサを提供することを目的とする。
【解決手段】 本実施形態における荷重センサ1は、荷重を受けて厚さ方向に変位可能な変位部4と、前記変位部4での変位量を検出可能な素子部(ピエゾ抵抗素子6)と、を有し、前記変位部4の荷重を受ける側の面から突出するシリコンからなる突起部5と突起部5の表面5aに成膜された無機絶縁層30とからなる受圧部17が設けられていることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】本発明は、1つの加速度センサ素子で広範囲の加速度を検出できる加速度センサを提供することを目的とする。
【解決手段】本発明に係る加速度センサは、第一の梁31で保持され加速度により変位可能な第一の質量体21と、第一の質量体21の変位を電気量に変換可能に配置された固定電極51,52と、第一の質量体21の変位が所定の範囲を超えたときに、第一の質量体21の変位容易度に変化をもたらす変位容易度変化部材22,32,8,9とを、備えている。 (もっと読む)


【課題】外部応力による支持梁等の座屈を防止し、温度変化による出力変動を解消する。
【解決手段】SOIウエハ10の第2のシリコン層13によって固定部41と、支持梁42を介して固定部41に支持されて変位可能とされた可動電極43と、可動電極43を囲む上部フレーム44を形成し、第1のシリコン層11によって固定電極45,46と、固定電極45,46を溝48を介して囲む下部フレーム47を形成する。可動電極43は電極部43aを備え、固定電極45,46は下部フレーム47の対向2辺に沿う連結部45a,45b,46a,46bと、それら連結部間に形成された電極部45c,46cと、連結部間に支持された搭載部45e,46eを備える。固定部41は酸化膜12を介して搭載部45e,46eと接合され、下部フレーム47、連結部は酸化膜12を介して上部フレーム44と接合される。下部フレーム47を基板実装時の接着固定箇所とする。 (もっと読む)


【課題】MEMS素子の耐衝撃性、気密性、信頼性を向上させ、低背化することができるMEMSデバイス及びその製造方法を提供する。
【解決手段】固定部、固定部に対して変位する可動部、及び固定部に配置された端子を有するMEMS素子と、可動部に対向して配置され、貫通電極を有する貫通電極基板と、端子及び貫通電極との間に配置され、端子及び貫通電極を電気的に接続する導電性部材と、少なくとも導電性部材の配置位置の周囲の一部に導電性部材と接して配置された樹脂層、を備え、導電性部材及び樹脂層の高さは、それぞれ、可動部の変位を貫通電極基板で規制する高さであり、導電性部材及び/又は樹脂層は、可動部と前記貫通電極基板とを封止することを特徴とするMEMSデバイス。 (もっと読む)


【課題】ヒンジが熱応力の影響を受けないようにし、温度特性の向上を図る。
【解決手段】方形状の縁部24を有する可動部21が、可動部21の内側に位置して可動部21と同一材料で形成されたヒンジ22により支持され、入力加速度に応じて可動部21が変位する加速度センサにおいて、ヒンジ22は縁部24の一辺24aと平行に延伸されて一直線上に位置された一対のヒンジ22よりなり、一対のヒンジ22の各一端は縁部の対向二辺24b,24cにそれぞれ連結され、一対のヒンジ22の各他端はヒンジ22と同一材料で形成された枠部31及び接続部32を介して固定部23に支持される。枠部31は固定部23のまわりに位置し、接続部32によって固定部23と連結され、接続部32はヒンジ22の延伸方向と直交する方向に設けられる。 (もっと読む)


【課題】高感度化、製造効率の改善、低コスト化、高信頼性化の少なくとも1つを実現した機能素子、機能素子の製造方法、物理量センサー、および、この物理量センサーを備える電子機器を提供すること。
【解決手段】本発明の機能素子1は、絶縁基板2と、可動部33と、可動部33に設けられた可動電極指361〜365と、絶縁基板2上に設けられ、且つ、可動電極指361〜365に対向して配置された固定電極指381〜388と、を含み、固定電極指381〜388は、可動電極指361〜365の一方の側に配置された第1固定電極指382、384、386、388と、他方の側に配置された第2固定電極指381、383、385、387と、を含み、第1固定電極指と第2固定電極指とは、互いに離間して配置されている。 (もっと読む)


【課題】本発明は、MEMS素子をパッケージ化する際、パッケージ全体の厚さを小さくし、MEMS素子に及ぼされる基板とICとの熱膨張係数の違いによる反りによって生じる応力の影響を緩和するMEMSデバイス及びその製造方法を提供する。
【手段】本発明のMEMSデバイスは、開口を有する配線基板と、配線基板の前記開口内に配置された制御素子と、制御素子の一方の面上に配置された少なくとも1つのMEMS素子と、を具備し、制御素子は、他方の面が露出するとともに、樹脂を介して配線基板に固定されていることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】高感度化を図ることができる物理量センサー素子および物理量センサー、および、この物理量センサーを備える電子機器を提供すること。
【解決手段】本発明の物理量センサー素子1は、支持基板3と、支持基板3上に互いに離間して設けられた第1固定電極41および第2固定電極42と、第1固定電極41に対して第1間隙を介して対向するとともに、第2固定電極42に対して第2間隙を介して対向する可動電極22と、支持基板3に対して固定的に設けられた固定部21と、固定部21に対して可動電極22を回動可能に連結する連結部23、24とを有し、可動電極22には、可動電極22の回動に際し第1間隙および第2間隙のうちの少なくとも一方の間隙に存在する気体の流動抵抗を低減する複数の流路が形成されている。 (もっと読む)


【課題】MEMS素子への応力を緩和しながらMEMSデバイスのパッケージ全体の厚さを低背化できるMEMSデバイス、その製造方法、及びそれを有する半導体装置を提供する。
【解決手段】少なくとも一方の面側に第1電極部を有する基板102と、基板の第1電極部108aが配置された側に配置された制御素子であるIC110と、可動部133と、基板の第1電極部に対向し、可動部の変位を検出又は制御するための電極パッド136とを備え、電極パッドを露出させて制御素子上に配置されたMEMS素子と、基板の第1電極部とMEMS素子の電極パッドとを電気的に接続する接続部材142と、を具備し、可動部は、制御素子に覆われたMEMSデバイス。 (もっと読む)


【課題】優れた検出感度を有する物理量センサー素子および物理量センサー、および、この物理量センサーを備える電子機器を提供すること。
【解決手段】本発明の物理量センサー素子1は、基部31と、基部31からY軸方向に延出し、Z軸方向を法線とする板面を有する梁部34と、梁部34の先端部に設けられた質量部35と、梁部34の板面上に第1電極層421、圧電体層422および第2電極層423がこの順で積層され、梁部34のZ軸方向での曲げ変形を検出する検出素子42とを有し、梁部34は、Z軸方向からみたときに、基端側から先端側に向けて幅が漸減する形状をなす。 (もっと読む)


【課題】本発明は、半導体装置及びその製造方法に係り、浮動構造体の支持基板への当接を他の当接を生じさせることなく実現させて、浮動構造体と支持基板との電気的接続を確保することにある。
【解決手段】半導体からなる支持基板と、支持基板上に設けられる絶縁層と、絶縁層上に設けられる活性層と、を備える半導体装置において、絶縁層の一部がエッチング除去されることにより活性層の一部に浮動構造体を形成し、その後、導電性部材を少なくとも浮動構造体を含む活性層に押し付けることで、その浮動構造体を支持基板に当接させて、浮動構造体と支持基板とを導通させる。 (もっと読む)


【課題】導通不良を起こしてしまうのを抑制することのできる静電容量式センサを得る。
【解決手段】静電容量式センサは、固定板2と半導体基板とを接合した際に、固定電極に形成された固定電極側金属接触部25と、半導体基板に形成された半導体基板側金属接触部13とが接触するようになっている。そして、固定電極側金属接触部25および半導体基板側金属接触部13の少なくとも互いに接触する部位をバリアメタル14で被覆するようにした。 (もっと読む)


【課題】耐荷重性をより一層向上させることのできる静電容量式センサを得る。
【解決手段】静電容量式センサ1は、絶縁基板2、3と、この絶縁基板2,3に接合されたシリコン基板と、を備えている。このシリコン基板には、絶縁基板2,3に接合されるフレーム部40と、一面に可動電極5a,6aが形成された錘部5,6と、当該錘部5,6を回動自在に支持する1対のビーム部7a,7b、8a,8bと、が形成されている。そして、1対のビーム部7a,7b、8a,8bのうちいずれか一方のビーム部7b,8bが他方のビーム部7a,8aよりも太さが太く長さが長くなるように形成されている。 (もっと読む)


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