【課題】荷電粒子線の特性の維持に有利な描画装置を提供する。
【解決手段】この荷電粒子線で基板に描画を行う描画装置は、荷電粒子線源２、４０と、荷電粒子線源２、４０から放射された荷電粒子線の一部を通過させる開口３０が形成された開口部材１１と、開口部材１１に設けられ、開口部材１１の開口３０以外の領域に向かう荷電粒子線が入射する複数の熱電変換素子３２と、開口部材１１に配置されて複数の熱電変換素子３２の出力を検出する検出部３４と、検出部３４の出力に基づいて、荷電粒子線源２、４０から放射された荷電粒子線の特性に関する制御を行う制御部６（３５）とを有する。 （もっと読む）

【課題】ＦＩＭ像取得のためのシステムを導入することなく、エミッターの先端構造の確認を図ること。
【解決手段】チップ１にガスを供給し、引出電極４に電圧を印加し、チップ１からイオンビーム１１を放出する集束イオンビーム装置において、電圧を変化させ、イオンビーム１１の電流量を測定する電流測定部１１１と、電流測定部１１１で測定した測定データと標準データとを比較処理する処理部１１４とを備え、チップ先端構造を検査する集束イオンビーム装置を提供する。 （もっと読む）

【課題】本発明は電子線照射装置の電子線安定化方法及び装置に関し、フィールドエミッション形電子銃を用いた場合でも照射電流を安定化することができる電子線照射装置の電子線安定化方法及び装置を提供することを目的としている。
【解決手段】電流を検出可能な絞りを複数用意し、これら複数の絞りの絞り検出電流と、対応する電子線照射電流との関係をテーブルとしてメモリ２１に記憶させておいて、電子線照射電流が小さい領域では、前記複数の絞り検出電流を加算したものを絞り検出電流とし、電子線照射電流が大きい領域では、前記複数の絞りのうち、特定の絞りの検出電流をそれぞれ検出電流として用いて、電子線照射電流のフィードバック制御を行なうように構成する。 （もっと読む）

【課題】自動チップ形成を備える帯電粒子源を提供する。
【解決手段】帯電粒子デバイスは、エミッタチップ１３を含むエミッタユニットと、エミッタチップに安定な引出電界を生成するための定電圧を供給するように構成された電圧供給ユニット２２２と、安定引出電界に加えてパルス引出電界を生成するためのパルス電圧を供給するように構成されたパルス電圧供給部品２２４と、エミッタ特性を測定するための測定ユニット１４２、１４２’、１４２”と、測定ユニットから信号を受け取るように構成され、かつパルス電圧供給部品を制御するように構成された制御ユニット１３０とを含む。 （もっと読む）

【課題】
電子線源装置フィラメントの断線・変形を的確に予測・判定し、従来の装置における使用可能なフィラメントの交換による不必要な資源消費および交換費用の発生ならびに、突然の断線や変形発生時の後追い処理による工程の混乱を防止し、測定時間、保守管理工数を低減する。
【解決手段】
フィラメント電流測定回路１１によってフィラメント電流を常時測定し、演算回路１２によって点灯時間零時点におけるフィラメント電流と現在のフィラメント電流の比を常時演算し、比が予め定めた限界比を下回ったときはフィラメントＦの寿命時間到達、また予め定めた上限比を上回ったときはフィラメント異常と判定し、ディスプレイ１３に適切なメッセージを表示する。 （もっと読む）

【課題】立ち上げ時に大きなエミッション電流が流れることのない電子銃を提供する。
【解決手段】まず、カソードに供給する熱量を一定に制御する。この熱量は、この熱量を与え続けて平衡状態になったときに、カソードの温度がカソードがエミッションを始める温度よりも僅かに低い温度となるように、予め測定して決定されている。カソードの周辺の温度が平衡状態に達したとき、制御装置は、今までにフィラメントに流していた電流より多い電流をフィラメントに流し、カソードを加熱する。そして、エミッション電流が流れ始めた時点で、エミッション電流が一定になるように、フィラメントに流す電流を操作するフィードバック制御を開始する。これにより、カソード１に供給される熱量はやや増加し、エミッション電流は目標値から少しオーバシュートして目標値に収斂するが、そのオーバシュート量は、従来の制御方式による場合に比して大幅に小さくなる。 （もっと読む）

【課題】 フィラメントから照射される電子ビームのビーム電流を自動で一定値に制御し、また、生産ラインに組み込まれたＴＦＴアレイ基板検査装置において、ビーム電流の一定値制御を、生産ラインを停止することなく行う。
【解決手段】 熱電子放出によりフィラメントから電子ビームを放出する電子ビーム発生装置１において、フィラメント３を流れるフィラメント電流を制御するフィラメント電流制御手段４，５を備え、電子ビームのビーム電流を検出し、その検出値をフィラメント電流制御手段にフィードバックすることによってビーム電流を一定値に制御する。フィラメント電流制御手段５は、フィラメント３からＴＦＴアレイ基板１０に向けて照射されるビーム電流の検出値をフィードバックすることによって、電子ビームのビーム電流の一定値制御をより有効に行う。 （もっと読む）

耐雑音性が高く、高感度のビーム電流測定を実現することのできる測定装置および測定方法を提供する。
外部磁場遮蔽用の磁気遮蔽部（８）と、前記磁気遮蔽部によって生成された遮蔽空間に配された磁場センサ（２）とを備え、測定すべきビーム電流が生成する磁場を前記磁場センサで測定するビーム電流測定装置であって、前記磁場センサの磁束−帰還電流変換係数を８×１０^−１５ＷＢ／Ａ以上とする。
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