【課題】透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）、走査透過型電子顕微鏡（ＳＴＥＭ）、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）、集束イオン・ビーム（ＦＩＢ）システムなどの集束粒子ビーム・システム用の荷電粒子源を提供すること。
【解決手段】この源は、荷電粒子システムの軸を中心とすることができる小さな領域内にある独立してアドレス指定可能な多数の放出器を使用する。１つのチップから放出させ、または２つ以上のチップから同時に放出させることを可能にするため、これらの放出器は全て、個別に制御することができる。１つの放出器だけが活動化されるモードは高輝度に対応し、複数の放出器が同時に活動化されるモードは、高い角強度およびより低い輝度を提供する。単一の放出器を逐次的に使用することによって源の寿命を延ばすことができる。全ての放出器に対する機械／電気組合せアラインメント手順が記載される。 （もっと読む）

【課題】荷電粒子ビーム装置の分解能を高める。
【解決手段】荷電粒子ビームを光軸に沿って放出するエミッタ組立体が提供される。ガンチャンバ（２０）内に収納されたエミッタ組立体は、エミッタ先端部（１５）を備えたエミッタ（５）を含み、エミッタ先端部は、光軸に垂直な第１の平面のところに位置決めされ、エミッタは、第１の電位まで付勢されるよう構成され、エミッタ組立体は、開口部を備えたエクストラクタ（１１２）を更に有し、開口部は、光軸に垂直な第２の平面のところに位置決めされ、エクストラクタは、第２の電位まで付勢されるよう構成され、第２の平面は、第１の平面から２．２５ｍｍ以上の第１の距離を有する。 （もっと読む）

【課題】ベローズを用いることなく、光電面を所定の位置まで移動させることができるようにして、光電面の移動可能な距離を長くし、また、コストを低減し、装置の小型化を図ることができる電子線発生装置を提供すること。
【解決手段】本発明に係る電子線発生装置１は、光電面収容カートリッジ２と、膜破り器３２と、カソードプラグ移動用ロッド３とを備えている。光電面収容カートリッジ２は筒状部材であり、この筒状部材の開口部には、封止膜１５，１６が取付けられている。この筒状部材内には、カソードプラグ保持用リング１１が取り付けられていて、光電面を取付けたカソードプラグ１０がカソードプラグ保持用リング１１に保持されている。カソードプラグ１０とカソードプラグ移動用ロッド３には両者を結合する結合手段が設けられていて、カソードプラグ１０はカソードプラグ移動用ロッド３を用いて光電面収容カートリッジ２から取り出すことができる。 （もっと読む）

【課題】本発明は冷陰極電子銃の自動入射軸合わせ方法に関し、電子ビームのアノード電極Ａ２に対する入射軸を自動で最適化することができる冷陰極電子銃の自動入射軸合わせ方法を提供することを目的としている。
【解決手段】集束レンズ群と、対物レンズ群と、中間レンズ群と、投影レンズ群と、１個以上の対物絞りを備え、電子銃の第１のアノード電極Ａ１及び第２のアノード電極Ａ２に電界を印加することによってエミッタから電子ビームを発生させる冷陰極電子銃を備え、該電子銃のアノード電極Ａ２に対する機械的位置を調整するためのモータを備えた透過型電子顕微鏡において、前記モータを駆動して電子銃を機械的に走査させ、環状のアノード電極Ａ２の開口に対する電子ビームの入射軸を調整し、アノード電極Ａ２の開口を通過する電流量が最大となる時の前記電子銃の最適な機械的位置を自動的に取得するように構成する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、複数の光軸を有する電子光学系で高スループットにパターン形成或いは試料の評価を行う装置では、電子銃を高輝度にすることが困難であった。
【解決手段】パターン形成あるいは試料の評価を行う装置に用いられる電子銃に於いて、カソード、第１アノード、第２アノード、ウエーネルト電極を有し、ウエーネルト電極及び第１アノード電極を円錐台形状とし、光軸からウエーネルトの角度をθｗ、光軸から第１アノードまでの角度をθa とした時、
４０．１°＜θa＜９０°あるいは４８．６°＜θｗ＜１４９°
とすることにより図１２に示した様にLangmuir限界を超える輝度を得た。 （もっと読む）

【課題】 ＣＮＴカソードでの放電やＣＮＴ飛散による電子放出特性の劣化が少なく、長寿命で信頼性の高い電子線発生装置を提供する。
【解決手段】 放電や劣化の原因である引出し電極のない２極型構造とし、ウェネルトとカソード、アノード間の相対位置を変えることにより電子ビームの電流値およびビーム径を制御することができる。 （もっと読む）

【課題】
電子ビームの出射側における曲率半径が２．０μｍである円錐形端部を有するショットキー型エミッタを提供する。曲率半径が１μｍ以上なので、曲率半径が０．５μｍから０．６μｍ以下までの範囲にある従来技術に比して、電子銃の焦点距離を長くすることが可能となる。この焦点距離は、曲率半径にだいたい比例することが知られている。電流角強度（単位立体角あたりのビーム電流）は電子銃における焦点距離の２乗に比例するので、エミッタ半径の増加を実用的な範囲とした状態で、前者を１桁分まで改善することが可能となる。電流角強度が高くなると、電子銃から得られるビーム電流も大きくなり、本発明は、マイクロフォーカスＸ線チューブ、電子線マイクロアナライザー、および、電子ビーム リソグラフィーシステムのような、マイクロアンペアレジームの比較的に高いビーム電流を必要とする応用に、ショットキー型エミッタを使用することを可能とするものである。 （もっと読む）

【課題】不連続的放出パターンを有する荷電粒子エミッタによる荷電粒子装置及び方法を提供する。
【解決手段】荷電粒子ビーム装置及び方法。装置は、少なくとも２つの放出ピークを含む放出パターンを有するエミッタ（１０２）と、ガンレンズ（１１９、５１９、９１９）と、ダイヤフラム（１２０）とを含み、ガンレンズは、デフレクタ・ユニット（１１０）を含み、デフレクタ・ユニットは、少なくとも２つの放出ピークのうちの放出ピークをダイヤフラムの開口部に向け、それによって少なくとも２つの放出パターンから放出ピークのうちの放出ピークを選択するようになっている。 （もっと読む）