【課題】ＦＦＳ方式のアクティブマトリクス型液晶表示装置において、オーバーレイヤー構造を用いて保持容量を形成し、保持容量の最適化を通して表示品質の向上を図ることである。
【解決手段】液晶表示装置は、平坦化絶縁膜の上層に、ＦＦＳ絶縁膜を介して画素電極と共通電極とが配置されるオーバーレイヤー構造を有する。ＦＦＳ絶縁膜を介して画素電極と共通電極との重なり部分で保持容量が形成される。保持容量は、保持時間と画素ＴＦＴのリーク電流等から定められる適当な大きさを要すると共に、信号線容量に比べ適当に小さいことが必要である。この２条件を満たすＦＦＳ絶縁膜の膜厚を計算すると、例えば画素密度Ｐ＝１００において４３０ｎｍ以上２４００ｎｍ以下、画素密度Ｐ＝４００において９０ｎｍ以上１４０ｎｍ以下となる。 （もっと読む）

【課題】 ディスプレイパネルを駆動する配線構造を含む画像表示システムを提供する。
【解決手段】 ディスプレイパネルを駆動する配線構造を含む画像表示システムであって、前記配線構造は、基板、前記基板上にあり、第１端子と前記第１端子と分かれた第２端子を有する相互接続線を有する第１導電層、前記第１導電層上にあり、前記第１端子を露出する第１開口と前記第２端子を露出する第２開口を有する誘電体層、および前記誘電体層上にあり、接続パッド、ガードリングと、トレースラインを有し、前記ガードリングが前記接続パッドを囲み、前記トレースラインが前記ガードリングの外側に位置する第２導電層を含む画像表示システム。 （もっと読む）

【課題】配線抵抗及び不良が減少したアレイ基板を提供する。
【解決手段】絶縁基板１２０上にバリア層を形成する。その後、バリア層上に銅または銅合金を含むゲートライン１３１及びゲートラインに電気的に接続されるゲート電極１１８を形成する。その後、ゲートライン１３１及びゲート電極１１８の表面を窒化プラズマ処理する。続いて、絶縁基板１２０上にゲートライン１３１及びゲート電極１１８をカバーするゲート絶縁膜１２６を蒸着する。続いて、ゲート絶縁膜１２６上にデータライン１３３、データライン１３３に電気的に接続されるソース電極１１７、ソース電極１１７と離隔されて配置されるドレイン電極１１９、及びゲート電極１１８上でソース電極１１７とドレイン電極１１９との間に配置される半導体パターンを形成する。 （もっと読む）

【課題】発光効率等の特性の低下が好適に抑制または防止された有機発光素子を備える有機発光装置、かかる有機発光装置を製造することができる有機発光装置の製造方法、この有機発光装置を備えた信頼性の高い電子機器を提供すること。
【解決手段】発光装置（有機発光装置）１０は、少なくとも一方の面付近が主として無機材料で構成されたＴＦＴ回路基板（基板）２０と、陽極３と陰極８との間に、主として有機発光材料で構成された有機発光層５を備える複数の有機ＥＬ素子（有機発光素子）１と、複数の有機ＥＬ素子１が設けられた発光領域１１を包含するよう設けられ、主として無機材料で構成された封止層９とを有するものであり、封止層９は、発光領域１１の外周部において、ＴＦＴ回路基板２０に無機材料で構成された層間絶縁層（無機物層）２６を介して接合されている。また、封止層９は、ＴＦＴ回路基板２０に直接接合されているものであってもよい。 （もっと読む）

【課題】 いわゆる逆構造のトップエミッション型有機エレクトロルミネッセンス表示装置において、高い発光効率を得る。
【解決手段】 各画素領域からの発光を基板側と反対側から取り出すトップエミッション型の有機エレクトロルミネッセンス表示装置であり、陰極が、第１陰極層４ａ、第２陰極層４ｂ、及び第３陰極層６から形成されており、第１陰極層４ａが金属膜からなる反射性の電極であり、第２陰極層４ｂが透明導電性金属酸化物からなる電極であり、第３陰極層６が金属膜からなる電極であり、第３陰極層６が、膜面方向に不連続な電極膜であるか、あるいは、第３陰極層６の膜厚と、第３陰極層６を構成する電極材料の電子の平均自由行程とから算出されるシート抵抗が、第３陰極層６の少なくとも一部で３０Ω／□以上である電極膜であることを特徴としている。 （もっと読む）

【課題】 電気光学装置の構成要素である絶縁膜に工夫を加えることによってクロストークの発生を抑制して表示品質を高く維持できる電気光学装置を提供する。
【解決手段】 基板７ａ上に形成された複数のスイッチング素子２１と、基板７ａ上に形成されたデータ線１９と、スイッチング素子２１上及びデータ線１９上に形成されていて内部にスルーホール２７を有する絶縁膜２２と、絶縁膜２２上に形成されていてスルーホール２７を介してスイッチング素子２１に接続された画素電極２４と、画素電極２４上に形成された液晶層１２と、データ線１９に接続された画素電極２４に隣接する他の画素電極２４と当該データ線１９との間に位置する絶縁膜２２内に設けられた凹部４１とを有する電気光学装置である。凹部４１内には液晶１２が収容され、絶縁膜２２の誘電率をε１とし、液晶１２の誘電率をε２とするとき、ε１＞ε２に設定する。 （もっと読む）

【課題】非晶質酸化物を利用した新規な発光装置を提供することを目的とする。
【解決手段】第１及び第２の電極間に介在する発光層、及び電界効果型トランジスタを備え、電界効果型トランジスタの活性層は、電子キャリア濃度が１０^１８／ｃｍ^３未満の非晶質酸化物、あるいは電子キャリア濃度が増加すると共に、電子移動度が増加する傾向を示す非晶質酸化物、又はノーマリーオフを実現し得る透明な非晶質酸化物半導体である。 （もっと読む）

【課題】非晶質酸化物を利用した新規な画像表示装置を提供することを目的とする。
【解決手段】アクティブマトリックス型の画像表示装置において、光制御素子を駆動するための電界効果型トランジスタの活性層１２として、非晶質酸化物を用いる。アクティブマトリックス型の画像表示装置であって、光制御素子と、光制御素子を駆動するための電界効果型トランジスタと、を備え、電界効果型トランジスタの活性層は、電子キャリア濃度が１０^１８／ｃｍ^３未満の非晶質酸化物である。 （もっと読む）

方法およびディスプレイは、ＺｎＯチャネルを備えた画素トランジスタを制御するＺｎＯチャネルを備えた行および列ドライバを利用し、次いで、アレイのＯＬＥＤをアドレス指定して、ディスプレイ画面の画像を生成する。ＺｎＯの行および列ドライバとＯＬＥＤとを備えるディスプレイバックプレーンが、アパーチャマスキングまたはフォトリソグラフィとアパーチャマスキングとの組み合わせを利用することにより構成されてもよい。これによって、ＺｎＯの行および列ドライバとＺｎＯ系画素トランジスタとのモノリシック集積が達成される。
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【課題】本発明は、高耐圧の駆動用ＩＣを用いるにあたり、この駆動用ＩＣの配線パターンと基板に形成した配線導体を制御して、高画質、高い信頼性を有する表示装置を提供する。
【解決手段】
表示画素を形成する表示電極が形成された一対の基板１、２と、一方の基板２上に形成され且つ表示電極に接続する配線導体と、前記駆動用ＩＣの実装領域内で配線導体に接続し且つ表示画素の選択を制御する駆動用ＩＣとを有するとともに、前記配線導体と前記駆動用ＩＣ７とをバンプ７１及び異方性導電樹脂部材９を介して接続してなる表示装置である。そして、前記駆動用ＩＣ実装領域内に配置された配線導体８５と、前記駆動用ＩＣの実装面の配線パターン７１との間は、その電界強度が１Ｍ（メガ）Ｖ／ｍ以下となるように、配線導体８５と配線パターン７１との間隔を広げた。 （もっと読む）

【課題】電圧降下を抑えること。
【解決手段】ＥＬディスプレイパネル１は、絶縁基板２と、各画素の駆動トランジスタ２３と、駆動トランジスタ２３のゲート２３ｇとともにパターニングされ、ゲート絶縁膜３１によって被覆された信号線Ｙ₁〜Ｙ_nと、駆動トランジスタ２３のソース２３ｓとともにパターニングされ、ゲート絶縁膜３１上において信号線Ｙ₁〜Ｙ_nと直交するよう配列され、ドレイン２３ｄに導通した供給線Ｚ₁〜Ｚ_mと、供給線Ｚ₁〜Ｚ_mにそれぞれ積層された複数の給電配線９０と、駆動トランジスタ２３を被覆した保護絶縁膜３２と、保護絶縁膜３２上にマトリクス状に配列され、駆動トランジスタ２３のソース２３ｓに導通した画素電極２０ａと、画素電極２０ａに成膜された有機ＥＬ層２０ｂと、有機ＥＬ層２０ｂを被覆した対向電極２０ｃと、を備える。 （もっと読む）

【課題】 トランジスタ等の能動素子が安定に動作し、大画面化と長期にわたって安定した表示動作とを可能にする。
【解決手段】 陰極（２２２）と陽極（２３）とに狭持され、基板（２）の上方に配置された電気光学素子と、電気光学素子を駆動する能動素子（２４）と、陰極（２２２）及び陽極（２３）のうち少なくとも一方と基板（２）との間に配置された誘電率が所定の値以下の絶縁材料からなる絶縁膜（２８３、２８４）とから電気光学装置（１）を構成する。 （もっと読む）