【課題】画像表示装置の配線等として用いられる銅導電膜を形成する際に、生産性を大きく低下させることなく、段差構造体の最大線幅が最小線幅に対して４倍以上である場合においても均一なめっき高さでめっきを行ない、段差構造体間での抵抗ばらつきの小さい銅配線パターンを容易に形成できるようにする。
【解決手段】基材上に並列配置され、かつ最大線幅が最小線幅の４倍以上である複数の段差構造体を横断被覆する銅導電膜４の形成において、電解めっき液の液導電率を６０Ｓ／ｍ以上とし、かつ銅導電膜４の膜厚を段差構造体の最大高さに対して２倍以上とする。 （もっと読む）

【課題】簡便な手法により高精細かつ高い素子耐久性と表示メモリ性を兼ね備えるエレクトロクロミック表示装置を提供すること。
【解決手段】対向して設けられた表示基板１及び対向基板９と、前記表示基板上１に設けられた表示電極２と、前記対向基板９上に設けられた複数の画素電極８と、前記表示基板１と前記対向基板９とに挟持され、前記表示電極２に接して設けられたエレクトロクロミック層３と、前記複数の画素電極９上に、当該複数の画素電極９形成領域の全面に亘って形成された電荷保持層８と、前記電荷保持層８上に、当該電荷保持層８を被覆するように設けられた保護層７と、を備え、前記表示電極２と前記画素電極８との間に充填されてなる電解質を含む電解液４を有し、前記電荷保持層７は、酸化ニッケルを含み、前記電荷保持層７と前記保護層６とからなる積層構造体の表面抵抗は、１Ｅ＋６Ω／□以上であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】封止材料を均一に加熱溶融することが可能な構成の電気装置を提供する。
【解決手段】支持基板と、前記支持基板上に設定される封止領域内に設けられる電気回路と、前記支持基板上において、前記封止領域内から封止領域外に延在して設けられ、外部の電気信号入出力源と前記電気回路とを電気的に接続する電気配線と、前記封止領域を取囲んで前記支持基板上に設けられる封止部材と、前記封止部材を介して、前記支持基板に貼合される封止基板とを有する電気装置であって、前記電気回路は、有機層を有する電子素子を備え、平面視において前記電気配線と前記封止部材とが交差する交差領域では、前記電気配線が透光性電気配線によって構成されている、電気装置。 （もっと読む）

【課題】薄型でコンパクトな駆動装置と、薄型の情報表示器を用いて情報を表示できる情報表示システムを提供する。
【解決手段】 情報表示器１Ａは、第１基板１１及び第２基板１２の間において電界で駆動する表示媒体を備え、画素電極３４が配置されたＴＦＴ基板３１を備える駆動装置３０を用いて第１基板１１と画素電極３４との間に形成させた電界によって、表示媒体が駆動されて情報表示画面領域に情報を表示するように構成されており、情報表示システムは、第１基板１１側の外側に、弾性変形する弾性体層６１が配置される。 （もっと読む）

【課題】薄型でコンパクトな駆動装置を用いて情報を表示できる薄型で軽量な情報表示器および薄型でコンパクトな駆動装置と薄型で軽量な情報表示器で構成した情報表示システムを提供する。
【解決手段】情報表示器は、２枚の基板１１，１２の間において電界で駆動する表示媒体１６と、２枚の基板間に配置された支持部１４と、少なくとも支持部１４に対応する部分に形成された有色層１５と、を備える。支持部１４が、透明で、有色層１５が、２枚の基板のうち情報表示領域が透明な観察基板と対向して配置される非観察基板側に配置されている。 （もっと読む）

【課題】従来のブラックマトリックス層等を用いないことで、残渣の問題を解消して、コントラストの低下をなくすことができる情報表示用パネルおよびその製造方法を提供する。
【解決手段】情報表示画面領域が透明な観察側とする絶縁性基板と背面側とする絶縁性基板とを、基板間ギャップ確保用隔壁を介して対向させて形成した、基板間の情報表示画面領域内の空間に配置された表示媒体を、情報表示画面領域が透明な観察側とする絶縁性基板の内側面および背面側とする絶縁性基板の内側面にそれぞれ形成されている電極を用いて形成した電界で駆動させて情報を表示する情報表示用パネルであって、情報表示画面領域内に配置される基板間ギャプ確保用隔壁４は透明であり、情報表示画面領域内に配置される基板間ギャップ確保用隔壁と絶縁性基板とを接合する接着材９は透明であり、背面側とする絶縁性基板の内側面の少なくとも透明な基板間ギャップ確保用隔壁との間には絶縁性の有色層３１が形成されている。 （もっと読む）

【課題】製造工程において半導体膜の膜質を低下させることなくその性能を維持し、少ない工程数によって、かつ、製造上の歩留まり及びスループットの優れた構造を有する薄膜トランジスタ及びその製造方法等を提供する。
【解決手段】薄膜トランジスタ１００は、酸化物半導体膜１２０を有し、当該酸化物半導体膜１２０は、各薄膜半導体毎に、ゲート電極１６０下及び隣接された薄膜トランジスタ間とにそれぞれ形成された第１領域１２１及び１２２と、ソース電極１４０及びドレイン電極１５０下であって第１領域１２１の前記水平方向におけるそれぞれの両端に並設されており、ソース電極１４０及びドレイン電極１５０にそれぞれ電気的に接続され、かつ、非駆動時に前記第１領域１２１及び１２２より低抵抗である第２領域１２３及び１２４と、を有している。 （もっと読む）

【課題】液晶表示装置の消費電力を低減すること及び表示の劣化を抑制すること。また、温度などの外部因子による表示の劣化を抑制すること。
【解決手段】各画素に設けられるトランジスタとして、チャネル形成領域が酸化物半導体層によって構成されるトランジスタを適用する。なお、当該酸化物半導体層を高純度化することで、当該トランジスタの室温におけるオフ電流値を１０ａＡ／μｍ以下且つ８５℃におけるオフ電流値を１００ａＡ／μｍ以下とすることが可能である。そのため、液晶表示装置の消費電力を低減すること及び表示の劣化を抑制することが可能になる。また、上述したように当該トランジスタは、８５℃という高温においてもオフ電流値を１００ａＡ／μｍ以下とすることが可能である。そのため、温度などの外部因子による液晶表示装置の表示の劣化を抑制することができる。 （もっと読む）

【課題】ＦＦＳモードの液晶表示装置の電源オフ後の焼付きなどの表示不良を防止できる簡便な構造の液晶表示装置を提供することを目的とする。
【解決手段】この発明に係る液晶表示装置は、電極間に印加した電圧によりフリンジ電界を発生させて液晶を駆動するフリンジ・フィールド・スィッチングモードの液晶表示装置において、画素電極のそれぞれは隣り合う画素電極と所定の抵抗値を有する高抵抗部により互いに電気的に接続されたものである。 （もっと読む）

【課題】シリコン半導体層および／または透明導電膜との間のバリアメタル層を省略しても、ＡｌとＳｉの相互拡散を抑制でき、低抵抗のオーミック特性を有する電気的接触が得られると共に、十分な耐熱性を有する表示装置用Ａｌ合金膜を提供する。
【解決手段】表示装置の基板上で、透明導電膜および／または薄膜トランジスタの半導体層と直接接続されるＡｌ合金膜であって、Ａｌ合金膜は、３０原子％以上のＭｏを含有するＡｌ−Ｍｏ合金、またはＭｏと、Ｍｎ、Ｎｄ、Ｎｉ、Ｍｇ、およびＦｅよりなるＸ群から選択される少なくとも１種とを含有するＡｌ−Ｍｏ−Ｘ合金の単層から構成されている。 （もっと読む）

【課題】反射防止機能を有する透明導電性素子を提供する。
【解決手段】透明導電性素子は、第１の面および第２の面を有する導電層と、第１の面および第２の面の少なくとも一方に設けられた媒質層とを備える。第１の面および第２の面の少なくとも一方は、可視光の波長以下の平均波長λを有する波面であり、波面の平均波長λに対する振動の平均幅Ａの比率（Ａ／λ）が、０．１以上１．３以下であり、導電層の平均膜厚は、波面の振動の幅Ａよりも大きい。 （もっと読む）

【課題】アルミニウム合金膜と透明電極が直接コンタクトすることを可能とし、バリアメタルの省略を可能にするアルミニウム合金膜を用いた表示デバイスとその製造技術を提供すること。
【解決手段】ガラス基板上に配置された薄膜トランジスタと、透明電極によって形成された画素電極と、これら薄膜トランジスタと画素電極を電気的に接続するアルミニウム合金膜によって形成された接続配線部を主たる構成要素として備えた表示デバイスとその製法を開示する。 （もっと読む）

【課題】基板を一方的にマスクに押し付けても基板とマスクを十分に密着させることができない。静電吸着により基板とマスクの双方を引き合わせることで、基板とマスクを十分に密着させて真空成膜（蒸着、スパッタリング等）を行うことにより、パターン精度の高い表示パネルを提供する。
【解決手段】１または複数の表示パネル用回路が形成される基板４２０とマスク５２０とを重ねて配置し、当該基板が前記マスクに静電吸着するように、当該マスクに電圧を印加し、当該基板に当該マスクを介して真空成膜する。 （もっと読む）

【課題】 パッシブ駆動の有機ＥＬパネルにおいて、配線設計の自由度を制限することなく電極配線の配線抵抗値のバラツキを抑制し、有機ＥＬ素子の輝度ムラを改善することが可能な有機ＥＬパネルを提供する。
【解決手段】支持基板１上に複数形成される第一電極ライン２ａと、第一電極ライン２ａ上に形成される有機発光層２ｄと、第一電極ライン２ａと交差するように複数形成される第二電極ライン２ｅとを有する発光表示部２を形成してなる有機ＥＬパネルである。各第二電極ライン２ｅあるいは各第一電極ライン２ａと接続されるように支持基板１上に引き回し形成される複数の電極配線４を有し、各電極配線４は、１本の配線からなる部分４ａ，４ｃ及び／あるいは複数の配線が並列に接続される部分４ｂを有し、それぞれの配線抵抗値の差が５Ω以下となるように同一方向に形成される部分において前記配線の並列数を異ならせてなる。 （もっと読む）

【課題】静電気に強い構造に設計された点灯検査回路を備えた有機電界発光表示装置を提供する。
【解決手段】走査線とデータ線との交差部に位置する画素を備える画素部と、上記走査線に走査信号を供給する走査駆動回路と、上記データ線に点灯検査信号を供給する点灯検査回路と、を備え、上記点灯検査回路は、ソース電極が上記点灯検査信号の入力される入力ラインに共通に接続され、ドレイン電極が上記データ線に接続され、ゲート電極が検査制御信号の入力ラインに共通に接続される複数のトランジスタを備え、上記トランジスタのゲート電極とソース電極とが半導体物質で実現される抵抗素子を介して接続される。 （もっと読む）

【課題】 広範囲にわたって全導電性領域に、断切れ及び上層配線層との間のリーク電流の発生のない、均一な膜厚の銅配線層を形成することが可能な半導体装置の製造方法を提供すること。
【解決手段】 ガラス基板上に薄膜トランジスタ及び配線を有する半導体装置を製造する方法において、ガラス基板上に下地絶縁層を形成する工程と、前記下地絶縁層上に下地バリア層を形成する工程と、前記下地バリア層上にシード層を形成する工程と、前記シード層を前記配線に対応する形状にパターニングしてシード層パターンを形成する工程と、前記シード層パターンの表面に銅配線層を無電解めっき法で形成する工程と、前記銅配線層マスクとして前記下地バリア層をパターニングする工程と、前記銅配線層を被覆するように絶縁層を形成する工程とを備えたことを特徴する半導体装置の製造方法。 （もっと読む）

【課題】６００℃〜７００℃の高温であっても高い耐酸化性と低抵抗を両立し、かつ低コストで形成可能な配線材料を提供する。
【解決手段】基板上に形成される銅配線と、銅配線上に５０ｎｍ以上２００ｎｍ以下の膜厚で形成される５０重量％以上のアルミニウムを含有する銅合金薄膜と、を具備する配線部材を用いる。上記銅配線の膜厚は、１μｍ以上５０μｍ以下である。基板と銅配線の間には下地層が配置されている。配線部材の電気抵抗率は、４×１０^-6Ωcm以下である。 （もっと読む）

【課題】不良箇所の確認が容易な構造に改良した情報表示用パネルを提案する。
【解決手段】対向して配置され共に透明である２枚の基板１、２間に、帯電性粒子３Ｗ、３Ｂを含んだ粒子群で構成した表示媒体を封入し、前記基板の少なくとも一方にパターン形成した透明な電極５を設け、該電極に基づいて発生させた電界により前記表示媒体を移動して画像等の情報を表示する情報表示用パネルであって、前記基板間に配備されると共に、前記透明な電極の間の電極間スペースＷＳに対応した位置に設定された基板間間隔設定部材４を有しており、さらに、前記透明な電極５と前記基板間間隔設定部材４との間に有色の絶縁体層１０が敷設してある。 （もっと読む）

【課題】画像表示、画像消去を繰り返し行うことができ、コントラストに優れ、高解像度で高品質な画像を長期にわたり安定的に表示でき、残像が発生しにくく、良好な可逆性を示し、駆動電圧が低く済む可逆性画像表示媒体を提供する。
【解決手段】画像表示媒体１２は少なくとも一方が光透過性を有する２枚のシート１２１、１２２と、その２枚のシートの間に形成され、周囲を仕切り壁で囲まれた１又は２以上の現像剤収容セル１２４と、各セルに内包された乾式現像剤とを有し、現像剤は、互いに帯電極性の異なる、且つ、互いに光学的反射濃度の異なる少なくとも２種類の、摩擦帯電性を有する乾式現像粒子ＷＰ、ＢＰを含んでおり、２枚のシートのうち一方のシートの外表面の表面抵抗率は１０¹⁰Ω／□〜１０¹⁶Ω／□である。 （もっと読む）

【課題】厳格な封止の必要性が軽減され、電極の破損の恐れのない、しかも応答速度の速いエレクトロクロミック装置を提供する。
【解決手段】第一の電極１０、エレクトロクロミック層３０および第二の電極２０をこの順で有し、前記第一および第二の電極のうちの少なくとも一つが導電性微粒子およびバインダーを含有する導電層１２，２２を有し、かつ前記エレクトロクロミック層が高分子ポリマー、可塑剤、エレクトロクロミック化合物および有機電荷輸送剤を含有するエレクトロクロミック装置。 （もっと読む）