有機ＥＬパネル
【課題】 パッシブ駆動の有機ＥＬパネルにおいて、配線設計の自由度を制限することなく電極配線の配線抵抗値のバラツキを抑制し、有機ＥＬ素子の輝度ムラを改善することが可能な有機ＥＬパネルを提供する。
【解決手段】支持基板１上に複数形成される第一電極ライン２ａと、第一電極ライン２ａ上に形成される有機発光層２ｄと、第一電極ライン２ａと交差するように複数形成される第二電極ライン２ｅとを有する発光表示部２を形成してなる有機ＥＬパネルである。各第二電極ライン２ｅあるいは各第一電極ライン２ａと接続されるように支持基板１上に引き回し形成される複数の電極配線４を有し、各電極配線４は、１本の配線からなる部分４ａ，４ｃ及び／あるいは複数の配線が並列に接続される部分４ｂを有し、それぞれの配線抵抗値の差が５Ω以下となるように同一方向に形成される部分において前記配線の並列数を異ならせてなる。
【解決手段】支持基板１上に複数形成される第一電極ライン２ａと、第一電極ライン２ａ上に形成される有機発光層２ｄと、第一電極ライン２ａと交差するように複数形成される第二電極ライン２ｅとを有する発光表示部２を形成してなる有機ＥＬパネルである。各第二電極ライン２ｅあるいは各第一電極ライン２ａと接続されるように支持基板１上に引き回し形成される複数の電極配線４を有し、各電極配線４は、１本の配線からなる部分４ａ，４ｃ及び／あるいは複数の配線が並列に接続される部分４ｂを有し、それぞれの配線抵抗値の差が５Ω以下となるように同一方向に形成される部分において前記配線の並列数を異ならせてなる。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、支持基板上に複数形成される第一電極ラインと、第一電極ライン上に形成される有機発光層と、第一電極ラインと交差するように複数形成される第二電極ラインとを有する発光表示部を形成してなる有機ＥＬパネルに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来、有機ＥＬパネルとしては、例えば、少なくとも有機発光層を有する有機層をＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ Ｔｉｎ Ｏｘｉｄｅ）等からなる陽極（第一電極）と、アルミニウム（Ａｌ）等からなる陰極（第二電極）とで狭持してなる有機ＥＬ素子を発光画素として透光性の支持基板上にマトリクス状に形成して発光表示部を構成するものが知られている（例えば特許文献１参照）。かかる有機ＥＬ素子は、陽極から正孔を注入し、また、陰極から電子を注入して正孔及び電子が有機発光層にて再結合することによって光を発するものである。また、有機ＥＬ素子は、陰極側から陽極側へは電流が流れにくい、いわゆるダイオード特性を有するものである。
【０００３】
上記のような有機ＥＬパネルは、例えば陽極をデータラインとし陰極をコモンラインとするパッシブ駆動（線順次駆動）によって有機ＥＬ素子の発光を制御するパッシブマトリクス型の有機ＥＬパネルである。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開平８−３１５９８１号公報
【特許文献２】特開２００４−２４６３３０号公報
【特許文献３】特開２００７−７２０３３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
ここで、パッシブマトリクス型の有機ＥＬパネルにおいては、両電極に駆動電流を印加する各電極配線毎の配線抵抗値のバラツキが小さいことが望ましい。電極配線毎の配線抵抗のバラツキが大きいと各有機ＥＬ素子に印加される電圧に差が生じ輝度ムラが起こる。しかしながら支持基板上の外側に引き回しされる電極配線ほど配線距離が長くなるため、より内側に引き回しされる電極配線との配線抵抗値の差は大きくなってしまう。そこで、従来では、特許文献２に開示されるように配線の幅を徐々に広くすることで配線抵抗を下げ、配線抵抗をほぼ等しくする方法や、特許文献３に開示されるように内側に引き回される配線を空き領域に冗長な配線長を有するように引き回すことで配線抵抗値を同一とする方法などが知られている。
【０００６】
しかしながら、特許文献２に開示される単に配線の幅を広くする方法では、幅の広い配線の位置が発光表示部を封止する封止部材の接着位置と重なると紫外線硬化性接着剤にて封止部材を接着する際に紫外線が接着剤に照射されるのを妨げる場合があり、これを避けようとすると配線設計の自由度が制限されるという問題点があった。また、特許文献３に開示される方法では内側に形成される配線についても配線長を延ばすためのスペースが必要となり、これも配線設計の自由度が制限されるという問題点があった。
【０００７】
そこで本発明は、前述の問題点に鑑み、パッシブマトリクス型の有機ＥＬパネルにおいて、配線設計の自由度を制限することなく電極配線の配線抵抗値のバラツキを抑制し、有機ＥＬ素子の輝度ムラを改善することが可能な有機ＥＬパネルを提供することを目的とするものである。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明は、前記課題を解決するため、支持基板上に複数形成される第一電極ラインと、前記第一電極ライン上に形成される有機発光層と、前記第一電極ラインと交差するように複数形成される第二電極ラインとを有する発光表示部を形成してなる有機ＥＬパネルであって、前記各第二電極ラインあるいは前記各第一電極ラインと接続されるように前記支持基板上に引き回し形成される複数の電極配線を有し、前記各電極配線は、１本の配線からなる部分及び／あるいは複数の配線が並列に接続される部分を有し、それぞれの配線抵抗値の差が５Ω以内となるように同一方向に形成される部分において前記配線の並列数を異ならせてなることを特徴とする。
【０００９】
また、前記電極配線は、部分毎に前記配線の並列数が異なることを特徴とする。
【００１０】
本発明は、前記電極配線を、１本の前記配線からなる構成、１本の前記配線からなる部分と複数の前記配線が並列に接続される部分との組み合わせからなる構成または複数の前記配線が並列に接続される部分からなる構成のいずれかとし、それぞれの配線長に応じて、同一方向に形成される部分において前記配線の並列数をそれぞれ異ならせることによって、実質的な配線幅を調整して配線抵抗値の差が５Ω以下となるようにし、前記各電極配線の配線長が異なる場合であっても、前記各電極配線の配線抵抗値のバラツキを抑制し、有機ＥＬ素子の輝度ムラを改善することが可能となるものである。また、前記配線の並列数を増やす場合でも前記各配線間には隙間が形成されるため、紫外線が接着剤に照射されることを妨げない。また、配線長を余分に延長させるものではないため配線長を延ばすためのスペースも不要である。
【００１１】
また、前記電極配線を、部分毎に前記配線の並列数が異なる構成とすることで、前記各電極配線の配線抵抗値をより微細に調整することができ、前記各電極配線の配線抵抗値のバラツキを抑制するのに好適である。
【発明の効果】
【００１２】
本発明によれば、配線設計の自由度を制限することなく電極配線の配線抵抗値のバラツキを抑制し、有機ＥＬ素子の輝度ムラを改善することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
【図１】本発明の実施形態である有機ＥＬパネルを示す図。
【図２】同上有機ＥＬパネルの要部拡大図。
【図３】同上有機ＥＬパネルを示す有機ＥＬ素子を示す断面図。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
以下、本発明の実施形態である有機ＥＬパネルを添付図面に基づき説明する。図１は有機ＥＬパネルの全体図であり、図２は有機ＥＬパネルの要部拡大図である。
【００１５】
支持基板１は、長方形形状の透明ガラス材からなる電気絶縁性の基板である。支持基板１上には、発光表示部２と、発光表示部２の後述する陽極ラインと接続される陽極配線３と、発光表示部２の後述する陰極ラインと接続される陰極配線４と、が形成されている。なお、支持基板１上には発光表示部２を気密的に覆う封止部材が配設されるが、図１及び図２においては封止部材を省略している。
【００１６】
発光表示部２は、図２及び図３に示すように、複数形成される陽極ライン（第一電極ライン）２ａと、絶縁層２ｂと、隔壁２ｃと、有機層２ｄと、複数形成される陰極ライン（第二電極ライン）２ｅと、から主に構成され、各陽極ライン２ａと各陰極ライン２ｅとが交差して有機層２ｄを挟持する個所からなる複数の発光画素（有機ＥＬ素子）を備えるいわゆるパッシブマトリクス型の発光表示部である。また、発光表示部２は、図３に示すように、封止部材２ｆによって気密的に覆われている。
【００１７】
陽極ライン２ａは、ＩＴＯ等の透光性の導電材料からなる。陽極ライン２ａは、蒸着法やスパッタリング法等の手段によって支持基板１上に前記導電材料を層状に形成した後、フォトリソグラフィー法等によって互いに略平行となるように複数形成される。また、各陽極ライン２ａは各陽極配線３と接続され、各陽極配線３を介して駆動電流を供給するドライバーＩＣと電気的に接続される。
【００１８】
絶縁膜２ｂは、例えばポリイミド系の電気絶縁性材料から構成され、陽極ライン２ａと陰極ライン２ｅとの間に位置するように陽極ライン２ａ上に形成され、両電極ライン２ａ，２ｅの短絡を防止するものである。絶縁膜２ｂには、各発光画素を画定するとともに輪郭を明確にする開口部２ｂ１が形成されている。また、絶縁膜２ｂは、陰極ライン２ｅと陰極配線４の間にも延設されており、陰極ライン２ｅと陰極配線４とを接続させるコンタクトホール２ｂ２を有する。
【００１９】
隔壁２ｃは、例えばフェノール系の電気絶縁性材料からなり、絶縁膜２ｂ上に形成される。隔壁２ｃは、その断面が絶縁膜２ｂに対して逆テーパー形状となるようにフォトリソグラフィー法等の手段によって形成されるものである。また、隔壁２ｃは、陽極ライン２ａと直交する方向に等間隔にて複数形成される。隔壁２ｃは、その上方から蒸着法やスパッタリング法等によって有機層２ｄ及び陰極ライン２ｅを形成する際に、これらをライン状に分断する構造を得るものである。
【００２０】
有機層２ｄは、陽極ライン２ａ上に形成されるものであり、少なくとも有機発光層を有するものである。なお、本実施形態においては、有機層２ｄは正孔注入層，正孔輸送層，有機発光層及び電子輸送層を蒸着法やスパッタリング法等の手段によって順次積層形成してなるものである。
【００２１】
陰極ライン２ｅは、アルミニウム（Ａｌ）やマグネシウム銀（Ｍｇ：Ａｇ）等の陽極ライン２ａよりも導電率が高い金属性導電材料をスパッタリング法や蒸着法等の手段により陽極ライン２ａと交差するように複数形成してなるものである。また、各陰極ライン２ｅは、絶縁膜２ｂに設けられるコンタクトホール２ｂ２を介して各陰極配線４と接続され、この陰極配線４を介して前記ドライバーＩＣと電気的に接続される。
【００２２】
封止部材２ｆは、例えばガラス材料からなる凹状部材であり、紫外線硬化性の接着剤２ｇを介して支持基板１上に配設される。
【００２３】
陽極配線３は、例えば陽極ライン２ａと同材料であるＩＴＯ、クロム（Ｃｒ）あるいはアルミニウム（Ａｌ）等の導電材料またはこれら導電材料の積層体からなり、支持基板１上に一端が支持基板１の下方側で各陽極ライン２ａと接続され、他端が支持基板１の下辺側に列状に配置されるように複数引き回し形成される。各陽極配線３は他端が例えばＦＰＣ等の接続部材を介して前記ドライバーＩＣと接続される。
【００２４】
陰極配線４は、例えば陽極ライン２ａと同材料であるＩＴＯ、クロム（Ｃｒ）あるいはアルミニウム（Ａｌ）等の導電材料またはこれら導電材料の積層体からなり、支持基板１上に一端が支持基板１の左右両側方で交互に陰極ライン２ｅと接続され、他端が支持基板１の下辺側に列状に配置されるように複数引き回し形成される。各陰極配線４は他端が前記接続部材を介して前記ドライバーＩＣと接続される。また、陰極配線４は、コンタクトホール２ｂ２を介して陰極ライン２ｅと接続可能とするべく少なくとも陰極ライン２ｅとの接続個所となる端部が絶縁膜２ｂを介して陰極ライン２ｅの下方に位置するように形成される。陰極配線４は、支持基板１の側方から下方に引き回し形成されるため、陽極配線３と比較して、内側に引き回しされる陰極配線４と外側に引き回しされる陰極配線４とで配線長が大きく異なる。そこで、本実施形態においては各陰極配線４の配線抵抗値の差を５Ω以下とするために、図２に示すように、内側に引き回しされる陰極配線４を１本の配線からなるものとし、外側に引き回しされる陰極配線４を、１本の配線からなる部分（以下、単一配線部４ａ，４ｃという）と２本の配線が並列に接続される部分（以下、並列配線部４ｂという）とからなるものとしている。なお、各陰極配線４の配線抵抗値は同一であることが最も望ましいが、配線抵抗値の最大値と最小値の差が５Ω以下であれば有機ＥＬ素子の輝度ムラを十分に抑制することができる。本実施形態においては各陰極配線４の部分のうち外側の陰極配線４と内側の陰極配線４とで最も配線長に差が生じる支持基板１の側辺に沿って引き回しされる部分において、外側の陰極配線４に並列配線部４ｂを設けることで、実質的に配線幅を大きくし配線抵抗値を低減させている。並列配線部４ｂは接着剤２ｇの配設個所と重なっているが、並列配線部４ｂにおいては各配線間に隙間が設けられるため、実質的な配線幅が大きい構成であってもこの隙間から紫外線を接着剤２ｇに照射でき、陰極配線４の配線設計の自由度を制限することなく陰極配線４の配線抵抗値のバラツキを抑制することができる。外側の陰極配線４は、陰極配線４の１本の中で、単一配線部４ａ，４ｃと並列配線部４ｂとで部分毎に前記配線の並列数が異なる。かかる構成とすることで、各陰極配線４の配線抵抗値をより微細に調整することができ、各陰極配線４の配線抵抗値のバラツキを抑制するのに好適である。なお、並列配線部４ｂにおける配線の並列数は３本以上であってもよい。また、陰極配線４の１本の中で、配線の並列数が一定であってもよい。また、各陰極配線４毎に単一配線部４ａ，４ｃ及び並列配線部４ｂの組み合わせ方が異なるものであってもよい。
【００２５】
以上の各部によって有機ＥＬパネルが構成されている。
【００２６】
かかる有機ＥＬパネルは、それぞれ配線長の異なる各陰極配線４の配線抵抗値の差が５Ω以下となるように、それぞれの配線長に応じて、同一方向に形成される部分において配線の並列数を異ならせることによって、実質的な配線幅を調整し、各陰極配線４の配線抵抗値のバラツキを抑制し、有機ＥＬ素子の輝度ムラを改善することが可能となるものである。また、配線の並列数を増やす場合でも各配線間には隙間が形成されるため、紫外線が接着剤２ｇに照射されることを妨げない。また、配線長を余分に延長させるものではないため配線長を延ばすためのスペースも不要である。したがって、本発明は陰極配線４の配線設計の自由度を制限することがない。
【００２７】
なお、本実施形態は、発光表示部の両電極ライン２ａ，２ｅに接続される電極配線のうち、陰極配線４に本発明を適用したものであったが、配線の引き回しによっては陽極配線３に本発明を適用し、陽極配線３の同一方向に形成される部分において配線の並列数を異ならせるものであってもよい。
【００２８】
なお、本実施形態は、ドライバーＩＣをＦＰＣや回路基板等に別途配置する有機ＥＬパネルであったが、本発明はドライバーＩＣを直接支持基板１上に配置するいわゆるＣＯＧ型の有機ＥＬパネルにも同様に適用することができる。
【産業上の利用可能性】
【００２９】
本発明は、パッシブマトリクス型の有機ＥＬパネルに好適である。
【符号の説明】
【００３０】
１ 支持基板
２ 発光表示部
２ａ 陽極ライン（第一電極ライン）
２ｂ 絶縁膜
２ｃ 隔壁
２ｄ 有機層
２ｅ 陰極ライン（第二電極ライン）
２ｆ 封止部材
２ｇ 接着剤
３ 陽極配線
４ 陰極配線
４ａ、４ｃ 単一配線部
４ｂ 並列配線部
【技術分野】
【０００１】
本発明は、支持基板上に複数形成される第一電極ラインと、第一電極ライン上に形成される有機発光層と、第一電極ラインと交差するように複数形成される第二電極ラインとを有する発光表示部を形成してなる有機ＥＬパネルに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来、有機ＥＬパネルとしては、例えば、少なくとも有機発光層を有する有機層をＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ Ｔｉｎ Ｏｘｉｄｅ）等からなる陽極（第一電極）と、アルミニウム（Ａｌ）等からなる陰極（第二電極）とで狭持してなる有機ＥＬ素子を発光画素として透光性の支持基板上にマトリクス状に形成して発光表示部を構成するものが知られている（例えば特許文献１参照）。かかる有機ＥＬ素子は、陽極から正孔を注入し、また、陰極から電子を注入して正孔及び電子が有機発光層にて再結合することによって光を発するものである。また、有機ＥＬ素子は、陰極側から陽極側へは電流が流れにくい、いわゆるダイオード特性を有するものである。
【０００３】
上記のような有機ＥＬパネルは、例えば陽極をデータラインとし陰極をコモンラインとするパッシブ駆動（線順次駆動）によって有機ＥＬ素子の発光を制御するパッシブマトリクス型の有機ＥＬパネルである。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開平８−３１５９８１号公報
【特許文献２】特開２００４−２４６３３０号公報
【特許文献３】特開２００７−７２０３３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
ここで、パッシブマトリクス型の有機ＥＬパネルにおいては、両電極に駆動電流を印加する各電極配線毎の配線抵抗値のバラツキが小さいことが望ましい。電極配線毎の配線抵抗のバラツキが大きいと各有機ＥＬ素子に印加される電圧に差が生じ輝度ムラが起こる。しかしながら支持基板上の外側に引き回しされる電極配線ほど配線距離が長くなるため、より内側に引き回しされる電極配線との配線抵抗値の差は大きくなってしまう。そこで、従来では、特許文献２に開示されるように配線の幅を徐々に広くすることで配線抵抗を下げ、配線抵抗をほぼ等しくする方法や、特許文献３に開示されるように内側に引き回される配線を空き領域に冗長な配線長を有するように引き回すことで配線抵抗値を同一とする方法などが知られている。
【０００６】
しかしながら、特許文献２に開示される単に配線の幅を広くする方法では、幅の広い配線の位置が発光表示部を封止する封止部材の接着位置と重なると紫外線硬化性接着剤にて封止部材を接着する際に紫外線が接着剤に照射されるのを妨げる場合があり、これを避けようとすると配線設計の自由度が制限されるという問題点があった。また、特許文献３に開示される方法では内側に形成される配線についても配線長を延ばすためのスペースが必要となり、これも配線設計の自由度が制限されるという問題点があった。
【０００７】
そこで本発明は、前述の問題点に鑑み、パッシブマトリクス型の有機ＥＬパネルにおいて、配線設計の自由度を制限することなく電極配線の配線抵抗値のバラツキを抑制し、有機ＥＬ素子の輝度ムラを改善することが可能な有機ＥＬパネルを提供することを目的とするものである。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明は、前記課題を解決するため、支持基板上に複数形成される第一電極ラインと、前記第一電極ライン上に形成される有機発光層と、前記第一電極ラインと交差するように複数形成される第二電極ラインとを有する発光表示部を形成してなる有機ＥＬパネルであって、前記各第二電極ラインあるいは前記各第一電極ラインと接続されるように前記支持基板上に引き回し形成される複数の電極配線を有し、前記各電極配線は、１本の配線からなる部分及び／あるいは複数の配線が並列に接続される部分を有し、それぞれの配線抵抗値の差が５Ω以内となるように同一方向に形成される部分において前記配線の並列数を異ならせてなることを特徴とする。
【０００９】
また、前記電極配線は、部分毎に前記配線の並列数が異なることを特徴とする。
【００１０】
本発明は、前記電極配線を、１本の前記配線からなる構成、１本の前記配線からなる部分と複数の前記配線が並列に接続される部分との組み合わせからなる構成または複数の前記配線が並列に接続される部分からなる構成のいずれかとし、それぞれの配線長に応じて、同一方向に形成される部分において前記配線の並列数をそれぞれ異ならせることによって、実質的な配線幅を調整して配線抵抗値の差が５Ω以下となるようにし、前記各電極配線の配線長が異なる場合であっても、前記各電極配線の配線抵抗値のバラツキを抑制し、有機ＥＬ素子の輝度ムラを改善することが可能となるものである。また、前記配線の並列数を増やす場合でも前記各配線間には隙間が形成されるため、紫外線が接着剤に照射されることを妨げない。また、配線長を余分に延長させるものではないため配線長を延ばすためのスペースも不要である。
【００１１】
また、前記電極配線を、部分毎に前記配線の並列数が異なる構成とすることで、前記各電極配線の配線抵抗値をより微細に調整することができ、前記各電極配線の配線抵抗値のバラツキを抑制するのに好適である。
【発明の効果】
【００１２】
本発明によれば、配線設計の自由度を制限することなく電極配線の配線抵抗値のバラツキを抑制し、有機ＥＬ素子の輝度ムラを改善することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
【図１】本発明の実施形態である有機ＥＬパネルを示す図。
【図２】同上有機ＥＬパネルの要部拡大図。
【図３】同上有機ＥＬパネルを示す有機ＥＬ素子を示す断面図。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
以下、本発明の実施形態である有機ＥＬパネルを添付図面に基づき説明する。図１は有機ＥＬパネルの全体図であり、図２は有機ＥＬパネルの要部拡大図である。
【００１５】
支持基板１は、長方形形状の透明ガラス材からなる電気絶縁性の基板である。支持基板１上には、発光表示部２と、発光表示部２の後述する陽極ラインと接続される陽極配線３と、発光表示部２の後述する陰極ラインと接続される陰極配線４と、が形成されている。なお、支持基板１上には発光表示部２を気密的に覆う封止部材が配設されるが、図１及び図２においては封止部材を省略している。
【００１６】
発光表示部２は、図２及び図３に示すように、複数形成される陽極ライン（第一電極ライン）２ａと、絶縁層２ｂと、隔壁２ｃと、有機層２ｄと、複数形成される陰極ライン（第二電極ライン）２ｅと、から主に構成され、各陽極ライン２ａと各陰極ライン２ｅとが交差して有機層２ｄを挟持する個所からなる複数の発光画素（有機ＥＬ素子）を備えるいわゆるパッシブマトリクス型の発光表示部である。また、発光表示部２は、図３に示すように、封止部材２ｆによって気密的に覆われている。
【００１７】
陽極ライン２ａは、ＩＴＯ等の透光性の導電材料からなる。陽極ライン２ａは、蒸着法やスパッタリング法等の手段によって支持基板１上に前記導電材料を層状に形成した後、フォトリソグラフィー法等によって互いに略平行となるように複数形成される。また、各陽極ライン２ａは各陽極配線３と接続され、各陽極配線３を介して駆動電流を供給するドライバーＩＣと電気的に接続される。
【００１８】
絶縁膜２ｂは、例えばポリイミド系の電気絶縁性材料から構成され、陽極ライン２ａと陰極ライン２ｅとの間に位置するように陽極ライン２ａ上に形成され、両電極ライン２ａ，２ｅの短絡を防止するものである。絶縁膜２ｂには、各発光画素を画定するとともに輪郭を明確にする開口部２ｂ１が形成されている。また、絶縁膜２ｂは、陰極ライン２ｅと陰極配線４の間にも延設されており、陰極ライン２ｅと陰極配線４とを接続させるコンタクトホール２ｂ２を有する。
【００１９】
隔壁２ｃは、例えばフェノール系の電気絶縁性材料からなり、絶縁膜２ｂ上に形成される。隔壁２ｃは、その断面が絶縁膜２ｂに対して逆テーパー形状となるようにフォトリソグラフィー法等の手段によって形成されるものである。また、隔壁２ｃは、陽極ライン２ａと直交する方向に等間隔にて複数形成される。隔壁２ｃは、その上方から蒸着法やスパッタリング法等によって有機層２ｄ及び陰極ライン２ｅを形成する際に、これらをライン状に分断する構造を得るものである。
【００２０】
有機層２ｄは、陽極ライン２ａ上に形成されるものであり、少なくとも有機発光層を有するものである。なお、本実施形態においては、有機層２ｄは正孔注入層，正孔輸送層，有機発光層及び電子輸送層を蒸着法やスパッタリング法等の手段によって順次積層形成してなるものである。
【００２１】
陰極ライン２ｅは、アルミニウム（Ａｌ）やマグネシウム銀（Ｍｇ：Ａｇ）等の陽極ライン２ａよりも導電率が高い金属性導電材料をスパッタリング法や蒸着法等の手段により陽極ライン２ａと交差するように複数形成してなるものである。また、各陰極ライン２ｅは、絶縁膜２ｂに設けられるコンタクトホール２ｂ２を介して各陰極配線４と接続され、この陰極配線４を介して前記ドライバーＩＣと電気的に接続される。
【００２２】
封止部材２ｆは、例えばガラス材料からなる凹状部材であり、紫外線硬化性の接着剤２ｇを介して支持基板１上に配設される。
【００２３】
陽極配線３は、例えば陽極ライン２ａと同材料であるＩＴＯ、クロム（Ｃｒ）あるいはアルミニウム（Ａｌ）等の導電材料またはこれら導電材料の積層体からなり、支持基板１上に一端が支持基板１の下方側で各陽極ライン２ａと接続され、他端が支持基板１の下辺側に列状に配置されるように複数引き回し形成される。各陽極配線３は他端が例えばＦＰＣ等の接続部材を介して前記ドライバーＩＣと接続される。
【００２４】
陰極配線４は、例えば陽極ライン２ａと同材料であるＩＴＯ、クロム（Ｃｒ）あるいはアルミニウム（Ａｌ）等の導電材料またはこれら導電材料の積層体からなり、支持基板１上に一端が支持基板１の左右両側方で交互に陰極ライン２ｅと接続され、他端が支持基板１の下辺側に列状に配置されるように複数引き回し形成される。各陰極配線４は他端が前記接続部材を介して前記ドライバーＩＣと接続される。また、陰極配線４は、コンタクトホール２ｂ２を介して陰極ライン２ｅと接続可能とするべく少なくとも陰極ライン２ｅとの接続個所となる端部が絶縁膜２ｂを介して陰極ライン２ｅの下方に位置するように形成される。陰極配線４は、支持基板１の側方から下方に引き回し形成されるため、陽極配線３と比較して、内側に引き回しされる陰極配線４と外側に引き回しされる陰極配線４とで配線長が大きく異なる。そこで、本実施形態においては各陰極配線４の配線抵抗値の差を５Ω以下とするために、図２に示すように、内側に引き回しされる陰極配線４を１本の配線からなるものとし、外側に引き回しされる陰極配線４を、１本の配線からなる部分（以下、単一配線部４ａ，４ｃという）と２本の配線が並列に接続される部分（以下、並列配線部４ｂという）とからなるものとしている。なお、各陰極配線４の配線抵抗値は同一であることが最も望ましいが、配線抵抗値の最大値と最小値の差が５Ω以下であれば有機ＥＬ素子の輝度ムラを十分に抑制することができる。本実施形態においては各陰極配線４の部分のうち外側の陰極配線４と内側の陰極配線４とで最も配線長に差が生じる支持基板１の側辺に沿って引き回しされる部分において、外側の陰極配線４に並列配線部４ｂを設けることで、実質的に配線幅を大きくし配線抵抗値を低減させている。並列配線部４ｂは接着剤２ｇの配設個所と重なっているが、並列配線部４ｂにおいては各配線間に隙間が設けられるため、実質的な配線幅が大きい構成であってもこの隙間から紫外線を接着剤２ｇに照射でき、陰極配線４の配線設計の自由度を制限することなく陰極配線４の配線抵抗値のバラツキを抑制することができる。外側の陰極配線４は、陰極配線４の１本の中で、単一配線部４ａ，４ｃと並列配線部４ｂとで部分毎に前記配線の並列数が異なる。かかる構成とすることで、各陰極配線４の配線抵抗値をより微細に調整することができ、各陰極配線４の配線抵抗値のバラツキを抑制するのに好適である。なお、並列配線部４ｂにおける配線の並列数は３本以上であってもよい。また、陰極配線４の１本の中で、配線の並列数が一定であってもよい。また、各陰極配線４毎に単一配線部４ａ，４ｃ及び並列配線部４ｂの組み合わせ方が異なるものであってもよい。
【００２５】
以上の各部によって有機ＥＬパネルが構成されている。
【００２６】
かかる有機ＥＬパネルは、それぞれ配線長の異なる各陰極配線４の配線抵抗値の差が５Ω以下となるように、それぞれの配線長に応じて、同一方向に形成される部分において配線の並列数を異ならせることによって、実質的な配線幅を調整し、各陰極配線４の配線抵抗値のバラツキを抑制し、有機ＥＬ素子の輝度ムラを改善することが可能となるものである。また、配線の並列数を増やす場合でも各配線間には隙間が形成されるため、紫外線が接着剤２ｇに照射されることを妨げない。また、配線長を余分に延長させるものではないため配線長を延ばすためのスペースも不要である。したがって、本発明は陰極配線４の配線設計の自由度を制限することがない。
【００２７】
なお、本実施形態は、発光表示部の両電極ライン２ａ，２ｅに接続される電極配線のうち、陰極配線４に本発明を適用したものであったが、配線の引き回しによっては陽極配線３に本発明を適用し、陽極配線３の同一方向に形成される部分において配線の並列数を異ならせるものであってもよい。
【００２８】
なお、本実施形態は、ドライバーＩＣをＦＰＣや回路基板等に別途配置する有機ＥＬパネルであったが、本発明はドライバーＩＣを直接支持基板１上に配置するいわゆるＣＯＧ型の有機ＥＬパネルにも同様に適用することができる。
【産業上の利用可能性】
【００２９】
本発明は、パッシブマトリクス型の有機ＥＬパネルに好適である。
【符号の説明】
【００３０】
１ 支持基板
２ 発光表示部
２ａ 陽極ライン（第一電極ライン）
２ｂ 絶縁膜
２ｃ 隔壁
２ｄ 有機層
２ｅ 陰極ライン（第二電極ライン）
２ｆ 封止部材
２ｇ 接着剤
３ 陽極配線
４ 陰極配線
４ａ、４ｃ 単一配線部
４ｂ 並列配線部
【特許請求の範囲】
【請求項１】
支持基板上に複数形成される第一電極ラインと、前記第一電極ライン上に形成される有機発光層と、前記第一電極ラインと交差するように複数形成される第二電極ラインとを有する発光表示部を形成してなる有機ＥＬパネルであって、
前記各第二電極ラインあるいは前記各第一電極ラインと接続されるように前記支持基板上に引き回し形成される複数の電極配線を有し、
前記各電極配線は、１本の配線からなる部分及び／あるいは複数の配線が並列に接続される部分を有し、それぞれの配線抵抗値の差が５Ω以下となるように同一方向に形成される部分において前記配線の並列数を異ならせてなることを特徴とする有機ＥＬパネル。
【請求項２】
前記電極配線は、部分毎に前記配線の並列数が異なることを特徴とする請求項１に記載の有機ＥＬパネル。
【請求項１】
支持基板上に複数形成される第一電極ラインと、前記第一電極ライン上に形成される有機発光層と、前記第一電極ラインと交差するように複数形成される第二電極ラインとを有する発光表示部を形成してなる有機ＥＬパネルであって、
前記各第二電極ラインあるいは前記各第一電極ラインと接続されるように前記支持基板上に引き回し形成される複数の電極配線を有し、
前記各電極配線は、１本の配線からなる部分及び／あるいは複数の配線が並列に接続される部分を有し、それぞれの配線抵抗値の差が５Ω以下となるように同一方向に形成される部分において前記配線の並列数を異ならせてなることを特徴とする有機ＥＬパネル。
【請求項２】
前記電極配線は、部分毎に前記配線の並列数が異なることを特徴とする請求項１に記載の有機ＥＬパネル。
【図１】
【図２】
【図３】
【図２】
【図３】
【公開番号】特開２０１１−１００５９３（Ｐ２０１１−１００５９３Ａ）
【公開日】平成２３年５月１９日（２０１１．５．１９）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００９−２５３６８９（Ｐ２００９−２５３６８９）
【出願日】平成２１年１１月５日（２００９．１１．５）
【出願人】（０００２３１５１２）日本精機株式会社 (1,561)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２３年５月１９日（２０１１．５．１９）
【国際特許分類】
【出願日】平成２１年１１月５日（２００９．１１．５）
【出願人】（０００２３１５１２）日本精機株式会社 (1,561)
【Ｆターム（参考）】
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