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Fターム[5D112FA05]の内容

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Fターム[5D112FA05]に分類される特許

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【課題】 低保磁力を有する垂直磁気記録媒体における軟磁性薄膜層用合金、およびこの合金の薄膜を作製するためのスパッタリングターゲット材を提供する。
【解決手段】 Ti,Zr,Hf,Nb,Ta,Bを1種以上、W,Snの1種または2種を含み、残部CoおよびFeからなり、下記(1)〜(4)を満たすことを特徴とする、垂直磁気記録媒体における軟磁性薄膜層用合金。at.%で、
(1)6≦Ti%+Zr%+Hf%+Nb%+Ta%+B%/2≦24
(2)Zr%+Hf%≦14
(3)3≦W%+Sn%≦19
(4)0.20≦Fe%/(Fe%+Co%)≦0.90 (もっと読む)


【課題】磁気記録膜用スパッタリングターゲットに対して、スパッタリング中のパーティクル発生を抑制し、かつバーンイン時間の短縮化が可能であり、漏洩磁束が大きく、マグネトロンスパッタ装置でスパッタする際に安定した放電が得られるスパッタリングターゲットを提供する。
【解決手段】Cr:20mol%以下、Pt:30mol%以下、残余がCoとするCoを主成分とする磁性合金と導電性酸化物からなる焼結体スパッタリングターゲットであって、焼結体ターゲット中に平均粒子径が10〜100μmの範囲の導電性酸化物が分散されていることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】 本発明は、スパッタリングにより薄膜を形成するために用いられる化合物の生成を抑制したCrTi系合金およびスパッタリング用ターゲット材並びにそれを使用した垂直磁気記録媒体の製造方法を提供する。
【解決手段】 Tiを35〜65原子%含み、残部Crおよび不可避的不純物かなるCrTi系合金において、Cr(110)のX線回折強度[I(Cr)]とCr2 Ti(311)のX線回折強度[I(Cr2 Ti)]の強度比が[I(Cr2 Ti)/I(Cr)]が0.50以下であるCrTi系合金およびCrTi系スパッタリング用ターゲット材並びにそれを使用した垂直磁気記録媒体の製造方法。 (もっと読む)


【課題】優れた記録再生特性と長期保存特性とを有し、高記録密度の磁気記録テープを提供する。
【解決手段】本発明の磁気記録テープは、非磁性基板と、前記非磁性基板の上に形成された非磁性下地層と、前記非磁性下地層の上に形成された多層構造軟磁性層と、前記多層構造軟磁性層の上に形成された非磁性中間層と、前記非磁性中間層の上に形成されたグラニュラ磁性層と、前記グラニュラ磁性層の上に形成された保護層とを含み、前記非磁性下地層、前記多層構造軟磁性層、前記非磁性中間層、前記グラニュラ磁性層及び前記保護層は、対向ターゲット式スパッタリング法によって形成されていることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】 組織のさらなる微細化が可能であると共にコンタミネーションが少ない磁気記録膜形成用スパッタリングターゲットおよびその製造方法を提供する。
【解決手段】 非磁性酸化物、CrおよびPtを含有し、残部がCoおよび不可避不純物からなるターゲットの製造方法であって、Co、CrおよびPtの各元素を単体として又はこれらのうち2種以上の元素を含む合金として粉末にした原料粉末と非磁性酸化物の原料粉末との各原料粉末が混合された一次混合粉末を焼結させて一次焼結体を得る一次焼結工程と、一次焼結体を粉砕して一次焼結体粉末を得る粉砕工程と、前記各原料粉末が混合された二次混合粉末1と一次焼結体粉末2とを混合および粉砕後、焼結させる二次焼結工程と、を有し、二次混合粉末1の平均粒径が0.05〜30μmであり、一次焼結体粉末2の最大粒径が200μm未満である。 (もっと読む)


【課題】 高い漏洩磁束密度が得られてスパッタ効率の向上を図ることができる磁気記録媒体膜形成用スパッタリングターゲットおよびその製造方法を提供すること。
【解決手段】 非磁性酸化物:0.5〜15モル%、Cr:4〜20モル%、Pt:5〜25モル%を含有し、残部:Coおよび不可避不純物からなる成分組成を有するスパッタリングターゲットであって、その組織が、少なくともCoとCrとを含む合金相中に非磁性酸化物が分散した第1相1と、少なくともCoとPtとを含む強磁性合金相中に非磁性酸化物が分散した第2相2との複合組織からなる。 (もっと読む)


【課題】バラツキの少ない軟磁性膜を形成でき、スパッタリングの際の異常放電やパーティクルを低減したCo-Fe系合金ターゲット材を提供する。
【解決手段】原子比における組成式が((Co100-X-Fex)100-Y-NiY)100-Z-MZ、20≦X≦80、0≦Y≦25、5≦Z≦20で表され、組成式のM元素が(Zr、Hf、Ta、Nb、Y、B)から選ばれる1種もしくは2種以上の元素であるCo-Fe系合金スパッタリングターゲット材で、ターゲット材のX線回折(110)ピークと(211)ピークとの強度比I(110)/(211)の値について、半径方向面2、円周方向面3、スパッタ面4で測定したピーク強度比をそれぞれI(R)、I(C)、I(S)とした時に、I(R)/I(S)およびI(C)/I(S)の値が0.7〜1.3であり、かつ酸素含有量が100ppm以下であるCo-Fe系合金スパッタリングターゲット材。 (もっと読む)


【課題】 本発明は、従来と同等以上の記録再生特性を確保しつつ、トラック密度を大幅に増加させ、ひいては面記録密度を増加させようとすることを目的とする。
【解決手段】 本発明は、成膜装置10内に、非磁性基板11、ターゲット材12、マグネット板21を平行に配置し、ターゲット材には高周波電圧を印加し、マグネット板の表面には交互に異なる極性を等間隔で生じさせ、ターゲット材の周囲にプラズマを発生させ、非磁性基板にスパッタリング法により薄膜を形成することを特徴とする。 (もっと読む)


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