【課題】磁気ディスク用ガラス基板の主表面を研磨するときに、良好な研磨速度を確保すること、主表面にスクラッチ等のキズが生じ難くすること、及び、主表面の縁部のだれを生じに難くすることを可能とする磁気ディスク用ガラス基板の製造方法、磁気ディスク、及び磁気記録再生装置を提供すること。
【解決手段】イットリウムを含有する部分安定化ジルコニアを研磨材として含む研磨液を用いて研磨する。 （もっと読む）

【課題】微小なピットやスクラッチ等の表面欠陥を従来品より更に低減でき、次世代用の基板として使用することが可能な高品質のガラス基板を低コストで製造できる磁気ディスク用ガラス基板を提供する。
【解決手段】シリカ砥粒を含む研磨液と、研磨パッドが配備された定盤とを用いて、ガラス基板の主表面を研磨する研磨工程を含む磁気ディスク用ガラス基板の製造方法である。上記研磨液は、光散乱法により測定される平均粒子径が５ｎｍ以上５０ｎｍ以下で、かつＣＶ値が０．３以上である粒度分布のシリカ砥粒を含む。また、上記研磨液は、重量平均分子量が５０００以上のスルホン酸基を含むアクリル系ポリマーを含有し、ｐＨが０．５以上５以下の範囲内に調整されている。 （もっと読む）

【課題】中心部の円孔の内径寸法公差を十分に縮小でき、かつ、内周端面の形状バラツキを十分に低減させながら、内周端面を鏡面化することができる磁気ディスク用ガラス基板の製造方法を提供する。
【解決手段】外周端面及び円孔１の内周端面を研削する端面研削工程と、この端面研削工程の後、端面を研磨する端面研磨工程とを有し、端面研削工程においては、端面のうちの面取り面の面粗さを面取り面を除く内周端面の面粗さよりも低粗さとし、端面研磨工程においては、面取り面を含む端面の全体をブラシ研磨により研磨する。 （もっと読む）

【課題】ガラス基板の主平面の研磨において、上側研磨パッドへのガラス基板の張り付きを防止するとともに、ガラス基板のリーチング痕を防止し、主平面の面内における均一な平滑性に優れた磁気記録媒体用ガラス基板を得るための製造方法を提供する。
【解決手段】この磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法は、ガラス基板の形状付与工程と、ガラス基板の主平面研磨工程と、洗浄工程とを有し、主平面研磨工程において、研磨パッドの研磨面の実効面積率（（Ａ−Ｂ）／Ａ×１００）を、上側研磨パッドにおいて７５〜９８％とするとともに、下側研磨パッドにおいて９９％以上（より好ましくは１００％）とする。 （もっと読む）

【課題】基板主表面の粗さをよりいっそう低減し、なお且つ異物付着等による表面欠陥を従来品より低減することができ、基板表面品質への要求が現行よりもさらに厳しいものとなっている次世代用の基板として使用することが可能な高品質のガラス基板を低コストで製造できる磁気ディスク用ガラス基板の製造方法を提供する。
【解決手段】研磨砥粒としてコロイダルシリカ砥粒を含む研磨液と、研磨パッドが配備された定盤とを用いて、ガラス基板の主表面を研磨した後、前記ガラス基板を凝集剤を含む液に接触させることによってコロイダルシリカ砥粒を凝集させて除去する。 （もっと読む）

【課題】スクラッチ（傷）や異物付着等による表面欠陥を更に低減させることができ、基板表面品質がさらに厳しいものとなっている次世代用の基板として使用することが可能な高品質のガラス基板を低コストで製造できる磁気ディスク用ガラス基板の製造方法を提供する。
【解決手段】研磨砥粒としてコロイダルシリカを含む研磨液と、研磨パッドが配備された定盤とを用いて、ガラス基板の主表面を研磨する研磨工程を含む磁気ディスク用ガラス基板の製造方法である。ここで、上記研磨工程の前に、スルホン酸基を含むアクリル系ポリマーを含有する水溶液中に上記ガラス基板を浸漬させ、しかる後、上記研磨工程を行う。 （もっと読む）

【課題】研磨後の板厚のばらつきを低減可能なガラス基板の製造方法及びその方法に用いられる反り方向検出装置を提供する。
【解決手段】磁気ディスク用ガラス基板の製造方法であって、複数のキャリア１４のそれぞれの反り方向を特定する反り方向特定工程と、複数のキャリア１４の反り方向を揃えてサンギヤ１３とリングギヤ１２間に複数のキャリア１４を配置するキャリア配置工程と、複数のキャリア１４の反り方向を揃えた状態で複数のガラス基板Ｇを研磨する研磨工程と、を備える。 （もっと読む）

【課題】良好な研磨レートを維持しつつ、スクラッチ（傷）等の表面欠陥を従来品より更に低減させることができ、基板表面品質への要求が現行よりもさらに厳しいものとなっている次世代用の基板として使用することが可能な高品質のガラス基板を低コストで製造できる磁気ディスク用ガラス基板の製造方法を提供する。
【解決手段】ガラス基板を、表面に研磨パッドが配備された一対の定盤で挟み、ガラス基板と研磨パッドとの間に研磨砥粒を含む研磨液を供給することでガラス基板の主表面を研磨する研磨工程を含む磁気ディスク用ガラス基板の製造方法である。ここで、摩擦係数が０．０２〜０．０５の範囲内となるように調整された研磨液と研磨パッドを用いて上記研磨工程を行う。 （もっと読む）

【課題】本発明は、平行度などの形状特性に優れる磁気記録媒体用ガラス基板の提供を目的とする。また、平行度などの形状特性に優れる磁気記録媒体用ガラス基板を高い生産性で研磨するガラス基板の研磨方法、及び該研磨方法を用いた研磨工程を有する磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法の提供を目的とする。
【解決手段】本発明は、磁気記録媒体用ガラス基板の上下主平面を研磨する研磨工程において、ガラス基板を研磨する両面研磨装置の上定盤及び下定盤は、内周端と外周端のある円盤形状を有し、該外周端により形成される外径が０．６ｍ〜２ｍであり、下定盤は回転速度３３〜４９ｒｐｍで回転駆動し、上定盤は下定盤と反対方向に回転速度１０〜２１ｒｐｍで回転駆動し、ガラス基板を保持するキャリアは下定盤と同方向に速度２〜１６ｒｐｍで公転し、ガラス基板の両主平面を押圧する上定盤と下定盤の圧力は８．０〜１６．０ＭＰａである研磨方法を有することを特徴とする磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】垂直磁気記録方式等に代表される次世代の情報記録媒体基板用途として要求される各種物性を備え、とりわけ、高い破壊靭性と平滑な表面を有する情報記録媒体用基板を低コストで製造する製造方法を提供することにある。
【解決手段】ＳｉＯ_２成分、Ａｌ_２Ｏ_３成分、Ｒ’_２Ｏ成分（ただしＲ’はＬｉ、Ｎａ、Ｋのいずれか１種以上）を含む板状のアモルファスガラスを準備する工程と、前記アモルファスガラスを研削する研削工程を含み、前記研削工程は前記アモルファスガラスをダイヤモンドパッドで研削する工程のみからなり、最終研磨終了後の目標厚さをｔ１、加工時の前記アモルファスガラスの厚さｔ２とするとき、ｔ２／ｔ１≦１．２の場合は全てダイヤモンドパッドで研削する情報記録媒体用基板の製造方法。 （もっと読む）

【課題】垂直磁気記録方式等に代表される次世代の情報記録媒体基板用途として要求される各種物性を備え、とりわけ、高い破壊靭性と平滑な表面を有する情報記録媒体用基板を低コストで製造する製造方法を提供することにある。
【解決手段】ＳｉＯ_２成分、Ａｌ_２Ｏ_３成分、Ｒ’_２Ｏ成分（ただしＲ’はＬｉ、Ｎａ、Ｋのいずれか１種以上）を含む板状の結晶化ガラスを準備する工程と、前記結晶化ガラスを研削する研削工程を含み、前記研削工程は前記結晶化ガラスをダイヤモンドパッドで研削する工程のみからなり、前記研削工程は、ダイヤモンド粒子の平均径が０．１〜５μｍのダイヤモンドパッドで研削する情報記録媒体用基板の製造方法。 （もっと読む）

【課題】ガラス基板の端面の表面状態を高いレベルで平滑に仕上げることができ、かつコストを抑制できる、情報記録媒体用ガラス基板の製造方法を提供する。
【解決手段】円形ディスク形状のガラス基板１の表面に磁気記録層が形成される情報記録媒体用ガラス基板の製造方法は、ガラス基板１を成形する工程と、ガラス基板１の端面に、遊離砥粒を含有した研磨液５０を供給するとともに、表面が隙間なく密集した回転ブラシ４を回転させながら接触させて、端面を研磨する工程と、を備える。 （もっと読む）

【課題】生産性を損なうことなく、研磨後の基板表面のスクラッチやうねりを低減できる研磨液組成物、並びにこれを用いた基板の製造及び研磨方法の提供。
【解決手段】研磨材、水溶性重合体、及び水を含有する研磨液組成物であって、前記水溶性重合体が、スルホン酸基を有し、主鎖及び側鎖のそれぞれに芳香族環を有する研磨液組成物。前記研磨液組成物を被研磨基板の研磨対象面に供給し、前記研磨対象面に研磨パッドを接触させ、前記研磨パッド及び／又は前記被研磨基板を動かして研磨する工程を含む、基板の製造方法及び研磨方法。 （もっと読む）

【課題】表面の平滑性が高く、表面のうねりが少ない磁気記録媒体用ガラス基板を高い生産性で製造することができる磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法を提供する。
【解決手段】１次、２次及び３次ラップ加工には、それぞれダイヤモンドパッド２０Ａ，２０Ｂ，２０Ｃを用い、ダイヤモンドパッド２０Ａは、ダイヤモンド砥粒の平均粒径が４μｍ〜１２μｍ、ダイヤモンド砥粒の含有量が５〜７０体積％であり、ダイヤモンドパッド２０Ｂは、ダイヤモンド砥粒の平均粒径が１μｍ〜５μｍ、ダイヤモンド砥粒の含有量が５〜８０体積％であり、ダイヤモンドパッド２０Ｃは、ダイヤモンド砥粒の平均粒径が０．２μｍ以上２μｍ未満、ダイヤモンド砥粒の含有量が５〜８０体積％であり、第１、第２及び第３のラップ加工には、研削液として有機アミン水溶液を用い、１次ポリッシュ加工には、研磨剤として酸化セリウムを用いずに酸化ケイ素を用いる。 （もっと読む）

【課題】表面の平滑性が高く、表面のうねりが少ない磁気記録媒体用ガラス基板を高い生産性で製造することができる磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法を提供する。
【解決手段】１次ラップ加工及び２次ラップ加工には、ダイヤモンド砥粒が結合剤で固定されたダイヤモンドパッド２０Ａ，２０Ｂを用い、このダイヤモンドパッド２０Ａ，２０Ｂのラップ面２０ａは、平坦な頂部を有するタイル状の凸部２１が複数並んで設けられた構造を有し、１次ラップ加工に用いるダイヤモンドパッド２０Ａは、ダイヤモンド砥粒の平均粒径が４〜１２μｍであり、凸部２１におけるダイヤモンド砥粒の含有量が５〜７０体積％であり、２次ラップ加工に用いるダイヤモンドパッド２０Ｂは、ダイヤモンド砥粒の平均粒径が１〜５μｍであり、凸部２１におけるダイヤモンド砥粒の含有量が５〜８０体積％であり、第１及び第２のラップ加工には、研削液として有機アミン水溶液を用いる。 （もっと読む）

【課題】表面粗さＲａが低減され、落下衝撃に強く、さらにヘッドクラッシュを起こしにくい情報記録媒体用ガラス基板を製造する方法を提供することを目的とする。
【解決手段】アルミノシリケートガラス素材を研磨して情報記録媒体用ガラス基板を製造する方法であって、前記アルミノシリケートガラス素材を粗研磨する粗研磨工程、及び粗研磨工程後の前記ガラス素材を精密研磨する精密研磨工程を含み、前記粗研磨工程において、（Ａ）酸化セリウムと、（Ｂ）ケイ酸ジルコニウム、酸化ジルコニウム、酸化マンガン、酸化鉄、酸化アルミニウム、炭化ケイ素及び二酸化ケイ素からなる群より選択される少なくとも１つと、（Ｃ）ウレタンとを含み、前記（Ａ）：（Ｂ）：（Ｃ）の割合が、１〜９質量％：５〜２４質量％：７５〜９０質量％である、研磨パッドを用いて粗研磨を行うことを特徴とする、情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。 （もっと読む）

【課題】表面の平滑性が高く、表面のうねりが少ない磁気記録媒体用ガラス基板を高い生産性で製造することができる磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法を提供する。
【解決手段】１次ラップ加工及び２次ラップ加工には、ダイヤモンド砥粒が結合剤で固定されたダイヤモンドパッド２０Ａ，２０Ｂを用い、このダイヤモンドパッド２０Ａ，２０Ｂのラップ面２０ａは、平坦な頂部を有するタイル状の凸部２１が複数並んで設けられた構造を有し、１次ラップ加工に用いるダイヤモンドパッド２０Ａは、ダイヤモンド砥粒の平均粒径が４〜１２μｍであり、凸部２１におけるダイヤモンド砥粒の含有量が５〜７０体積％であり、２次ラップ加工に用いるダイヤモンドパッド２０Ｂは、ダイヤモンド砥粒の平均粒径が１〜５μｍであり、凸部２１におけるダイヤモンド砥粒の含有量が５〜８０体積％である。 （もっと読む）

【課題】表面の平滑性が高く、表面のうねりが少ない磁気記録媒体用ガラス基板を高い生産性で製造することができる磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法を提供する。
【解決手段】１次、２次及び３次ラップ加工には、それぞれダイヤモンドパッド２０Ａ，２０Ｂ，２０Ｃを用い、ダイヤモンドパッド２０Ａは、ダイヤモンド砥粒の平均粒径が４μｍ〜１２μｍ、ダイヤモンド砥粒の含有量が５〜７０体積％であり、ダイヤモンドパッド２０Ｂは、ダイヤモンド砥粒の平均粒径が１μｍ〜５μｍ、ダイヤモンド砥粒の含有量が５〜８０体積％であり、ダイヤモンドパッド２０Ｃは、ダイヤモンド砥粒の平均粒径が０．２μｍ以上２μｍ未満、ダイヤモンド砥粒の含有量が５〜８０体積％であり、１次ポリッシュ加工には、研磨剤として酸化セリウムを用いずに酸化ケイ素を用いる。 （もっと読む）

【課題】本発明は、表面にＮｉＰめっき被膜を形成した磁気記録媒体用基板を研磨する際に、前段の研磨工程で突き刺さったアルミナ砥粒を後段の研磨工程で効率良く除去可能な磁気記録媒体用基板の製造方法を提供する。
【解決手段】アルミニウム合金基板の表面にＮｉＰめっき被膜を形成した磁気記録媒体用基板の表面を研磨する際に、第１の研磨盤を用いてアルミナ砥粒を含む研磨液を供給しながら研磨する粗研磨工程と、磁気記録媒体用基板を洗浄した後に、第２の研磨盤を用いてコロイダルシリカ砥粒を含む研磨液を供給しながら研磨する仕上げ研磨工程と、を含み、粗研磨工程の最後に、アルミナ砥粒を含む研磨液の供給を停止し、代わりに砥粒を含まない洗浄液を供給して研磨盤からアルミナ砥粒を除去し、その後、第１の研磨盤を用いてコロイダルシリカ砥粒を含む研磨液を供給しながら磁気記録媒体用基板の表面を研磨する中間研磨工程を設ける。 （もっと読む）

【課題】ガラス基板を研削するときにガラス基板の切屑に起因する研削レートの低下を抑制するようにした研削パッド、磁気ディスク用ガラス基板の製造方法を提供すること。
【解決手段】研削パッド１０が上定盤５０及び下定盤６０に貼付される。被研削物としてのガラス基板Ｇが上定盤５０及び下定盤６０で狭持され、ガラス基板Ｇと上定盤５０及び下定盤６０とを相対的に移動させることでガラス基板Ｇが研削パッド１０により研削加工される。研削パッド１０は、円環形状の平板の樹脂成形部と、実質的に中心から前記円環形状の外縁に向かって延びる樹脂成形部の溝部に配置されている砥石と、を備える。 （もっと読む）