【課題】基板表面に付着したパーティクル等の汚染物質を除去するための基板洗浄方法および基板洗浄装置において、高いスループットを得られ、しかもパーティクル等を効果的に除去することのできる技術を提供する。
【解決手段】基板の上面に液膜を形成し（ステップＳ１０１）、凍結ガスとして例えば低温の窒素ガスを吐出する凍結用ノズルをスキャンして液膜を凍結させた後（ステップＳ１０２，Ｓ１０３）、凍結ガスよりも冷却能力の高い流体、例えば凍結ガスよりさらに低温の窒素ガスを吐出する冷却用ノズルをスキャンして凍結した液膜をさらに低温まで冷却する（ステップＳ１０４，Ｓ１０５）。その後、リンス処理により凍結膜とともにパーティクルを除去し（ステップＳ１０７）、基板を乾燥させる（ステップＳ１０８）。 （もっと読む）

【課題】ナノサイズの微細構造を有する金型を効率的に製造することができる金型製造装置を提供する。
【解決手段】前記無機薄膜５上にアミノ基、メルカプト基、チオール基、ジスルフィド基、シアノ基、ハロゲン基、スルフォン酸基の１つ以上を含む官能基を有するシランカップリング剤を含有する自己組織化膜４０を形成する自己組織化膜形成部２と、前記自己組織化膜４０の表面を洗浄する洗浄部３と、前記自己組織化膜４０上に通電層４１を形成する通電層形成部４とを備え、前記自己組織化膜形成部２、洗浄部３、および通電層形成部４は不活性ガス雰囲気に保持されていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】吐出される液滴の噴霧状態を調整することができる二流体ノズルを提供すること。二流体ノズルから吐出される液滴を用いて所期の処理を基板に施すことができる基板処理装置を提供すること。
【解決手段】二流体ノズル３は、ケーシングを構成する外筒２０と、外筒２０に内嵌された内筒２１と、内筒２１を外筒２０に固定するための固定ナット２３とを含む。内筒２１の大径円筒部２４の外周には、雄ねじ３６が形成されている。外筒２０の内周の基端部には、雄ねじ３６に螺合する雌ねじ３７が形成されている。固定ナット２３は、内筒２１の雄ねじ３６と螺合する雌ねじ孔３１を有している。外筒２０と内筒２１とはねじ嵌合により連結されている。雄ねじ３６に対する外筒２０のねじ込み量を調節することによって、遮蔽部４３に対する短筒部４７の軸方向の位置を調節することができる。 （もっと読む）

【課題】無機レジストの現像速度を抑制することができる現像液、およびそれを用いた微細加工体の製造方法を提供する。
【解決手段】微細加工体の製造方法は、基材上に設けられた無機レジスト層を露光する工程と、露光された無機レジスト層を現像液により現像する工程とを備える。現像液は、アルカリ性水溶液とアミン類とを含んでいる。 （もっと読む）

【課題】凹凸パターンを欠損なく加工し得、かつ耐久性の良いスタンパを製造する。
【解決手段】凹凸を有するスタンパの表面にパルス電流をかけて、凹凸をエッチングする。 （もっと読む）

【課題】形状変形を起こすまでの寿命が改善されたスタンパを提供する。
【解決手段】表面にデータ領域の記録トラックまたは記録ビットに対応するパターンおよびサーボ領域の情報に対応するパターンが凹凸で形成され、内周および外周が加工され、裏面で内周端および外周端と裏面主面とが同一平面になっていることを特徴とするスタンパ。 （もっと読む）

【課題】高密度かつ高テーパ角の微細凹凸形状を形成することができる微細構造体の製造方法を提供する。
【解決手段】非感熱性の無機レジストを主成分とする感熱層を基材上に形成し、感熱性の無機レジストを主成分とする非感熱層を感熱層上に形成する。感熱層を露光、現像し、感熱層に所定のマスクパターンを形成する。マスクパターンを用いて非感熱層をエッチングすることにより、微細凹凸パターンを基材上に形成する。 （もっと読む）

【課題】ケイ素とケイ素以外の他の金属とを含む有機基含有複合金属化合物微粒子と、光重合性化合物とを含み、均質性及び安定性に優れるホログラム記録材料を製造する方法を提供する。
【解決手段】Ｓｉ以外の他の金属のアルコキシド化合物を加水分解及び縮合反応させ、前記他の金属の酸化物を生成させる工程と、前記他の金属の酸化物と、Ｓｉのアルコキシド化合物、シラノール化合物、及びそれら化合物の縮合物からなる群から選ばれる少なくとも１つを含んでいるＳｉ含有材料とを混合する工程と、前記Ｓｉ含有材料の加水分解及び縮合反応を進行させると共に、前記他の金属の酸化物に存在する残存活性基と、前記Ｓｉ含有材料のシリルオキシ基とを縮合反応させる工程と、反応系に光重合性化合物を加える工程と、を備えるホログラム記録材料の製造方法。 （もっと読む）

【課題】 凹凸パターンが形成された無機レジストを速やかに除去することが可能な光ディスク原盤処理液及び光ディスク原盤の処理方法を提供する。
【解決手段】 基板２上に無機レジストにより凹凸パターン（無機レジスト層３）が形成された光ディスク原盤１の凹凸パターンを除去するための光ディスク原盤処理液である。この処理液は、過酸化水素とアンモニアを含有する。処理液に含まれる過酸化水素及びアンモニアは、過酸化水素水（試薬特級）及びアンモニア水（試薬特級）を基準として、１倍〜２００倍に希釈されている。また、過酸化水素水とアンモニア水の比率は４：１〜１：１０である。 （もっと読む）

【課題】凸状構造体の側面の傾斜角度を制御できる凸状構造体作製方法を提供する。
【解決手段】凸状構造体作製方法は、亜鉛の酸化物、亜鉛の硫化物、及び亜鉛のセレン化物の内の少なくとも１種を主成分とする第１材料と、シリコンの酸化物、シリコンの窒化物、アルミニウムの酸化物、アルミニウムの窒化物、錫の酸化物、錫の窒化物、ゲルマニウムの酸化物及びゲルマニウムの窒化物の内の少なくとも１種を主成分とする第２材料と、を混合した無機レジスト層を基板上に設ける工程と、無機レジスト層をレーザ光で露光して潜像を形成する工程と、無機レジスト層を現像して、潜像に応じて残る無機レジスト層に基板に達する開口部のパターンを形成する工程と、無機レジスト層の開口部を介して基板にドライエッチングを施して基板に潜像に応じた凸状構造体を形成する工程と、を含む。 （もっと読む）

【課題】凸型構造体形成時の熱干渉を改善できる光学情報記録媒体製造用の原盤を提供する。
【解決手段】光学情報記録媒体製造用の原盤は、基板上に接して設けられた記録補助層及び感熱層の積層体を含む記録層を有し、感熱層は露光で状態変化を起こす母材を含み、記録補助層が露光に使用する波長の光を吸収すると共に基板の熱伝導率よりも高い熱伝導率を有する材料からなる。 （もっと読む）

【課題】インプリント法によるパターン転写時のサイドエッチング量を見込んで凸部パターンの幅を所望の通りに制御して形成できるとともに、離型剤を塗布したときに良好な離型性が得られるスタンパの製造方法を提供する。
【解決手段】凹凸を有する原盤の表面に導電層を形成し、前記導電層上に電鋳層を形成し、前記原盤から前記電鋳層および前記導電層を剥離して前記原盤の凹凸が転写されたスタンパを形成し、前記スタンパの表面に残留しているレジストを除去し、前記スタンパの表面をｐＨ３未満の酸性溶液でエッチングすることを特徴とするスタンパの製造方法。 （もっと読む）

【課題】基板にダメージを与えることなく、優れたパーティクル除去率で基板の被処理面を洗浄することができる基板洗浄方法および基板洗浄装置を提供する。
【解決手段】凍結洗浄処理前に基板に対してライトエッチングを実行している。ライトエッチングにより基板の表面が軽くエッチング除去されてパーティクルと基板表面の接触部分が減少し、凍結膜を構成するＤＩＷが接触除去部分に回り込む。そして、その接触除去部分に回り込んだＤＩＷが凍結されて凍結膜の一部となった後に除去される。その結果、パーティクル除去率が向上される。 （もっと読む）

【課題】スキュー抑え、記録再生特性を向上させ、高密度記録化に対応可能とする。
【解決手段】基板２の一面側に記録層、光透過層４が順次形成され、光透過層４側から光が照射されて情報の記録再生が行われる光記録媒体であって、基板２の光透過層４が形成される側とは反対側の一面上に、金属、合金、誘電体膜、有機膜のうちの少なくとも１種よりなる防水膜５が形成され、防水膜５上に、アクリルウレタン系の紫外線硬化性樹脂からなる腐食防止膜６が形成され、記録層中の少なくとも情報信号が記録される情報信号部の領域において、光透過層４の厚さｔがｔ＝３〜１７７（μｍ）であって、光透過層厚さむらをΔｔとしたときに、光記録媒体を記録及び／又は再生する光学系の開口数ＮＡおよび波長λとの間に、Δｔ≦±５．２６（λ／ＮＡ^４）（μｍ）の関係が成り立つ。 （もっと読む）

【課題】記録されている情報を容易な処理条件で破壊できる光情報記録媒体とその情報破壊方法の提供。
【解決手段】（１）案内溝を有する基板上に、少なくとも下部保護層、記録層、上部保護層、反射層が順次形成されており、青色レーザ光の照射により記録層に変化を生じて情報の記録が行われる光情報記録媒体であって、反射層上にオーバーコート層を有しない光情報記録媒体。
（２）光情報記録媒体を水浴させることにより、該光情報記録媒体に記録されている情報を破壊する情報破壊方法。
（３）光情報記録媒体を８０℃、８５％ＲＨ環境下に保管することにより、該光情報記録媒体に記録されている情報を破壊する情報破壊方法。 （もっと読む）

光学記憶媒体（１）は、基板層（２）と、前記基板層（２）上のトラック群（Ｔ１−Ｔ４）内に設けられたマーク／スペース構造を有するデータ層（３）と、カバー層（７）とを備える。１つのトラック（Ｔ１、Ｔ３）はポジティブマーク群（ＰＭ）を備えかつそれと隣り合うトラック（Ｔ２、Ｔ４）はネガティブマーク群（ＮＭ）を備える。前記トラック群は、具体的には、スパイラル（Ｓ１、Ｓ２）として設けられ、１つのスパイラルはポジティブマーク（ＮＭ）のみを有するトラックを含みかつそれに隣り合うスパイラルはネガティブマーク（ＰＭ）のみを有するトラックを含む。トラックの当該ポジティブマーク及び対応するトラックの当該ネガティブマークは、スペースによって各々離間している。当該光学記憶媒体は、特に読み取り専用光学ディスクでありかつ超解像近接場構造を有するマスク層を備え、前記データ層の前記トラック群は、２つのスパイラルとして設けられ、一方のスパイラルはポジティブマークのみから成りかつ他方のスパイラルはネガティブマークのみから成る。前記光学記憶媒体の製造のために、前記光学記憶媒体の前記データ層のポジティブ及びネガティブマーク群の各々に対応するポジティブ及びネガティブマーク群を有する表面を備えるスタンパ及びスタンパ製造のためのマスタの製造方法が提供される。
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【課題】洗浄液が無機材料からなる保護層へ浸透しても欠陥が生じないか又は生じにくくなり、記録領域の最外周まで欠陥が無いか又は少ない光記録媒体の製造方法の提供。
【解決手段】（１）表面に案内溝を有する基板の案内溝側の面に、有機色素を含む記録層材料を塗布して、基板の外周端部まで色素記録層を形成する工程、該色素記録層の上に無機材料からなる保護層を形成する工程、該基板の外周端部の内側近傍領域の色素記録層を除去し、基板表面に露出した領域を形成する工程を含む光記録媒体の製造方法において、色素記録層を除去する際に、有機色素に対する貧溶媒を含有する洗浄液を用いる光記録媒体の製造方法。
（２）洗浄液が、１−メトキシ−２−プロパノールとエチルシクロヘキサンとの混合液である（１）記載の光記録媒体の製造方法。 （もっと読む）

【課題】長時間の保管や繰り返し利用に対しても安定し、生産性の優れた塗布液を用いて、高速記録特性とアーカイバル性能（耐久性）を両立した記録層を形成する光情報記録媒体の製造方法とその追記型ＤＶＤディスクシステムに適用可能な光情報記録媒体を提供する。
【解決手段】透光性基板上に、特定の構造を有するシアニン化合物（例えば、ＰＦ_６⁻をアニオンとするシアニン化合物）と特定の構造を有するスクワリリウム金属キレート化合物（例えば、Ａｌを中心金属としたスクワリリウム金属キレート化合物）を脱水された溶媒中に溶解し、かつｐＨを５．５以上に維持した塗布液を用いて塗工法により記録層を形成し、順次反射層、保護層、接着層、カバー基板を設けて光情報記録媒体を製造し、これを追記型等のＤＶＤディスクシステムに適用する。 （もっと読む）

【課題】 色素分子のＨ会合体による均一な薄膜を簡易な手法で形成して、高屈折率を有し良好な光学特性を備えた薄膜を形成可能で、高速記録、高密度記録に適した、高感度および短マーク記録能力に優れたモノ（アザ）メチン化合物を用いた光情報記録媒体およびその製造方法を提供すること。
【解決手段】 スピンコート法を用いて均一な薄膜を簡便に塗布形成可能とし、Ｈ会合体を形成可能な色素材料（モノ（アザ）メチン色素と塩基性化合物を含有する色素組成物）を用いて良好な光学特性（高屈折率）を得ること、そのための色素材料としては、溶解性の良好なモノ（アザ）メチン化合物と塩基性化合物を用いて基板を侵すことがない溶剤を採用可能とすること、かくしてＨ会合体を形成した薄膜からなる光記録層を設け、記録前後で屈折率の差が大きく、色素の分解が吸熱反応である色素薄膜を用いることができ、スピンコート法により基板上に塗布可能とすることができる。 （もっと読む）

【課題】 色素分子のＪ会合体による均一な薄膜を簡易な手法で形成して、高屈折率を有し良好な光学特性を備えた薄膜を形成可能で、高速記録、高密度記録に適した、高感度および短マーク記録能力に優れたモノ（アザ）メチン化合物を用いた光情報記録媒体およびその製造方法を提供すること。
【解決手段】 スピンコート法を採用することにより均一な薄膜を簡便に塗布形成可能とすること、Ｊ会合体を形成可能な色素材料（モノ（アザ）メチン色素と酸を含有する組成物）を用いて良好な光学特性（高屈折率）を得ること、そのための色素材料としては、溶解性の良好なモノ（アザ）メチン化合物とリン酸を用いて基板を侵すことがない溶剤を採用可能とすること、かくしてＪ会合体を形成した薄膜からなる光記録層を設け、記録前後で屈折率の差が大きく、色素の分解が吸熱反応である色素薄膜を用いることができ、スピンコート法により基板上に塗布可能にできる。 （もっと読む）