Fターム[5E049AA00]の内容
磁性薄膜 (4,742) | 磁性材料(金属・合金) (1,294)
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Fターム[5E049AA00]に分類される特許
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磁気記録媒体の製造方法
【課題】パターンマスクの除去効率を損なうことなく処理時間の短縮を図ることができる磁気記録媒体の製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の一実施形態に係る磁気記録媒体の製造方法は、磁性層12を磁気分離するためのイオン注入工程に際して基板11をレジストパターン13の除去反応温度域にまで昇温させ、イオン注入後はその基板温度を利用してレジストパターン13のアッシング処理を実施する。これにより、レジストパターンの除去効率を損なうことなく、レジストパターン除去のための処理時間を短縮することができる。
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磁性層パターンの形成方法および薄膜磁気ヘッドの製造方法
【課題】 フレームめっき法を使用して可能な限り均一な厚さとなるように複数の磁性層パターンを安定に形成することが可能な磁性層パターンの形成方法を提供する。
【解決手段】 フォトレジストパターンのうちのフレーム部の厚さとめっき膜の厚さとの間の相関を表す相関データに基づいて、各フレーム部104F1〜104F3の厚さに各開口部104K1〜104K3ごとに差異を設けることにより、各フレーム部104F1〜104F3の厚さが各開口部104K1〜104K3ごとに異なるようにフォトレジストパターン104を形成したのち、そのフォトレジストパターン104のうちの各開口部104K1〜104K3に選択的にめっき膜を成長させることにより複数の磁性層パターン105を形成する。一連の磁性層パターン105の形成厚さがばらつきにくくなり、すなわち一連の磁性層パターン105の形成厚さが均一化される。
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