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Fターム[5E346FF10]の内容

Fターム[5E346FF10]に分類される特許

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【課題】液滴吐出法に基づいて、基板に形成された孔にビア配線を良好に形成できる配線形成方法を提供する。
【解決手段】機能液の液滴で基板に配線を形成する方法は、基板を加熱し、基板に形成された孔に液滴を供給する。 (もっと読む)


【課題】アルミニウム箔を配線層とすることにより、回路基板の任意の場所・形状にコンデンサを形成することができる回路基板およびその製造方法を提供する。
【解決手段】電気絶縁性基材1と、前記電気絶縁性基材1に形成され少なくとも一層をアルミニウム箔4とする複数の配線層と、前記アルミニウム箔からなる配線層3の一部に形成した固体アルミ電解コンデンサ5と、前記電気絶縁性基材1に形成され前記固体アルミ電解コンデンサ5と前記配線層及び/または前記配線層同士を電気的に接続するビア6を有する回路基板である。 (もっと読む)


【課題】ビア導体にクラックが生じにくいため接続信頼性を向上でき、しかも信号配線の高密度化を達成できる多層樹脂配線基板を提供すること。
【解決手段】本発明の多層樹脂配線基板11は、コア基材12、複数の樹脂絶縁層21,41,61、第1〜第3フィルドビア導体25,31,51、複数のビア接続ランド35,55等を備える。第1、第3フィルドビア導体25,51は同じ軸線30上にて対向配置されている。第2フィルドビア導体31は第1、第3フィルドビア導体25,51間に介在され、軸線30を基準としてコア基材12の主面13に沿った方向にシフトして配置されている。シフト量L1は、第1〜第3フィルドビア導体25,31,51の最大径D1以上に設定され、かつビア接続ランド35,55の最小幅W1以下に設定されている。 (もっと読む)


【課題】電子部品が埋設される厚膜の絶縁層に設けられるビアホールに容易に導電体を埋め込んで層間接続できる構造の電子部品内蔵基板を提供する。
【解決手段】第1配線層12を備えた被実装体5の上に電子部品41,42,43が実装され、電子部品41,42,43が絶縁層25に埋設され、導電性ボール30が絶縁層25を貫通して配置されて第1配線層12に電気的に接続されている。絶縁層25の上には導電性ボール30に電気的に接続された第2配線層14が形成され、導電性ボール30を介して第1配線層12と第2配線層14が層間接続されている。 (もっと読む)


【課題】配線の高密度化を容易に実現でき、しかも剥離やクラックの発生の抑制、充填材中の金属イオンの拡散防止、レーザ光による充填材の浸食防止を有利に実現できる多層プリント配線板を提供すること。
【解決手段】基板上に、層間樹脂絶縁層を介して導体回路が形成されてなり、該基板にはスルーホールが設けられ、そのスルーホールには充填材が充填された構造を有する多層プリント配線板において、前記層間樹脂絶縁層は、熱硬化性樹脂、熱可塑性樹脂、および熱硬化性樹脂と熱可塑性樹脂との複合体よりなる群から選択されるいずれか1種からなり、
前記スルーホールの直上には、充填材のスルーホールからの露出面を覆う導体層が形成されてなるとともに、前記スルーホールの内壁には、粗化層が形成されていることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】配線の高密度化を容易に実現でき、しかも剥離やクラックの発生の抑制、充填材中の金属イオンの拡散防止、レーザ光による充填材の浸食防止を有利に実現できる多層プリント配線板を提供すること。
【解決手段】基板上に、層間樹脂絶縁層を介して導体回路が形成されてなり、該基板にはスルーホールが設けられ、そのスルーホールには充填材が充填された構造を有する多層プリント配線板において、前記スルーホールの直上には、充填材のスルーホールからの露出面を覆う導体層が形成されてなり、当該導体層および当該導体層と同一平面内に位置する導体回路の全表面にはそれぞれ同一種類の粗化層が形成されているとともに、前記スルーホールの内壁には、粗化層が形成されていることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】 セラミック基板と樹脂層とを組み合わせた複合配線基板において、製造工程の簡略化を図るとともに、寸法精度や平面度の向上を図る。
【解決手段】 セラミック基板1と、セラミック基板1の少なくとも一方の面に接して設けられた樹脂層3と、樹脂層3を貫通する焼結金属導体6とを有する。複合配線基板を製造する方法は、収縮抑制効果を有するシートに形成した貫通孔に導電ペーストを充填して導体形成用シートを得る工程と、導体形成用シートと基板用グリーンシートとを重ね合わせた状態で焼成し、表面に焼結金属導体を有するセラミック基板を得る工程と、セラミック基板表面から収縮抑制効果を有するシートの焼成物を除去する工程と、セラミック基板表面に樹脂層を形成する工程とを有する。収縮抑制効果を有するシートとしては、収縮抑制用グリーンシート又は炭酸カルシウムを含むシートを用いることができる。 (もっと読む)


【課題】高温の熱履歴に対しても信頼性の高い層間接合部またはそれを有する多層配線板を提供する。
【解決手段】導体回路と、絶縁層と、前記絶縁層を貫通し前記導体回路上に形成された複数の導体ポストと、前記導体ポスト上面に前記絶縁層を突出して形成された半田層とを有する接続層と、前記半田層と相対する位置に層間接続用ランドを有する被接続層とを、金属接合接着剤層を介して、前記半田層が前記金属接合接着剤層と接触するように貼り合わせた後、加熱加圧して圧着し、前記導体ポストと前記層間接続用ランドとを金属接合して製造する多層配線板において、上記金属接合接着剤層として、シリカフィラーを20重量%以上80重量%以下含み、前記シリカフィラーの平均粒径が10nm以上3μm以下であり、かつ、前記導体ポストと前記層間接続用ランドの金属接合時の温度において、1mPa・s以上10Pa・s以下の粘度を有する金属接合接着剤を用いる。 (もっと読む)


【課題】本発明は、歩留まりを向上させることのできる電子部品内蔵基板及びその製造方法を提供することを課題とする。
【解決手段】第1の基板11の上方に第2の基板12を設け、第1の基板11と第2の基板12との間に電子部品13を配置して、第1の基板11と第2の基板12との間に、電子部品13を封止すると共に、第1の基板11と第2の基板とを接着する接着性を有した感光性樹脂14を設けた。 (もっと読む)


【課題】配線基板に内蔵させた場合における導通不良を低減させることが可能な配線基板内蔵用コンデンサ、及びこれを備えた配線基板を提供する。
【解決手段】配線基板内蔵用コンデンサ1は、積層された複数のセラミック層3と、互いに異なるセラミック層3間に配置された複数の内部電極層4,5と、セラミック層3間にかつ内部電極層4,5よりセラミック層3の外周側に、内部電極層4,5と所定の間隔をおいて配置されたダミー電極層12,13とを備えている。 (もっと読む)


【課題】 多数個取り用の大判基板の状態でキャスタレーション導体の全表面にメッキ処理を施すことができて分割性も良好な配線基板と、その製造方法を提供すること。
【解決手段】 大判基板27を分割して多数個取りされる配線基板11には、そのセラミック基板12の側面の切欠き13,14内にキャスタレーション導体15が設けられている。このキャスタレーション導体15には全表面にメッキ層17が被着されているが、切欠き13,14の幅方向両端と該側面との間にはそれぞれ切除部16が設けられているので、該側面とキャスタレーション導体15とは離隔している。つまり、配線基板11の製造過程でスルーホール23内の円筒状導体25を分断する分断孔26を設けることにより、キャスタレーション導体15の端面15aを分割ライン21,22よりも内側に位置させている。 (もっと読む)


【課題】 狭ピッチのスルーホールを形成することなく半導体チップやチップコンデンサなどを最短距離で配置することができ、しかも既存の確立された工程をそのまま利用して製造することのできる回路基板を提供すること。
【解決手段】 多層回路基板が、第1の電子部品のための少なくとも1つの電子部品搭載面と、その電子部品搭載面に対向する位置あるいはその近傍において機械加工により形成された、第2の電子部品のための少なくとも1つの電子部品搭載空間とを有しており、電子部品搭載空間の底壁には、多層回路基板の内部に組み込まれた配線層から形成された電子部品搭載端子が露出しているように、構成する。 (もっと読む)


【目的】 ビアの断面形状を、複数の相似形の一部が重なった形状とすることで、高密度化への阻害を少なくすると共に、効果的にビア断面積を増加させ、配線抵抗の上昇を防止することにより安定した半導体素子の動作を実現することができる配線基板及びその製造方法を提供する。
【構成】 複数の配線層11,13と、配線層11,13の間に設けられる絶縁層12と、絶縁層12に設けられ配線層11,13を電気的に接続するビア16とを有し、半導体素子又は電子部品を搭載する配線基板である。この配線基板において、配線層11,13に平行な面で得られるビア16の断面形状が、複数の相似形(円)の一部が重なったものである。 (もっと読む)


【課題】 基板表面の粗化が容易なコアレス配線基板の製造方法と、それによって得られるアンダーフィル材の流れ性が良好なコアレス配線基板を提供する。
【解決手段】 本発明のコアレス基板の製造方法は、補強基板3上に積層シート体SS(配線積層部L)を周知のビルドアップ法によって形成し、その後、配線積層部Lを補強基板3から剥離することで製造を容易とするものである。この際、Cu粗化処理によって表面が粗化された密着Cu箔4を用いていることから、これと密着して設けられる第1誘電体層B1の面(主面MP1)も十分な粗度を有するものとなる。 (もっと読む)


【課題】従来の複合多層基板の場合にはセラミックの積層体2には底面導体膜2Cや容量形成用導体膜2D等の導体膜やビア導体(図示せず)を導体パターンとして設けられているため、基板の焼成時に導体パターン用の導体材料の収縮量とセラミック材料の収縮量との間に差を生じ、積層体2に大きなうねり(高低差)を生じる。キャビティ構造を有する積層体2の場合には、キャビティ2Bのある部分と無い部分との間には収縮量に更に大きな差を生じてうねりが大きくなり、しかも近年の低背化で積層体2の薄層化によるうねりが顕著になって電子部品を実装する際の電子部品の姿勢が不安定になり、電子部品の実装が困難になる。
【解決手段】本発明の複合多層基板10は、樹脂部11とセラミック部12との積層構造でキャビティ10Aを有し、キャビティ10Aは、セラミック部12に形成された貫通孔12Bと、樹脂部11に形成された凹部11Bとから構成されている。 (もっと読む)


【課題】 耐熱性、電気絶縁性、放熱性、接続信頼性および化学的安定性を低下させることなく、層間絶縁層の耐ヒートサイクル性および実装信頼性を改善すること。
【解決手段】 基体上に形成され、硬化された樹脂中に燐片状粒子を分散してなるプリント配線板用層間絶縁層およびその層間絶縁層を有するプリント配線板を提供する。 (もっと読む)


モジュール式電子アッセンブリー、およびモジュール式電子アッセンブリーの製造方法が開示されている。主題のモジュール式電子アッセンブリーは、予備テストされたディスクリート受動素子をプリント配線板の本体内に組み込み、体積効率的な形で素子を電気的に接続することにより、そのようなプリント配線板上の使用可能な表面領域を最大化するように構築される。本開示されている主題に従って構築されるモジュール式電子アッセンブリーは、複数の異なる、予備テストされた受動素子を複数の銅/粘着性エポキシシート相互間で構成し、受動素子をエポキシ樹脂層によって所定位置で保持し、粘着性エポキシ層を電気的な貫通ビアによって部品を共に電気的に接続することによって形成される。開示されている技術によるモジュール式電子アッセンブリーは、能動部品および他の部品をプリント配線板の表面上に実装するために最大の使用可能な「スペース」を提供し、一方、同様の周知のプリント配線板を形成するために使用される鉛(Pb)の量を著しく低減する。
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【課題】 ループインダクタンスを低減できるプリント配線板及び該プリント配線板の製造方法を提供する。
【解決手段】 プリント配線板10内にチップコンデンサ20を配置するため、ICチップ90とチップコンデンサ20との距離が短くなり、ループインダクタンスを低減することができる。また、メタライズからなる電極21,22の表面に導電性ペースト26が塗布されてるため、電極21,22の表面の接続抵抗を低減でき、特に、表面の凹凸を無くすため、導電性接着剤34との密着性を高めることができる。 (もっと読む)


【課題】低誘電特性,低誘電損失に優れ、かつ、充分な機械的強度を備えた多層回路基板を提供する。
【解決手段】絶縁体層3と、上記絶縁体層3を保持する合金箔2と、複数の回路配線4とを備え、上記絶縁体層3と合金箔2とを貫通する電気導通路5を用いて回路配線4の各層が所定の位置で電気接続されている多層回路基板であって、上記絶縁体層3が多孔質の耐熱性材料で構成されている。 (もっと読む)


【課題】 ループインダクタンスを低減できるプリント配線板及びプリント配線板の製造方法を提供する。
【解決手段】 プリント配線板10内にチップコンデンサ20Aを配置するため、ICチップ90とチップコンデンサ20Aとの距離が短くなり、ループインダクタンスを低減することができる。また、厚いコア基板30内にチップコンデンサ20A、チップ抵抗20B、チップコイル20Cを収容するためプリント配線板を厚くすることがない。コア基板30内にチップ抵抗20B、チップコイル20Cを収容するため、プリント配線板の高集積化を実現できる。 (もっと読む)


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